JPH0335726B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0335726B2 JPH0335726B2 JP57185667A JP18566782A JPH0335726B2 JP H0335726 B2 JPH0335726 B2 JP H0335726B2 JP 57185667 A JP57185667 A JP 57185667A JP 18566782 A JP18566782 A JP 18566782A JP H0335726 B2 JPH0335726 B2 JP H0335726B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- magnetic
- thin film
- metal thin
- magnetic coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高分子成形物基板上に磁性塗膜層と強
磁性金属薄膜層の２層構造を有する磁気記録媒体
およびその製造方法に関する。
磁性金属薄膜層の２層構造を有する磁気記録媒体
およびその製造方法に関する。
従来例の構成とその問題点
近年、オーデイオ分野、ビデオ分野における磁
気記録媒体の高性能化はめざましいものがある。
気記録媒体の高性能化はめざましいものがある。
第１図は高分子成形物基板３上に磁性塗膜層１
と強磁性金属薄膜層２を形成した２層構造を有す
る磁気記録媒体を示し、低周波数特性は磁性塗膜
層１に、そして高周波数特性は強磁性金属薄膜層
２に依存させるようにしたもので、これは非常に
優れた周波数特性が得られるが、しかし、本発明
者がこの磁気記録媒体を製造しようとしたとこ
ろ、種々の困難があることが判明した。すなわ
ち、強磁性金属薄膜層２をメツキ法で形成する場
合は問題はないが、真空蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイング等の真空中で高融点金属で
ある強磁性金属の薄膜を工業的レベル（成膜速度
500Å／sec以上）で形成する場合、2000℃以上と
なる蒸発源からの輻射熱や蒸着金属の蒸発潜熱が
大きいために磁性塗膜層１が損焼したり、磁気特
性が劣化したり、また磁性塗膜層１の成分が熱に
より劣化して特性の優れた強磁性金属薄膜層２が
得られないということが判明した。
と強磁性金属薄膜層２を形成した２層構造を有す
る磁気記録媒体を示し、低周波数特性は磁性塗膜
層１に、そして高周波数特性は強磁性金属薄膜層
２に依存させるようにしたもので、これは非常に
優れた周波数特性が得られるが、しかし、本発明
者がこの磁気記録媒体を製造しようとしたとこ
ろ、種々の困難があることが判明した。すなわ
ち、強磁性金属薄膜層２をメツキ法で形成する場
合は問題はないが、真空蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイング等の真空中で高融点金属で
ある強磁性金属の薄膜を工業的レベル（成膜速度
500Å／sec以上）で形成する場合、2000℃以上と
なる蒸発源からの輻射熱や蒸着金属の蒸発潜熱が
大きいために磁性塗膜層１が損焼したり、磁気特
性が劣化したり、また磁性塗膜層１の成分が熱に
より劣化して特性の優れた強磁性金属薄膜層２が
得られないということが判明した。
一方、仮の基板上に強磁性金属薄膜層を先に形
成し、その上に磁性塗膜層を形成した後に、真の
基板上に前記２層の磁性層をはく離、転写する製
造方法も提案されているが、これは工程数が多く
実用化には適さないものであつた。
成し、その上に磁性塗膜層を形成した後に、真の
基板上に前記２層の磁性層をはく離、転写する製
造方法も提案されているが、これは工程数が多く
実用化には適さないものであつた。
発明の目的
本発明は上記従来の問題点を解消するもので、
低周波数特性、高周波数特性いずれにも優れた磁
気記録媒体を工業的レベルで提供することを目的
とする。
低周波数特性、高周波数特性いずれにも優れた磁
気記録媒体を工業的レベルで提供することを目的
とする。
発明の構成
本発明は高分子成形物基板上に磁性粒子をバイ
ンダーにて分散塗布した磁性塗膜層を設け、その
上に真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタ
リング等の真空技術で強磁性金属薄膜を設けた磁
気記録媒体であり、磁性塗膜層の表面固有抵抗を
1011Ω／口以上とすることにより、磁性塗膜層に
熱的ダメージを与えることなく、真空蒸着、イオ
ンプレーテイング、スパツタリング等の真空技術
で強磁性金属薄膜層が工業的レベルで形成できる
ようにしてものである。
ンダーにて分散塗布した磁性塗膜層を設け、その
上に真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタ
リング等の真空技術で強磁性金属薄膜を設けた磁
気記録媒体であり、磁性塗膜層の表面固有抵抗を
1011Ω／口以上とすることにより、磁性塗膜層に
熱的ダメージを与えることなく、真空蒸着、イオ
ンプレーテイング、スパツタリング等の真空技術
で強磁性金属薄膜層が工業的レベルで形成できる
ようにしてものである。
実施例の説明
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
＜実施例 １＞
Co含有磁性酸化鉄 100部
ポリウレタン樹脂 15部
ニトロセルロース樹脂 ５部
レシチン ２部
トルエン 80部
メチルエチルケトン 80部
メチルイソブチルケトン 80部
なお、成分比の割合は全て重量比で示してい
る。上記組成物をボールミルで48時間混合分散し
て磁性塗料を調製し、この磁性塗料を厚み12μm
のポリエステフイルムからなる高分子成形物基板
３上に乾燥厚みが6μmとなるように塗布、乾燥、
平滑化して磁性塗膜層１を形成する。上記磁性塗
膜層１の表面固有抵抗は1014Ω／口であつた。次
にこの磁気フイルムを第２図に示すように真空蒸
着装置４内に装填し、冷却キヤン７に巻付けられ
て走行される磁性塗膜層１の上に排気装置５によ
り設定した５×10-5torrの酸素雰囲気中でCo−
Ni合金からなる蒸着源８に電子ビーム発生源６
からビームを当てて1000Å／secの成膜速度で
0.1μmの強磁性金属薄膜層２を形成し、２種類の
磁性層を有する磁気記録媒体を得た。
る。上記組成物をボールミルで48時間混合分散し
て磁性塗料を調製し、この磁性塗料を厚み12μm
のポリエステフイルムからなる高分子成形物基板
３上に乾燥厚みが6μmとなるように塗布、乾燥、
平滑化して磁性塗膜層１を形成する。上記磁性塗
膜層１の表面固有抵抗は1014Ω／口であつた。次
にこの磁気フイルムを第２図に示すように真空蒸
着装置４内に装填し、冷却キヤン７に巻付けられ
て走行される磁性塗膜層１の上に排気装置５によ
り設定した５×10-5torrの酸素雰囲気中でCo−
Ni合金からなる蒸着源８に電子ビーム発生源６
からビームを当てて1000Å／secの成膜速度で
0.1μmの強磁性金属薄膜層２を形成し、２種類の
磁性層を有する磁気記録媒体を得た。
＜実施例 ２＞
前記実施例１の組成にカーボンブラツク３部を
追加して実施例１と全く同じ手順で磁性塗膜層１
を形成した。この磁性塗膜層１の表面固有抵抗は
1011Ω／口であつた。次いで実施例１と同様に磁
性塗膜層１の上に強磁性金属薄膜層２を形成しよ
うとしたところ、磁性塗脂層１の一部に熱ダメー
ジによる損傷が生じたので成膜速度を500Å／sec
として0.1μmの強磁性金属薄膜層２を形成した。
追加して実施例１と全く同じ手順で磁性塗膜層１
を形成した。この磁性塗膜層１の表面固有抵抗は
1011Ω／口であつた。次いで実施例１と同様に磁
性塗膜層１の上に強磁性金属薄膜層２を形成しよ
うとしたところ、磁性塗脂層１の一部に熱ダメー
ジによる損傷が生じたので成膜速度を500Å／sec
として0.1μmの強磁性金属薄膜層２を形成した。
＜実施例 ３＞
前記実施例１の組成にカーボンブラツク６部を
追加して実施例１と全く同じ手順で磁性塗膜層１
を形成した。この磁性塗膜層１の表面固有抵抗は
109Ω／口であつた。次いで実施例１と同様に強
磁性金属薄膜層２を形成しようとしたが、磁性塗
膜層１の熱ダメージによる損傷が大きく、成膜速
度を100Å／secまで落さざるを得なかつた。
追加して実施例１と全く同じ手順で磁性塗膜層１
を形成した。この磁性塗膜層１の表面固有抵抗は
109Ω／口であつた。次いで実施例１と同様に強
磁性金属薄膜層２を形成しようとしたが、磁性塗
膜層１の熱ダメージによる損傷が大きく、成膜速
度を100Å／secまで落さざるを得なかつた。
なお、成膜速度の調整は蒸発源と基板との距
離、蒸発エネルギー、蒸発体の面積、基板の移動
速度等により行なつた。
離、蒸発エネルギー、蒸発体の面積、基板の移動
速度等により行なつた。
以上の各実施例から磁性塗膜層１の表面固有抵
抗を大きくすることによつて、その磁性塗膜層１
に熱的な損傷を与えることなく、真空蒸着等によ
る方法で強磁性金属薄膜層２を工業的レベルで形
成できるものである。即ち、磁性塗膜層１の表面
固有抵抗を大きくすることにより真空技術による
金属薄膜層形成時に基板（本発明の場合は高分子
成形物基板上に磁性塗膜層を形成したもの）が巻
戻される時のはく離帯電、走行時の摩擦帯電、ま
た電子ビームが打ち込まれることでこの基板がエ
レクトレツト化又はチヤージアツプ化され、これ
によつてこの基板と冷却キヤン７が吸引し合つて
この冷却キヤン７へ密着力が極めて大きくなり、
基板の冷却が有効に行なわれ、これにより磁性塗
膜層１の熱的損傷が防止されるもので、その結果
として工業的レベルの成膜速度で強磁性金属薄膜
層２の形成が可能となつたものである。そして特
に、10μm以上の厚い基板の場合に本発明は効果
的である。
抗を大きくすることによつて、その磁性塗膜層１
に熱的な損傷を与えることなく、真空蒸着等によ
る方法で強磁性金属薄膜層２を工業的レベルで形
成できるものである。即ち、磁性塗膜層１の表面
固有抵抗を大きくすることにより真空技術による
金属薄膜層形成時に基板（本発明の場合は高分子
成形物基板上に磁性塗膜層を形成したもの）が巻
戻される時のはく離帯電、走行時の摩擦帯電、ま
た電子ビームが打ち込まれることでこの基板がエ
レクトレツト化又はチヤージアツプ化され、これ
によつてこの基板と冷却キヤン７が吸引し合つて
この冷却キヤン７へ密着力が極めて大きくなり、
基板の冷却が有効に行なわれ、これにより磁性塗
膜層１の熱的損傷が防止されるもので、その結果
として工業的レベルの成膜速度で強磁性金属薄膜
層２の形成が可能となつたものである。そして特
に、10μm以上の厚い基板の場合に本発明は効果
的である。
なお、基板のエレクトレツト化又はチヤージア
ツプ化は荷電粒子の打込み等の公知のいずれの手
段によつてもよいし、積極的に真空容器内に基板
のエレクトレツト化、チヤージアツプ化の機構を
配設してもよい。また上記の例で磁性塗布層１の
表面に非磁性金属や有機物質等からなる下地層を
形成しても同様である。
ツプ化は荷電粒子の打込み等の公知のいずれの手
段によつてもよいし、積極的に真空容器内に基板
のエレクトレツト化、チヤージアツプ化の機構を
配設してもよい。また上記の例で磁性塗布層１の
表面に非磁性金属や有機物質等からなる下地層を
形成しても同様である。
上記実施例１，２で得られた磁気記録媒体を20
〜20000Hzの周波数帯域で最大出力を測定したと
ころ、市販の二層塗布型テープよりも１〜5dB高
い値が得られ、特に高周波特性の改善効果が顕著
であつた。
〜20000Hzの周波数帯域で最大出力を測定したと
ころ、市販の二層塗布型テープよりも１〜5dB高
い値が得られ、特に高周波特性の改善効果が顕著
であつた。
発明の効果
以上のように本発明は磁性塗膜層の表面固有抵
抗を1011Ω／口以上と大きくすることにより、磁
性塗膜層に実質的熱的損傷を与えることなくその
上に真空蒸着等の方法で強磁性金属薄膜層を工業
的レベルの成膜速度で形成することができ、これ
により低周波数特性、高周波数特性のいずれにも
優れた磁気記録媒体を実現できるものである。
抗を1011Ω／口以上と大きくすることにより、磁
性塗膜層に実質的熱的損傷を与えることなくその
上に真空蒸着等の方法で強磁性金属薄膜層を工業
的レベルの成膜速度で形成することができ、これ
により低周波数特性、高周波数特性のいずれにも
優れた磁気記録媒体を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の断
面図、第２図は真空蒸着装置を示す概略図であ
る。 １……磁性塗膜層、２……強磁性金属薄膜層、
３……高分子成形物基板、４……真空蒸着装置、
５……排気装置、６……電子ビーム発生源、７…
…冷却キヤン、８……蒸着源。
面図、第２図は真空蒸着装置を示す概略図であ
る。 １……磁性塗膜層、２……強磁性金属薄膜層、
３……高分子成形物基板、４……真空蒸着装置、
５……排気装置、６……電子ビーム発生源、７…
…冷却キヤン、８……蒸着源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高分子成形物基板上に表面固有抵抗が1011
Ω／口以上の磁性塗膜層を設け、その上に真空中
で強磁性金属薄膜層を形成したことを特徴とする
磁気記録媒体。 ２ 高分子成形物基板上に磁性粉、バインダー、
分散剤等からなる表面固有抵抗が1011Ω／口以上
となる磁性塗料を塗布し、さらにその上に真空中
で強磁性金属薄膜を成膜速度500Å／sec以上で形
成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57185667A JPS5975433A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57185667A JPS5975433A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5975433A JPS5975433A (ja) | 1984-04-28 |
| JPH0335726B2 true JPH0335726B2 (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=16174758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57185667A Granted JPS5975433A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5975433A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5584043A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-10-21 JP JP57185667A patent/JPS5975433A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5975433A (ja) | 1984-04-28 |
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