JPH0334986A - セファロスポリン系化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は抗菌活性を有する新規なセファロスポリン系化
合物、その医薬として許容される塩又はエステル、それ
らを含有する抗菌剤、及びその製造法に関する。

（ロ）従来の技術及び 発明が解決しようとする課題 セファロスポリン系抗生物質はダラム陽性菌、クラム陰
性菌に対し幅広い抗菌活性を示し、すでに種々の半合成
セファロスポリン系化合物が市販され、各種感染性疾病
の治療剤として臨床的に用いられている。しかしなから
、これらの化合物の中て緑膿菌や変形菌に対して抗菌活
性を示す治療剤は数少ない。またこれらの化合物の多く
は耐性菌により産生されるβ−ラクタマーゼに対して不
安定であり、現在臨床上問題とされているダラム陽性菌
、緑膿菌に対する抗菌活性が低い等の欠点かある（Ｗ、
Ｅ、Ｗｉｃｋ、”Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｎｓ　ａｎ
ｄ　Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｎｓＣｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎ
ｄ　Ｂｉｏｌｏｇｙ”、Ｅ、Ｈ，Ｆｌｙｎｎ　ｇＡｃａ
ｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｎ、Ｙ、、１９７２．
第１Ｉ章）。

セフェム化合物の７位の置換分として、式 を有する化合物が知られている（特開昭６２−２７０５
８９号、同昭６３−９９，０７７号参照）。

（ハ）課題を解決するための手段 本願発明者らは既に特廓平１−１０６４４５号において
、セフェム環の７位におけろアミド側鎖の２−（２アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−置換オキシイミノアセ
トアミドのオキノム置換の部分に３．４ヒドロキノ−２
，５−ジクロロベンジル基を有する新規セファロスポリ
ン誘導体が広範囲の病原菌に対し強い活性を有すること
を見出している。今回更に前者の３．４−ヒドロキノ−
２５−ジクロロベンジル基の構造に着目し研究を発展さ
せた結果、式（］）で示されろ新規セフェム化合物か、
ダラム陽性菌、及びダラム陰性菌に対し幅広く強力な抗
菌活性を有しており、特に緑膿菌に対し極めて強い抗菌
活性を示すこと、さらに種々のβ−ラクタマーゼ産生菌
に対しても強い抗菌活性を示すこと、しかし低毒性てよ
く吸収されること等を見いだして本発明を完成した。

したがって本発明は、抗菌剤として有用な一般式（Ｉ） ［式中、Ｘ及びＹは共にハロケン原子、又は何れか一方
がハロゲン原子て他方が水素原子を表す。

Ｚは水素原子、ハロゲン原子、ビニル基、置換ビニル基
、低級アルコキノ基、低級アルキルチオ基、又はＣｌ−
１２ＢＣ式中Ｂは水素原子又は求核性残基）を表ず。］
で示されるセファロスポリン系化合物及びその薬理学上
許容される塩又はエステル並びにそれらを有効成分とし
て含有する抗菌剤を提供するものである。

セフェム７位の側鎖中には不斉炭素原子があるので、ラ
セミ体、光学活性体が存在するが何れも本願発明に含ま
れろ。

本発明の式（Ｉ）で示される化合物の薬理学上許容され
る塩としては、慣用の非毒性塩、例えばナトリウム塩、
カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルンウム塩、マクネ
ンウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、有
機塩基との塩類、例えばトリエチルアミン塩、ピリジン
塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジ
シクロヘキノルアミン塩等の有機アミン塩及びリジン、
オルニチン、アルギニンのような塩基性アミノ酸塩が挙
げられる。

上記一般式（Ｉ）において、ＸとＹおよびＺにおけるハ
ロゲン原子とは、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など
が挙げられる。好ましくは、塩素原子又はフッ素原子で
ある。より好ましくは塩素原子である。ＸとＹは、とも
にハロゲン原子であるか、何れか一方がハロケン原子て
他方が水素原子てあり、とらに塩素原子であるか、また
は一方が塩素原子で他方か水素原子であるのが好ましい
。

基Ｚにおける置換ビニル基としてはメヂルヒニル基、ハ
ロゲンメヂルヒニル基、低級アルコキンビニル基、低級
アルコキシメチルビニル基などが挙げられる。

基Ｚにおける低級アルコキン基としてはメトキン、エト
キン、プロポキシ、イソプロポキン、ブトキノおよびイ
ソブトキン基か挙げられる。また基Ｚにおける低級アル
キルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ、プロピ
ルチオ、イソプロピルチオ、メチルチオおよびイソメチ
ルチオ基が挙げられる。

基ＣＨ２ＢのＢにおける求核性残基には、アセトキン基
、カルバモイルオキン基、ハロゲン原子、任意に置換さ
れていてもよい芳香族複素環チオ基、低級アルキルチオ
基、低級アルコキノ基、１級、２級らしくは３級アミノ
基、又は少なくとも１つの窒素原子を含有しかつ窒素原
子を介してメチレン基に結合ずろ複素環基か含まれる。

ハロゲン原子は、Ｘ、Ｙにおけるハロケン原子と同様な
ものか挙げられる。任意に置換されていてもよい芳香族
複素環チオ基における芳香族複素環基は、窒素原子、硫
黄原子及び酸素原子の少なくとも１つの異原子を含有す
る５員環又は６員環が含まれる。

より具体的には、チアゾール、イソチアゾール、チアノ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、ビリノン、ピ
リミジン、ピリダジノ、オキサゾール、イミダゾール、
ピラゾール、オキサジアゾール、イソオキサゾール、ピ
リダジン、トリアジノなどが含まれる。これらの芳香族
複素環基の置換置としては、メチル、エチル、プロピル
のような低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素のような
ハロゲン原子、アミノ基、ンアノ基、カルボキンメチル
基なとが挙げられる。低級アルキルチオ基には、メチル
チオ、エチルチオ、プロピルチオなどが含まれる。低級
アルコキノ基には、メトキン、エトキノ、プロポキノな
どが含まれる。１級、２級らしくは３級アミノ基には、
低級アルキル基らしくはヘンノルのようなアラルキル基
がｌ　ｆｌＵ及至３個置換され７こアミノ基、例えばメ
ヂルアミノ、エヂルアミノ、ソメヂルアミノ、トリエチ
ルアミン、メチルヘンノルアミノなとか含まれる。少な
くとも１つの窒素原子を含有しかつ窒素原子を介してメ
チレン基と結合する複素環基としては、上記の芳香族複
素環の例示中の窒素原子を含有するものが挙げられる。

これらの複素環基は、メチル、エチルのような低級アル
キル基、塩素、臭素、フッ素のようなハロゲン原子、ア
ミノ基、ソアノ基などで置換されていてらよい。

本発明の化合物（Ｉ）は次に示す方法によって製造する
ことかできる。

すなわち次式（ＩＩ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルホキノル基の保護基、
Ｚは式（Ｉ）における定義と同し）、て＝８ 示される化合物もしくはそれらのアミノ基における反応
性誘導体又はそれらの塩に、次式（ｌｌ’ｌ）［式中、
Ｒ３はヒドロキノ保護基、、Ｒ２は水素原子又はアミノ
基の保護基；ｘ、ＹおよびＲ３は前記の定義と同一］て
示される化合物もしくはそのカルホキノル基における反
応性誘導体又はそれらの塩を反応せしめることによって
製造てきる。

化合物（ＩＩ）のアミノ基における反応性誘導体の適当
な例としては、化合物（Ｉｔ）とアルデヒド、ケトンな
どのようなカルボニル化合物との反応によって生成した
ンッフ塩基型のイミノ又はその互変異性であるエナミン
型異性体１化合物（ＩＩ）とビス（トリメチルシリル）
アセトアミドなどのようなソリル誘導体１化合物（ｎ）
と三塩化リン又はホスゲンとの反応によって生成した誘
導体などが挙げられる。

化合物（ＩＩ）および（ＩＩ）の適当な塩としては、有
機酸との塩（たとえば酢酸、マレイノ酸塩、層石酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルポン酸塩など）又
は無機酸との塩（７コとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫
酸塩、リン酸塩なと）のような酸付加塩１アルカリ金属
塩またはアルカリ土類金属塩（たとえばナトリウム塩、
カリウム塩、カルシウム塩、マグネノウム塩なと）のよ
うな金属塩アンモニウム塩、有機アミン塩（たとえばト
リエチルアミン塩、ジノクロヘキンルアミン塩なと）な
どが挙げられる。

化合物（ＩＩＩ）のカルボキシル基における反応性誘導
体の適当な例としては、酸ハロゲン化物、酸アジド、酸
無水物、活性アミド、活性エステルなとがあげられ、さ
らに詳細には、酸塩化物、酸臭化物、置換リン酸（たと
えばノアルキルリン酸、ジヘンノルリン酸、ハロケン化
リン酸など）、ンアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸
、硫酸、炭酸アルキル（たとえば炭酸メチル、炭酸エチ
ルなと）、ＩＱ 脂肪層カルボン酸（たとえばピバリン酸、吉草酸、イソ
吉草酸、２−エチル酢酸、トリクロロ酢酸など）又は芳
香族カルボン酸（たとえば安息香酸なと）のような酸と
の混合酸無水物、イミダゾール、ジメチルピラゾール、
トリアゾール又はテトラゾールとの活性アミド：又は活
性エステル（たとえばノアノメチルエステル、メトキシ
メチルエステル、ノンチルイミノメチル［（ＣＨ３）２
Ｎ＝ＣＨ−コニステル、ビニルエステル、プロパギルエ
ステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−ジニト
ロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペ
ンタクロロフェニルエステル、メノルフェニルエステル
、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステ
ル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−タレジルチ
オエステル、カルボキノメチルチオエステル、ピラニル
エステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８
−キノリルヂオエステルなど）、もしくはＮ−ヒドロキ
ン化合物（たとえば、Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドロキンアミ
ン、１−ヒドロキノ−２−（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒ
ドロキノフタルイミド、Ｎ−ヒドロキノフタルイミド、
１−ヒドロキノ−６−クロロＩＨ−ヘンシトリアゾール
など）とのエステルなどが挙げられる。これらの反応性
誘導体は使用すべき反応剤化合物（ＩＩＩ）の種類によ
って適宜選択される。

本発明の原料物質である式（ＩＩＩ）の化合物、例えば
その代表例として下式（Ａ） で示される１（２−トリチルアミノデアゾール４−イル
）−２（Ｚ）−ジフェニルメチルオキノカルボニル（３
，４−ジアセトキン−２，５−ジクロロフェニル）メチ
ルオキンイミノ酢酸は次のような方法で合成することが
てきる。

マス、３．４−ジヒドロキンフェニル酢酸に、塩化スル
フリルを反応させて３．４−ジヒドロキン−２，５ジク
ロロフエニル酢酸（ａ）を生成させ、次にこの（ａ）に
無水酢酸を反応させて３．／Ｉ−ジアセトキン２．５−
ジクロロフェニル酢酸（ｂ）を得る。得られた（ｂ）に
Ｐｃｔ、の存在下臭素を反応させて、（３，４ジアセト
キン−２，５−ジクロロフェニル）ブロモ酢酸（Ｃ）と
する。次いで（ｃ）にジフェニルンアゾメタンを反応さ
せて、３．４−ジアセトキノ−２５−ジクロロフェニル
）ブロモ酢酸ノフェニルメチル（ｄ）とする。次にこの
（ｄ）にＤＭＦ中に２Ｃｏ、の存在下、（２１−ジチル
アミノチアゾール−４−イル）ヒドロキノイミノ酢酸ア
リルを反応さけて２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−ンフェニルメチルオキノカル
ポニル（３４−’）アセトキノ−２，５−ジクロロフェ
ニル）メチルオキンイミノ酢酸アリル（ｅ）を得る。次
いで（ｅ）をＰｄ［（ｃｓＨａ）＋ｐ］によって脱アリ
ル化させて、上記式（Ａ）の化合物が得られる。

化合物（ｎ）と（ＩＩＩ）との反応は、通常、水、アセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩
化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ
−ノメチルホルムアミト、ビリノンのような慣用ｍＷ又
はこの反応に悪影響を巧えない他の有機溶媒中で行われ
る。これらの溶媒は水と混合して使用してもよい。

この反応に於いて、化合物（ＩＩＩ）を遊離酸の形又は
塩の形で使用する場合、縮合剤としては、たとえばＮ、
Ｎ′−ジノクロへキノルカルボジイミドＮ−ノクロへキ
ンルーＮ′−モルホリノエチルカルボノイミト、Ｎ−ク
ロロへキンルーＮ”（４ノエチルアミノンクロヘキソル
）カルホノイミト：Ｎ、Ｎ′−ノエチルカルボノイミト
　Ｎ　　Ｎ′ジイソプロピルカルボジイミド　Ｎ−エチ
ルＮ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド；Ｎ、Ｎ−カルボニルビス（２−ステルイミダゾール
）、ペンタメチレンケテン−Ｎ−ソクロヘキンルイミン
：ジフェニルケテンーＮ−ノクロヘキノルイミン；エト
キノアセチレン　１−アルコキノ−■−クロロエチレン
、亜リン酸トリアルキル、ポリリン酸エヂル、ポリリン
酸イソプロピル、オキソ塩化リン、酸塩化リン、塩化チ
オニル塩化オキザリル：トリフェニルホスフィン、２エ
チル−７−ヒトロキノベンズイツキザゾリウム塩、２−
エチル−５−（ｍ〜スルホフェニル）イソキザゾリウム
ヒドロキノド分子内塩、１クロロベンゼンスルホニルオ
キン）−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール、ジメ
チルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、オキン塩
化リンなどとの反応によって得られるいわゆるヴイルス
マイヤー試薬などが挙げられる。

この反応は、また無機塩基又は有機塩基の存在下に行な
ってもよく、このような塩基の例としては、炭酸水素ア
ルカリ金属（たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウムなど）、炭酸アルカリ土類金属（たとえば炭酸カ
ルシウムなど）、トリ（低級）アルキルアミン（たとえ
ばトリエチルアミン、トリメチルアミンなど）、ビリノ
ン、Ｎ（低級）アルキルモルホリン、Ｎ、Ｎ−ノ（低級
）−アルキルベンノルアミンなとか挙げられる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常、冶却（ｐ 下ないし加温下に行われる。

又一般式（ＩＶ） ［式中、；　Ｘ、Ｙ、Ｒ１，Ｒｖ、Ｒｏ、およびＺは前
記定義と同一］で示される化合物に求核性化合物を反応
せしめ、次いで必要てあれば保護基を除去することによ
っても、一般式（］）の化合物を製造することが可能で
ある。またＺ基がアセトキシメチル基の場合、後で複素
環メルカプタンと反応させて複素環チオメチル誘導体に
変えてもよい。

これらの方法により得られる生成物は、本発明の目的化
合物（Ｉ）であるか、又は目的化合物（Ｉ）のアミノ基
、カルボキシル基並びにフェノール性の水酸基の保護体
であり、従って必要により常法にてそれぞれの保護基の
除去を行なう。カルボキンル保護基及びアミン保護基の
除去の方法は脱離される保護基の種類により適宜選択さ
れる。アミノ保護基の脱離反応には加水分解、還元及び
保護基カアノル基である化合物に灯してはイミノハロゲ
ン化剤、次いてイミノエーテル化剤を作用させた後、必
要に応して加水分解する方法等の慣用される任意の方法
を適用てきる。酸を用いた加水分解の方法は一般的な方
法に−っであり、たとえばアルコキノカルボニル基、ホ
ルミル基、トリチル基等の基の脱離に適用される。また
使用される酸としては、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸
等がアミノ保護基の種類に応じて適宜選択される。反応
は無溶媒下又は水、親水性有機溶媒もしくはそれらの混
合溶媒の存在下のいずれでも行なうことがてきる。また
トリフルオロ酢酸を用いる場合はアニソールの存在下に
反応を行ってもよい。カルボキンル保護基の脱離反応に
は加水分解、還元等慣用される任意の方法を適用できる
。酸を用いた加水分解は一般的方法の一つであり、たと
えばノリル基、ｐ−メトギシベンジル基、ジフェニルメ
チ１フ ル基等の脱離に適用される。フェノール性の水酸基の保
護基の脱離反応についても加水分解、還元等慣用される
任意の方法が適用できる。酸あるいは塩基を用いた加水
分解は一般的方法の一つであり、例えばｐ−メトキンヘ
ンンル乱、ノフェニルメチル基等の脱離には酸が、アセ
チル基、ヘンジイル基等のアンル基の脱離に塩基が適用
される。

以上のようにして得られた一般式（Ｉ）の化合物は反応
廃合物中より常法により採取される。

例えば、アンバーライトＩＡＩ）−２（ロームアンドハ
ース社製）、ダイアイオントＩＰ−２０又はセパピーズ
５Ｐ２０７　（三菱化成（株）製）等の吸着製レンジに
よる精製、比殿広、結晶化法等を適宜組合せることによ
り遠戚される。

一般式（Ｄで示される化合物又はその塩を主成分として
含有する抗菌剤は、主として静圧、筋注等の注射剤、カ
プセル剤、錠剤、散剤等の経口剤もしくは直腸投与剤、
油脂性座薬、水溶性座薬等の種りの剤形で使用される。

これらの＠種製剤は通常用いられている賦形剤、増量剤
、結合剤、湿８ 間化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、分散剤、緩衝剤
、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯臭剤、無庸化剤
等を用いて常法により製造することができる。製剤法の
具体例は後記の実施例によってさらに詳述に説明する。

投与量は症状や年令、性別等を考慮して、個々の場合に
応じて適宜決定されるが、通常成人１日あたり２５０〜
３０００胛２であり、これを１日１−４回に分けて投与
する。

（ニ）実施例 本発明は、更に以下の参考例及び実施例で詳しく説明さ
れるか、これらは本発明を限定するものてはなく、本発
明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形及び修正か可能
であることは言うまでも無い。

なお、実施例中のＮ　Ｍ　Ｒデータは断りのない限り９
０ＭＨｚを用い、重水中の場合は、水のピークをδ値４
８２とした時のδ値を示し、他の重溶媒の場合には、Ｔ
ＭＳを基準とした時のδ値を示した。

９ 実施例−１ ’ｌ−［ｉ　（２−１−ジチルアミノチアゾール−４イ
ル）−２（Ｚ）−ノフェニルステルオキノカルボニル（
３４−ジアセトキノ−２，５−ノクロロフェニル）ステ
ルオキンイミノアセトアミト］−３（Ｉ，２，３−デア
ジアゾール−５−イル）チオメチル３−セフェム−４−
カルボン酸−ｐ−メトキノヘンシルエステルの合成 １（２−）リチルアミノチアゾールー４−イル）２（Ｚ
）−ノフェニルステルオキノカルボニル（３，４−ジア
セトキシ−２，５−ジクロロフエニル）メチルオキソイ
ミノ酢酸４００ｍｇ及び７−アミノ−３（［，２，３−
チアノアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸−ｐ−メトキノヘンノルエステル２９
０朽を塩化メチレン２０ｍＱに０ 加え溶解し一２０℃に冷却する。この溶液にピリノン２
００ｍｇを加え、更にオキノ塩化リン８４　ｍｇを加え
一■５℃て２時間反応する。反応終了後、酢酸エテル１
ｏｏｘｆフ１５ 合溶媒中に注ぎ、冷却下７％炭酸水素ナトリウム水でｐ
　Ｈを７，０に調整ずろ。有機層を分取し更に１５％食
塩水て洗浄する。無水ＭｇＳＯ４で乾燥し減圧下溶媒を
留去する。残虐をカラムクロマトグラフィ（和光ゲルＣ
−３００　　１００ｇ展開溶媒ＣＨＣＩ３−ＭｅＯ１１
・３０：１）で精製し表題の化合物のノアステレオマ−
１　１の鹿合物を得る。

ｒ　Ｒ　（ｎｕｊｏｌ）　３３００．１７８０ｃｍＮＭ
Ｒ　（ＣＤＣｌ２，δ） ２、１５−２．２５（Ｉ２Ｈ．ｓｘ４，０Ａｃｘ４）、
３．１０−３．３５（４Ｈ，ｍ２位Ｃｔ１２ｘ２）　３
．８０（６ｈ　ｓ，０Ｃ１ｉ３ｘ２）、３．８−３．９
，４．２５４　、　４　０　（ＡＢｑ　Ｘ　２　、　３
位Ｃｌ２Ｘ　２）、４．９０．４．９５（２Ｈ．ｄＸ　
２，Ｊ＝５Ｈｚ．　１ｌ−６ｘ　２）　、　５．８０（
２Ｈ．ｄ，ｄ　ｘ　２　、　Ｊ−５．　９ｔｌｚｊ＋−
７　Ｘ　２）６、０５．６．１５（２１（、ｓＸ　２　
ＣＨＸ　２）、６．８０−７．４０（５８Ｈ，ｍＰｈ．
ＮＨｘ　２，ＣＰｈ，　ｘ　２，チアゾール環プロトン
×２）８、１０（２Ｈ．ｄＸ　２，Ｊ：８Ｈｚ，Ｃ０Ｎ
ＨＸ　２）、８．４０．８．４５（２Ｈ．ｓＸ２デアジ
アゾール環プロトン） 実施例−２ ？−　［２−　（２−アミノチアゾール−４−イル）２
（Ｚ）−カルボキノ（３．４−ノヒトロキノー２．５ノ
クロロフェニル）メチルオキンイミノアセトアミドコ−
３−（Ｉ．、２．３−チアンアゾール−５−イル）チオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸の合成Ｉ 実施例−１で得られた化合物２００Ｍをアニソール０、
５岬に溶解し水冷する。これにトリフロロ酢酸２ｍＱを
加え、水冷下１時間撹拌する。反応終了後、イソプロピ
ルエーテル５０叶を加え、析出する表題化合物のトリフ
ロロ酢酸塩を濾取し乾燥する。このものを水１ｘ（７に
懸濁し水冷下７％炭酸水素ナトリウム溶液てｐ　Ｈを７
．２に調整し溶液とする。この溶液をＩ　Ｐ　−　２　
０のカラムクロマトグラフィ（溶離液、水、５％メタノ
ール水）で精製し溶出液を減圧下農縮しメタノールを除
去する。得られた水溶族を凍結乾燥し表題の化合物をジ
ナトリウム塩として５８ｍｇを得る。

！　Ｒ（ｎｕｊｏｌ）　３３００１７７０ｃｍＮＭｒ（
（Ｄ２０．δ） ３、＋５．３．５８（４）１．ＡＢＱＸ　２．２位ＣＨ
２Ｘ２）、３．９０−３．９５４．２５−４．４０（４
Ｈ，ＡＢＱＸ　２．３位ＣＨ２Ｘ２）、５．０５（２Ｈ
ｄＸ２　＋１６ｘ　２）、５．４２（２Ｈ，ｓｘ　２．
Ｃｌ１ｘ　２）、５．６５（２Ｈ，ｄＸ　２．Ｈ−７ｘ
　２）６．９０−７．１０（４Ｈ，ｓｘ　４．チアゾー
ル環プロトン×２環プロトンｘ　２）、８．７５（２Ｈ
，ｓＸ　２．チアジアゾール環プロトン） 上記実施例２の化合物のダラム陽性菌およびダラム陰性
菌に対する最小発育阻止濃度を測定（寒天希釈法）した
結果を第１表に示す。

（以下余白） 第１表　最小発育阻止濃度（ＭＩＣ） 試験細菌　　　　　　ＭＩＣ ３ｔ、ａｕｒｅｕｓ　Ｓｍ１ｔｈ（Ｉ）　　　　　　０
．２０Ｓｔ、ｅｐｉｄｅｒｍｉｄｉｓ　　　　　　　　
Ｏ，３９ＡＴＣＣ１４９９０ Ｂ、５ｕｂｔｉｌｉｓ　　　　　　　　　１．５８ＡＴ
ＣＣ６８３３ Ｅ、ｃｏｌｉ　ＮＩＩＩＪ　ＪＣ−２０，２０Ｐ、ｍ１
ｒａｂｉｌｉｓ　ＧＮ３１０　　　　　０．０５に、ｐ
ｎｅｕｍｏｎｉａｅ　ＧＮ１１８　　　　　０．０５Ｓ
、ｔｙｐｈｉｍｕｒｉｕｍ　ＬＴ−２０，１０Ｅ、ｃｌ
ｏａｃａｅ　Ｇ−０００５０，３９Ｓ、ｍａｒｃｅｓｃ
ｅｎｓ　ＧＮ６２９　　　　　０．３９Ｐ、ａｅｒｕｇ
ｉｎｏｓａ　ＧＮ１０８５７　　　　　０．７８Ｐ、ａ
ｅｒｕｇｉｎｏｓａ　Ｍ−０１４８０，３９（ホ）発明
の効果 この発明によれば、ダラム陽性及び陰性菌に対して優れ
た抗菌性を有する抗生物質が得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｘ及びＹは共にハロゲン原子、又は何れか一方
   がハロゲン原子で他方が水素原子を表す。 ；Ｚは水素原子、ハロゲン原子、ビニル基、置換ビニル
   基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、又はＣＨ
   ＿２Ｂ（式中Ｂは水素原子又は求核性残基）を表す。］
   で示されるセファロスポリン系化合物及びその薬理学上
   許容される塩又はエステル。 ２、請求項１に記載の化合物を有効成分として含有する
   ことからなる抗菌剤。