JPH0260227U - - Google Patents

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JPH0260227U
JPH0260227U JP13870088U JP13870088U JPH0260227U JP H0260227 U JPH0260227 U JP H0260227U JP 13870088 U JP13870088 U JP 13870088U JP 13870088 U JP13870088 U JP 13870088U JP H0260227 U JPH0260227 U JP H0260227U
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JP
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reflected light
shutter
light intensity
exposure apparatus
projection exposure
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JP13870088U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による縮小投影露光装置の一実
施例を示す概念図、第2図は本考案の他の実施例
における縮小レンズとホトレジストとの配置関係
を示す図、第3図は従来の縮小投影露光装置の一
例を示す概念図、第4図はホトレジストの膜厚に
よる反射率の変化態様を示す図である。 1……光源、2……シヤツター、3……レチク
ル、4……縮小レンズ、5……ウエハー、6……
ステージチヤツク、9……ホトダイオード(反射
光強度測定手段)、10……反射光、11……シ
ヤツター開閉時間制御手段。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 光源の前方にシヤツターを設け、ステツプアン
    ドリピート方式でウエハーを露光するように成さ
    れた縮小投影露光装置において、 上記ウエハーからの反射光の強度を測定する反
    射光強度測定手段と、該反射光強度測定手段に得
    られる反射光強度測定信号に基づいて上記シヤツ
    ターの開閉時間を制御するシヤツター開閉時間制
    御手段とを設けたことを特徴とする縮小投影露光
    装置。
JP13870088U 1988-10-25 1988-10-25 Pending JPH0260227U (ja)

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JP13870088U JPH0260227U (ja) 1988-10-25 1988-10-25

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JPH0260227U true JPH0260227U (ja) 1990-05-02

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