JPH0336204B2 - - Google Patents
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- JPH0336204B2 JPH0336204B2 JP57126859A JP12685982A JPH0336204B2 JP H0336204 B2 JPH0336204 B2 JP H0336204B2 JP 57126859 A JP57126859 A JP 57126859A JP 12685982 A JP12685982 A JP 12685982A JP H0336204 B2 JPH0336204 B2 JP H0336204B2
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- Japan
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- developer
- film
- photographic
- replenisher
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- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/30—Developers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/31—Regeneration; Replenishers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真ハロゲン化銀現像溶液およびそれ
に対する補給物に関し、そしてこれは特に写真フ
イルムの低量機械処理（現像）に有用な現像液−
補給溶液に関する。
に対する補給物に関し、そしてこれは特に写真フ
イルムの低量機械処理（現像）に有用な現像液−
補給溶液に関する。
いわゆる「自動処理機」の使用は像様露光ハロ
ゲン化銀エレメント例えばＸ線フイルムの現像に
対して一般的である。この露光フイルムは、安全
光部分すなわちその光水準がフイルムをそれ以上
露光させるものより下にあるところから処理機中
に供給されそして現像液、定着液および水洗液を
含有する種々のチヤンバーを通つて移送される。
この処理機の最後にフイルムを乾燥させそして使
用状態の仕上り生成物として通常の光のもとに出
てくる。これは米国特許第3545971号明細書中に
説明されている。この系は迅速且つ便利であり、
そして多数のフイルムを仕上り画像に劣化的効果
を与えることなく長期間にわたつてこの方法で常
法的に取扱うことができる。勿論、処理溶液は露
光ハロゲン化銀フイルムの通過によつて疲労しそ
して成分損失を償なうためには補給を行わなくて
はならない。更に、処理流体、特に現像溶液は空
気に接触することによつて好気的に、そして単に
長期間非作用的に放置した場合には嫌気的に分解
される。
ゲン化銀エレメント例えばＸ線フイルムの現像に
対して一般的である。この露光フイルムは、安全
光部分すなわちその光水準がフイルムをそれ以上
露光させるものより下にあるところから処理機中
に供給されそして現像液、定着液および水洗液を
含有する種々のチヤンバーを通つて移送される。
この処理機の最後にフイルムを乾燥させそして使
用状態の仕上り生成物として通常の光のもとに出
てくる。これは米国特許第3545971号明細書中に
説明されている。この系は迅速且つ便利であり、
そして多数のフイルムを仕上り画像に劣化的効果
を与えることなく長期間にわたつてこの方法で常
法的に取扱うことができる。勿論、処理溶液は露
光ハロゲン化銀フイルムの通過によつて疲労しそ
して成分損失を償なうためには補給を行わなくて
はならない。更に、処理流体、特に現像溶液は空
気に接触することによつて好気的に、そして単に
長期間非作用的に放置した場合には嫌気的に分解
される。
多量のフイルムが処理される場合（高い処理
量）には現像液の疲労はほとんど完全にハロゲン
化銀画像の現像による。Mason氏著
「Photographic Processing Chemistiy」（Focal
Press 1966年版）第74頁に示されているようにこ
の現像反応は 2AgBr＋H2O＋Na2SO3→2Ag＋HBr＋NaBr
＋HOSO3Na である。すなわち、若干の物質すなわちヒドロキ
ノンおよびサルフアイトは失われ、一方ブロミ
ド、酸およびヒドロキノンモノスルホネートが形
成される。この反応によつては示されていない
が、かぶり防止剤も失われるかもしれない。現在
の現像液補給物はこの反応に基いて次のように処
方されている。補給液は現像液よりも高いPHにつ
くられておりそしてブロミドは含有していない。
その結果これは現像反応により放出される酸およ
びブロミドを相殺する。その他の成分は予想され
る損失を容認するような濃度にセツトされる。ヒ
ドロキノンは実質的にセンシトメトリーに悪影響
を与えることなしにかぶり防止剤により相殺され
る。この場合、補給速度は処理機中に供給される
フイルムの大約の面積に基いて便利には計算する
ことができる。
量）には現像液の疲労はほとんど完全にハロゲン
化銀画像の現像による。Mason氏著
「Photographic Processing Chemistiy」（Focal
Press 1966年版）第74頁に示されているようにこ
の現像反応は 2AgBr＋H2O＋Na2SO3→2Ag＋HBr＋NaBr
＋HOSO3Na である。すなわち、若干の物質すなわちヒドロキ
ノンおよびサルフアイトは失われ、一方ブロミ
ド、酸およびヒドロキノンモノスルホネートが形
成される。この反応によつては示されていない
が、かぶり防止剤も失われるかもしれない。現在
の現像液補給物はこの反応に基いて次のように処
方されている。補給液は現像液よりも高いPHにつ
くられておりそしてブロミドは含有していない。
その結果これは現像反応により放出される酸およ
びブロミドを相殺する。その他の成分は予想され
る損失を容認するような濃度にセツトされる。ヒ
ドロキノンは実質的にセンシトメトリーに悪影響
を与えることなしにかぶり防止剤により相殺され
る。この場合、補給速度は処理機中に供給される
フイルムの大約の面積に基いて便利には計算する
ことができる。
その他の場合にはより困難な問題を提供する。
その理由は少量のフイルムしか処理されない場合
（低い処理量）には、現像液の劣化は第一義的に
空気酸化および熱反応によるものであり、そして
現像反応すなわち前記Mason氏著
「Photographic Processing Chemistry」第73頁
の H2O＋2Na2SO3＋O2→HOSO3Na＋NaOH
＋Na2SO4 からのものではないからである。すなわちヒドロ
キシノンおよびサルフアイトは失われるが、しか
しブロミドは失われない。また現像反応における
ようにPHが低下するのではなく、それは上昇す
る。また、フイルム通過は補給を活性化させるの
であるから、低い処理量は補給液を減少させる。
その理由は少量のフイルムしか処理されない場合
（低い処理量）には、現像液の劣化は第一義的に
空気酸化および熱反応によるものであり、そして
現像反応すなわち前記Mason氏著
「Photographic Processing Chemistry」第73頁
の H2O＋2Na2SO3＋O2→HOSO3Na＋NaOH
＋Na2SO4 からのものではないからである。すなわちヒドロ
キシノンおよびサルフアイトは失われるが、しか
しブロミドは失われない。また現像反応における
ようにPHが低下するのではなく、それは上昇す
る。また、フイルム通過は補給を活性化させるの
であるから、低い処理量は補給液を減少させる。
現在の方法は、有意に、例えば２倍程度の大き
さに補給比率を増大させることによつて、低い処
理量を補償することである。しかしながらこれは
実際には低い処理量により生ぜしめられる問題を
加速させそしてセンシトメトリーの不安定性を生
じうる。これは過剰に添加される補給液が現像液
よりも高いPHを有しておりそしてブロミドを含有
していないからそうなるのである。この効果は(1)
酸化により生ぜしめられる現像液の上昇PHを保持
すること、そして(2)ブロミド含量を主としてかぶ
りおよび速度に反映されるセンシトメトリー不安
定性を生ぜしめる程低い水準まで希釈することで
ある。本発明は非使用により、そして現像反応に
よらないで生ぜしめられた現像液の変化を補償す
ることに目的を置いた補給液処方を提供する。す
なわち、この補給液は現像液よりも低いPHを特徴
としており、そしてそれは許容しうるセンシトメ
トリーに合致する最大量のブロミドを含有してい
る。補給がここに行われた場合には、PHは一定に
留まるかまたはわずかに低下し、ブロミドは本質
的に一定に留まり、そしてその他の変化は、当技
術分野の処方におけるように補償される。すなわ
ち現像液組成をより一定に保つことによつて、現
像液に高処理量のプロセスに等しい使用寿命を保
持させることができる。
さに補給比率を増大させることによつて、低い処
理量を補償することである。しかしながらこれは
実際には低い処理量により生ぜしめられる問題を
加速させそしてセンシトメトリーの不安定性を生
じうる。これは過剰に添加される補給液が現像液
よりも高いPHを有しておりそしてブロミドを含有
していないからそうなるのである。この効果は(1)
酸化により生ぜしめられる現像液の上昇PHを保持
すること、そして(2)ブロミド含量を主としてかぶ
りおよび速度に反映されるセンシトメトリー不安
定性を生ぜしめる程低い水準まで希釈することで
ある。本発明は非使用により、そして現像反応に
よらないで生ぜしめられた現像液の変化を補償す
ることに目的を置いた補給液処方を提供する。す
なわち、この補給液は現像液よりも低いPHを特徴
としており、そしてそれは許容しうるセンシトメ
トリーに合致する最大量のブロミドを含有してい
る。補給がここに行われた場合には、PHは一定に
留まるかまたはわずかに低下し、ブロミドは本質
的に一定に留まり、そしてその他の変化は、当技
術分野の処方におけるように補償される。すなわ
ち現像液組成をより一定に保つことによつて、現
像液に高処理量のプロセスに等しい使用寿命を保
持させることができる。
従つて、本発明の目的は露光ハンゲン化銀写真
フイルムの現像に対する改善された現像液／補給
液系を提供することである。その他の目的は低い
処理フイルム量が取扱われる場合のＸ線フイルム
の機械処理に特に有用な現像液／補給液系を提供
することである。
フイルムの現像に対する改善された現像液／補給
液系を提供することである。その他の目的は低い
処理フイルム量が取扱われる場合のＸ線フイルム
の機械処理に特に有用な現像液／補給液系を提供
することである。
これらおよびその他の目的は本発明においてハ
ロゲン化銀写真フイルム、特にＸ線フイルムの自
動処理のための写真現像浴。そしてそれに対する
補給液として有用な、本質的に１当り １−フエニル−３−ピラゾリドン写真現像剤ま
たはその誘導体 0.8〜2.5ｇ ヒドロキノン現像剤またはその誘導体 15〜35ｇ ブロミドイオン １〜７ｇ 有機かぶり防止剤およびフイルム速度制限剤
0.01〜10.0ミリモル アルカリ性物質およびバツフアー
10.0±0.3のPHを与える量 よりなるがただしその補給溶液はブロミドイオン
を含有するのみならず、また現像溶液のものより
低いPHを有しているような水性処理溶液を提供す
ることによつて達成される。
ロゲン化銀写真フイルム、特にＸ線フイルムの自
動処理のための写真現像浴。そしてそれに対する
補給液として有用な、本質的に１当り １−フエニル−３−ピラゾリドン写真現像剤ま
たはその誘導体 0.8〜2.5ｇ ヒドロキノン現像剤またはその誘導体 15〜35ｇ ブロミドイオン １〜７ｇ 有機かぶり防止剤およびフイルム速度制限剤
0.01〜10.0ミリモル アルカリ性物質およびバツフアー
10.0±0.3のPHを与える量 よりなるがただしその補給溶液はブロミドイオン
を含有するのみならず、また現像溶液のものより
低いPHを有しているような水性処理溶液を提供す
ることによつて達成される。
本発明により製造される現像液および補給液
は、例えばＸ線フイルムの低い処理量のための処
理機中で使用することができ、そしてこれは使用
および非使用の両方に対して長期間にわたつて優
れた安定性を示す。従つて、本発明のその他の態
様は像様露光されたＸ線フイルムを写真用現像
剤、ブロミドイオン、所望の値に現像浴のPHを保
持させるためのアルカリ性物質およびバツフアー
系、有機かぶり防止剤およびフイルム速度制限
剤、および水を包含する写真用現像浴中で現像さ
せ、現像されたＸ線フイルムを定着させ、洗いそ
して乾燥させ、そして現像浴を補給溶液で補給し
て、露光Ｘ線フイルムの多量の処理の間現像剤浴
の写真的性質を一定に保持させることよりなり、
而して前記処理溶液が現像浴および補給溶液の両
方として働くがただし後者は現像浴のものより低
いPHを有していることを特徴とする露光した写真
ハロゲン化銀Ｘ線フイルムの自動処理のための方
法である。
は、例えばＸ線フイルムの低い処理量のための処
理機中で使用することができ、そしてこれは使用
および非使用の両方に対して長期間にわたつて優
れた安定性を示す。従つて、本発明のその他の態
様は像様露光されたＸ線フイルムを写真用現像
剤、ブロミドイオン、所望の値に現像浴のPHを保
持させるためのアルカリ性物質およびバツフアー
系、有機かぶり防止剤およびフイルム速度制限
剤、および水を包含する写真用現像浴中で現像さ
せ、現像されたＸ線フイルムを定着させ、洗いそ
して乾燥させ、そして現像浴を補給溶液で補給し
て、露光Ｘ線フイルムの多量の処理の間現像剤浴
の写真的性質を一定に保持させることよりなり、
而して前記処理溶液が現像浴および補給溶液の両
方として働くがただし後者は現像浴のものより低
いPHを有していることを特徴とする露光した写真
ハロゲン化銀Ｘ線フイルムの自動処理のための方
法である。
本発明の処理溶液は現像液およびそれに対する
補給液の両方に使用することができる。現像液の
PHより低いPHを補給液が有している後者の態様に
おいては、少量の酸例えば酢酸を加えてそのPHを
調整することのみが必要である。
補給液の両方に使用することができる。現像液の
PHより低いPHを補給液が有している後者の態様に
おいては、少量の酸例えば酢酸を加えてそのPHを
調整することのみが必要である。
しかしながら工業用装置においては酸を補給液
に加えてそのPHを低下させるよりも、現像液に少
量の塩基（アルカリ性物質）を加えてそのPHを上
昇せしめる。これは例１に説明されているが、そ
の場合少量の塩基はスターター溶液（構成部分
Ｄ）によつて加えられる。補給液を時間および／
または処理フイルム量に基いて必要に応じて現像
液に加えて両方の形態の現像液損耗を補償させ
る。この特定の処方が自動処理機中で低い処理量
に対してこのように成功裡に使用できるというこ
とは予期せざることである。その理由はそれと従
来技術との差は非常にわずかだからである。しか
しながら実施例からわかるように、本発明の処方
と従来技術との間の性能の差は非常に大である。
に加えてそのPHを低下させるよりも、現像液に少
量の塩基（アルカリ性物質）を加えてそのPHを上
昇せしめる。これは例１に説明されているが、そ
の場合少量の塩基はスターター溶液（構成部分
Ｄ）によつて加えられる。補給液を時間および／
または処理フイルム量に基いて必要に応じて現像
液に加えて両方の形態の現像液損耗を補償させ
る。この特定の処方が自動処理機中で低い処理量
に対してこのように成功裡に使用できるというこ
とは予期せざることである。その理由はそれと従
来技術との差は非常にわずかだからである。しか
しながら実施例からわかるように、本発明の処方
と従来技術との間の性能の差は非常に大である。
処理溶液中の写真現像剤としては、１−フエニ
ル−３−ピラゾリドン（イルフオード社商品名
「フエニドン」として発売）またはその誘導体例
えば４−メチル−または４，４−ジメチルフエニ
ドンとセドロキノンまたはその誘導体例えばクロ
ロセドロキノンまたはブロモヒドロキノンとの組
合せが使用される。この組合せはＸ線フイルムの
自動処理機に対して特に適当である。これらは通
常ゼラチン性AgBr、AgBrIまたはAgClBrI乳剤
をフイルム支持体例えばポリエチレンテレフタレ
ート上に包含している。
ル−３−ピラゾリドン（イルフオード社商品名
「フエニドン」として発売）またはその誘導体例
えば４−メチル−または４，４−ジメチルフエニ
ドンとセドロキノンまたはその誘導体例えばクロ
ロセドロキノンまたはブロモヒドロキノンとの組
合せが使用される。この組合せはＸ線フイルムの
自動処理機に対して特に適当である。これらは通
常ゼラチン性AgBr、AgBrIまたはAgClBrI乳剤
をフイルム支持体例えばポリエチレンテレフタレ
ート上に包含している。
所望のPHを与えるためにはいずれかのアルカリ
性物質例えば水酸化ナトリウムまたはカリウム、
炭酸ナトリウムまたはカリウムを使用することが
できる。このバツフアー系は任意の便利な系であ
りうる。例えばＸ線現像液浴中に通常使用される
ボレートおよびカーボネートバツフアーは共に適
当である。
性物質例えば水酸化ナトリウムまたはカリウム、
炭酸ナトリウムまたはカリウムを使用することが
できる。このバツフアー系は任意の便利な系であ
りうる。例えばＸ線現像液浴中に通常使用される
ボレートおよびカーボネートバツフアーは共に適
当である。
有機かぶり防止剤は任意の有機かぶり防止剤お
よびフイルム速度制限剤でありうる。そのような
有機かぶり防止剤はＸ線現像浴中に一般に使用さ
れており、そしてこれらとしてはベンズイミダゾ
ール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、
インダゾール、テトラゾールおよびチアゾール群
の化合物ならびにアントラキノンスルホン酸塩が
あげられる。２種またはそれ以上の有機かぶり防
止剤を使用することができる。例えば５−ニトロ
インダゾールおよびベンゾトリアゾールの２種の
かぶり防止剤の混合物を使用することが好まし
い。
よびフイルム速度制限剤でありうる。そのような
有機かぶり防止剤はＸ線現像浴中に一般に使用さ
れており、そしてこれらとしてはベンズイミダゾ
ール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、
インダゾール、テトラゾールおよびチアゾール群
の化合物ならびにアントラキノンスルホン酸塩が
あげられる。２種またはそれ以上の有機かぶり防
止剤を使用することができる。例えば５−ニトロ
インダゾールおよびベンゾトリアゾールの２種の
かぶり防止剤の混合物を使用することが好まし
い。
本発明においてはある範囲のブロミドイオンを
成功裡に使用することができ、そして優れた安定
性を与える。例えば１〜10ｇ／のKBrは充分
なブロミドイオンを与える。NaBrもまた使用し
うる。最適量は補給速度および特定処方に依存す
る。
成功裡に使用することができ、そして優れた安定
性を与える。例えば１〜10ｇ／のKBrは充分
なブロミドイオンを与える。NaBrもまた使用し
うる。最適量は補給速度および特定処方に依存す
る。
前記濃度で水に溶解せしめた場合これらの本質
的成分は本発明の写真溶液が現像浴および保存安
定性補給液として機能することを可能ならしめ
る。
的成分は本発明の写真溶液が現像浴および保存安
定性補給液として機能することを可能ならしめ
る。
この処理溶液中には当技術分野では周知のよう
にその他の物質例えばゼラチン硬膜剤、空気酸化
遅延剤、隠蔽剤、表面活性剤、染料その他を含有
させることができる。例えば米国特許第3545971
号明細書および前記「Photographic Processing
Chemistiy」第149頁を参照されたい。
にその他の物質例えばゼラチン硬膜剤、空気酸化
遅延剤、隠蔽剤、表面活性剤、染料その他を含有
させることができる。例えば米国特許第3545971
号明細書および前記「Photographic Processing
Chemistiy」第149頁を参照されたい。
通常は現像液のすべての成分は水中濃厚液の形
態で準備される。農厚液の別々の部分が使用者に
供される。その結果この濃厚な状態にある間は成
分間の相互作用は小さい。次いで使用者は各部分
から種々の量を計量し、そして水で希釈して所望
の溶液を達成することによつて現像溶液を生成せ
しめる。次いでPHを例えば10.0±0.3に調整し、
そしてその溶液を例えば米国特許第3545971号明
細書記載のタイプの処理タンク例えば「Ｘ−オマ
ツトプロセツサ−（Ｘ−Omat Processor）」中に
系によつて要求される量で仕込む。現像時間は経
験的にかまたは処理機によつて決定される。露光
フイルムの単位面積当りにある比率で補給を実施
して、フイルムのセンシトメトリー性に変化を与
えることなく多量の露光フイルムの処理を与え、
そしてこれは周知のように経験的に決定される。
指標として、Ｘ線フイルムの処理にＸ−オマツト
プロセサーが使用される場合には、適当な補給速
度は本発明の処理溶液を使用して通常の放射線密
度に対しての現像に対しては露光フイルム240平
方インチ当り約55mlである。
態で準備される。農厚液の別々の部分が使用者に
供される。その結果この濃厚な状態にある間は成
分間の相互作用は小さい。次いで使用者は各部分
から種々の量を計量し、そして水で希釈して所望
の溶液を達成することによつて現像溶液を生成せ
しめる。次いでPHを例えば10.0±0.3に調整し、
そしてその溶液を例えば米国特許第3545971号明
細書記載のタイプの処理タンク例えば「Ｘ−オマ
ツトプロセツサ−（Ｘ−Omat Processor）」中に
系によつて要求される量で仕込む。現像時間は経
験的にかまたは処理機によつて決定される。露光
フイルムの単位面積当りにある比率で補給を実施
して、フイルムのセンシトメトリー性に変化を与
えることなく多量の露光フイルムの処理を与え、
そしてこれは周知のように経験的に決定される。
指標として、Ｘ線フイルムの処理にＸ−オマツト
プロセサーが使用される場合には、適当な補給速
度は本発明の処理溶液を使用して通常の放射線密
度に対しての現像に対しては露光フイルム240平
方インチ当り約55mlである。
ある処理機はスタンバイ（stand−by）補給様
式を有している。これは次のように働く。所定の
時間内にフイルムが通過しなかつた場合には、処
理機はスタンバイ様式になりこれは作動トレイン
およびドライヤーを停止させ、そして水供給を低
減させる。所定の時間の後、それは数分の間戻り
そして次いで再び閉じる。特定数のサイクルの
後、それは前以つて定められた量を補給する。こ
の補給は現在の現像液／補給液処方に関しては有
効ではないがしかし本発明に関しては非常に有効
である。その理由はより多量の正しい補給液が使
用されるからである。
式を有している。これは次のように働く。所定の
時間内にフイルムが通過しなかつた場合には、処
理機はスタンバイ様式になりこれは作動トレイン
およびドライヤーを停止させ、そして水供給を低
減させる。所定の時間の後、それは数分の間戻り
そして次いで再び閉じる。特定数のサイクルの
後、それは前以つて定められた量を補給する。こ
の補給は現在の現像液／補給液処方に関しては有
効ではないがしかし本発明に関しては非常に有効
である。その理由はより多量の正しい補給液が使
用されるからである。
本発明の処理溶液中で現像した後、ハロゲン化
銀フイルムを好ましくは酸定着液中で定着させ、
そして通常の方法で洗いそして乾燥させる。処理
機が使用される場合にはこれらの段階は機械によ
り決定される。
銀フイルムを好ましくは酸定着液中で定着させ、
そして通常の方法で洗いそして乾燥させる。処理
機が使用される場合にはこれらの段階は機械によ
り決定される。
次の実施例は本発明の説明である。例１は本発
明により意図されている本発明の実施の最良の様
式である。
明により意図されている本発明の実施の最良の様
式である。
例 １
本発明の現像液／補給液（）を処方しそして
それを通常の現像液／補給液（）と比較するた
めに、次の溶液を製造した。成分 量(g) 構成部分Ａ 蒸溜水 250 エチレンジアミンテトラ酢酸（EDTA） ８ 重亜硫酸ナトリウム（43％水性） 383 ヒドロキノン 100 KBr 13 KOH（45％水性） 323 K2CO3（47％水性） 116 蒸留水 全量１とする量構成部分Ｂ 酢酸 560 トリエチレングリコール 240 フエニドン 60 ５−ニトロインダゾール 6.4（2.66ミリモル） ベンゾトリアゾール 8.0 重亜硫酸ナトリウム（無水） ５構成部分Ｃ 蒸留水 500 グルタルアルデヒド（50％水性） 300 重亜硫酸ナトリウム（無水） 106 水 全量１とする量構成部分Ｄ 蒸留水 500 KOH（45％水性） 200 KBr 171 水 全量１とする量 現像液の製造のためには、250c.c.のＡ、25c.c.
のＢ、25c.c.のＣに水を加えて１とし、そして
23.4c.c.のＤを加える（PH10.2）。
それを通常の現像液／補給液（）と比較するた
めに、次の溶液を製造した。成分 量(g) 構成部分Ａ 蒸溜水 250 エチレンジアミンテトラ酢酸（EDTA） ８ 重亜硫酸ナトリウム（43％水性） 383 ヒドロキノン 100 KBr 13 KOH（45％水性） 323 K2CO3（47％水性） 116 蒸留水 全量１とする量構成部分Ｂ 酢酸 560 トリエチレングリコール 240 フエニドン 60 ５−ニトロインダゾール 6.4（2.66ミリモル） ベンゾトリアゾール 8.0 重亜硫酸ナトリウム（無水） ５構成部分Ｃ 蒸留水 500 グルタルアルデヒド（50％水性） 300 重亜硫酸ナトリウム（無水） 106 水 全量１とする量構成部分Ｄ 蒸留水 500 KOH（45％水性） 200 KBr 171 水 全量１とする量 現像液の製造のためには、250c.c.のＡ、25c.c.
のＢ、25c.c.のＣに水を加えて１とし、そして
23.4c.c.のＤを加える（PH10.2）。
補給液製造のためには、250c.c.のＡ、25c.c.のＢ、
25c.c.のＣに水を加えて１とする（PH10.0）。
25c.c.のＣに水を加えて１とする（PH10.0）。
比較のために通常の高処理量医療用Ｘ線現像液
を製造した。最も重要な差は（現像液の）構
成部分A′がKBrを含有していないこと、そして
構成部分D′が200ｇKOH（45％）／の代りに酢
酸130ｇ／を含有していることであつた。現像
液は10.15のPHを有しており、そして補給液
は10.35のPH（補給液のPH10.0に比べて）を有
していた。
を製造した。最も重要な差は（現像液の）構
成部分A′がKBrを含有していないこと、そして
構成部分D′が200ｇKOH（45％）／の代りに酢
酸130ｇ／を含有していることであつた。現像
液は10.15のPHを有しており、そして補給液
は10.35のPH（補給液のPH10.0に比べて）を有
していた。
実際の病院の状況下においては、露光された高
速医療用Ｘ線フイルム試料を「クロネクス
（CRONEX） 」QC−１メデイカル・Ｘ−レ
イ・オートマチツクプロセサー（デユポン社製
品）に仕込んだ現像液およびを使用して処理
した（８×10″フイルムを１日当り約15〜20シー
ト）。それそれの補給溶液をその補給液タンクに
供給した。系の活性は「クロネクス 」エレクト
ロフルオレツセント（ELS）センシトメーター
（デユポン社製品）上で√２21階段くさびを通し
て露光させたＸ線フイルムの対照片を処理するこ
とにより吟味された。１日に２片（１個を朝、そ
して１個を午後）を処理し、そしてそのセンシト
メトリーを吟味して処理機およびその溶液が良好
に機能しているかどうか調べた。処理時間（乾燥
から乾燥まで）は92〓で約２ 1/2分であつた。処
理機には通常のチオ硫酸アンモニウム定着液が設
けられていた。
速医療用Ｘ線フイルム試料を「クロネクス
（CRONEX） 」QC−１メデイカル・Ｘ−レ
イ・オートマチツクプロセサー（デユポン社製
品）に仕込んだ現像液およびを使用して処理
した（８×10″フイルムを１日当り約15〜20シー
ト）。それそれの補給溶液をその補給液タンクに
供給した。系の活性は「クロネクス 」エレクト
ロフルオレツセント（ELS）センシトメーター
（デユポン社製品）上で√２21階段くさびを通し
て露光させたＸ線フイルムの対照片を処理するこ
とにより吟味された。１日に２片（１個を朝、そ
して１個を午後）を処理し、そしてそのセンシト
メトリーを吟味して処理機およびその溶液が良好
に機能しているかどうか調べた。処理時間（乾燥
から乾燥まで）は92〓で約２ 1/2分であつた。処
理機には通常のチオ硫酸アンモニウム定着液が設
けられていた。
前記現像液／補給液の場合には、約２週間の
使用の後、高いかぶりおよび低い速度が認めら
れ、そして機械は閉鎖されそして溶液をそれから
流出させた。前記現像液／補給液の場合には、
かぶりおよび速度は４週間以上の継続的な低処理
量使用の後で一定に留まつており、良好な長い寿
命性能を示した。
使用の後、高いかぶりおよび低い速度が認めら
れ、そして機械は閉鎖されそして溶液をそれから
流出させた。前記現像液／補給液の場合には、
かぶりおよび速度は４週間以上の継続的な低処理
量使用の後で一定に留まつており、良好な長い寿
命性能を示した。
例 ２
本質的には例１のと同一の条件下に、クロネク
ス QC−１処理機中でセント・ジヨゼフ病院
（米国アリゾナ州フエニクス）で低い処理量で例
１の現像液／補給液を13週間以上操作させた。
また、同一処方を高い処理量で４週間以上操作さ
せた。すなわち、本発明の現像液／補給液は高お
よび低処理量両方において長時間にわたつての優
れた安定性を示す。
ス QC−１処理機中でセント・ジヨゼフ病院
（米国アリゾナ州フエニクス）で低い処理量で例
１の現像液／補給液を13週間以上操作させた。
また、同一処方を高い処理量で４週間以上操作さ
せた。すなわち、本発明の現像液／補給液は高お
よび低処理量両方において長時間にわたつての優
れた安定性を示す。
例 ３
他の従来技術の現像液／補給液処方との比較に
おいて本発明の優秀性を示すために、米国特許第
4046571号明細書第３、４および５欄に与えられ
ている実施例をくりかえした。この参照文献にお
いては、有機かぶり防止剤およびフイルム速度制
限剤は溶液１当り７〜26ミリモルの間と定義さ
れている。これは例１の構成部分Ｂ中の１当り
2.26ミリモルと比較される。１当り3.6ｇの５
−クロロベンゾトリアゾールおよび１当り５ｇ
の５−ニトロベンズイミダゾールを含有する前記
米国特許の例の相当する構成部分Ｂは製造が困難
でありそして約120〓までの加熱を必要とした。
記載の処理強度の現像液／補給液の製造もまた困
難であり、そしてこれはすべての固体を溶解保持
するためには一定の加熱を必要とした。この理由
の故に、この溶液を市販自動処理機中で試験する
ことができなかつた。その代りにＸ線フイルムの
対照片をこの現像液中でトレイ処理した。これは
処理するに前記例１の現像溶液中で処理した場
合の約３倍の時間がかかつた。
おいて本発明の優秀性を示すために、米国特許第
4046571号明細書第３、４および５欄に与えられ
ている実施例をくりかえした。この参照文献にお
いては、有機かぶり防止剤およびフイルム速度制
限剤は溶液１当り７〜26ミリモルの間と定義さ
れている。これは例１の構成部分Ｂ中の１当り
2.26ミリモルと比較される。１当り3.6ｇの５
−クロロベンゾトリアゾールおよび１当り５ｇ
の５−ニトロベンズイミダゾールを含有する前記
米国特許の例の相当する構成部分Ｂは製造が困難
でありそして約120〓までの加熱を必要とした。
記載の処理強度の現像液／補給液の製造もまた困
難であり、そしてこれはすべての固体を溶解保持
するためには一定の加熱を必要とした。この理由
の故に、この溶液を市販自動処理機中で試験する
ことができなかつた。その代りにＸ線フイルムの
対照片をこの現像液中でトレイ処理した。これは
処理するに前記例１の現像溶液中で処理した場
合の約３倍の時間がかかつた。
例 ４
次の溶液を製造した。成分
量(g) 構成部分Ａ
蒸留水 約3785（１ガロン）
EDTA 75
重亜硫酸ナトリウム 1428
ヒドロキノン 946
KOH（45％水性） 3075
KOH（固体） 1383
固体重炭酸ナトリウム 315
KBr 113
蒸留水 9.46（2.5ガロン）とする量構成部分Ｂ
トリエチレングリコール 402
酢酸 270
フエニドン 60
５−ニトロインダゾール ６
ベンゾトリアゾール ８
蒸留水 １とする量構成部分Ｃ
水 500
グルタルアルデヒド（50％水性） 267
重亜硫酸ナトリウム 106
蒸留水 １とする量
次のようにして現像溶液を製造した。
蒸留水 26.5（７ガロン）
NaBr 120ｇ
重亜硫酸ナトリウム（無水） 270ｇ
炭酸カリウム（無水） 312ｇ
炭酸ナトリウム 200ｇ
前記構成部分Ａ 4.75（５クオート）
前記構成部分Ｂ 0.95（１クオート）
前記構成部分Ｃ 0.95（１クオート）
蒸留水PH10.17±0.05
37.85（10ガロン）とする量 この現像液５ガロン（約19）を例１記載の処
理機に仕込んだ。約60ｇの酢酸をこの残りの19
に加えて10.0±0.05のPHを生成させ、そしてこれ
を補給液として使用した。この処理機にはまた標
準チオ硫酸アンモニウム定着液も仕込みそして92
〓にセツトした。14×17インチサイズの露光され
たＸ線フイルム（高速フロネクス ４、デユポン
社製品）の２試料を処理（現像）し、そしてその
系のセンシトメトリーを例１に記載のようにして
対照片を使用して吟味した。次いでこの処理機を
その日の残余の間放置させた。この間、機械によ
つて約2000c.c.の補給液が添加された。１日８時間
の終りに機械を停止した。この方法でこの処理機
を10日間操作させた。現像液活性の吟味のために
使用された対照片のセンシトメトリーには実質的
変化は認められなかつた。このことはこの処方が
低いハロゲン化銀フイルムの処理量に対して非常
に安定であること、そしてこれが嫌気的および好
気的分解に対して抵抗性であることを示す。
37.85（10ガロン）とする量 この現像液５ガロン（約19）を例１記載の処
理機に仕込んだ。約60ｇの酢酸をこの残りの19
に加えて10.0±0.05のPHを生成させ、そしてこれ
を補給液として使用した。この処理機にはまた標
準チオ硫酸アンモニウム定着液も仕込みそして92
〓にセツトした。14×17インチサイズの露光され
たＸ線フイルム（高速フロネクス ４、デユポン
社製品）の２試料を処理（現像）し、そしてその
系のセンシトメトリーを例１に記載のようにして
対照片を使用して吟味した。次いでこの処理機を
その日の残余の間放置させた。この間、機械によ
つて約2000c.c.の補給液が添加された。１日８時間
の終りに機械を停止した。この方法でこの処理機
を10日間操作させた。現像液活性の吟味のために
使用された対照片のセンシトメトリーには実質的
変化は認められなかつた。このことはこの処方が
低いハロゲン化銀フイルムの処理量に対して非常
に安定であること、そしてこれが嫌気的および好
気的分解に対して抵抗性であることを示す。
例 ５
本例においては例１の処理機中の現像液および
補給液両方として例２の処方（PH約10.2）が使用
された。低い処理量条件（１日当り７〜10枚のＸ
線フイルムシート）下にそれは５週間以上働い
た。この期間の終りに、この機械中で処理された
対照片は現像液の活性度が限度内でありそして優
れた結果を与えることを示した。従来技術の通常
の現像液はこれら条件下には２週間以内にひどく
劣化し、そしてこの自動処理機の閉鎖および清浄
化およびそれに続く新しい溶液による再仕込みを
必要とする。
補給液両方として例２の処方（PH約10.2）が使用
された。低い処理量条件（１日当り７〜10枚のＸ
線フイルムシート）下にそれは５週間以上働い
た。この期間の終りに、この機械中で処理された
対照片は現像液の活性度が限度内でありそして優
れた結果を与えることを示した。従来技術の通常
の現像液はこれら条件下には２週間以内にひどく
劣化し、そしてこの自動処理機の閉鎖および清浄
化およびそれに続く新しい溶液による再仕込みを
必要とする。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 像露光されたＸ線フイルムを写真用現像剤、
ハイドロキノン現像主薬、ブロミドイオン、現像
浴のPHを10.0±0.3の所望の値に保持させるため
のアルカリ性物質およびバツフアー、有機かぶり
防止剤およびフイルム速度抑制剤および水を含む
写真用現像浴中で現像し、現像されたＸ線フイル
ムを定着し、洗浄しそして乾燥させしかもその際
現像浴を補給液で補給して少量の露光済Ｘ線フイ
ルムを処理する長い期間の処理の間現像浴の写真
的性質を一定に維持する露光済写真ハロゲン化銀
Ｘ線フイルムの自動処理法であつて、本質的に１
当り １−フエニル−３−ピラゾリドン（写真用現像
剤） 0.8〜2.5ｇ ハイドロキノン（現像主薬） 15〜35ｇ ブロミドイオン １〜７ｇ 有機かぶり防止剤およびフイルム速度抑制剤
0.01〜10.0ミリモル アルカリ性物質およびバツフアー
PH10.0±0.3を与える量 を含む処理溶液を現像浴および補給液の両方と
して使用するが補給液は現像浴のPHより低いPHを
有するようにすることを特徴とする、露光済写真
用ハロゲン化銀Ｘ線フイルムの自動処理法。 ２ 有機かぶり防止剤がベンズイミダゾール、ベ
ンゾトリアゾール、テトラゾール、チアゾールお
よびアントラキノンスルホン酸塩よりなる群から
選ばれた１種またはそれ以上である、前記特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ３ 有機かぶり防止剤およびフイルム速度抑制剤
が５−ニトロインダゾールおよびベンゾトリアゾ
ールの混合物である、前記特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ４ ゼラチン硬膜剤、空気酸化遅延剤、隠蔽剤、
表面活性剤および染料よりなる群から選ばれた１
種またはそれ以上の添加剤を含有している、前記
特許請求の範囲第１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US28633181A | 1981-07-23 | 1981-07-23 | |
| US286331 | 1981-07-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5837644A JPS5837644A (ja) | 1983-03-04 |
| JPH0336204B2 true JPH0336204B2 (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=23098119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57126859A Granted JPS5837644A (ja) | 1981-07-23 | 1982-07-22 | 露光剤写真用ハロゲン化銀ｘ線フィルムの自動処理法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0071344B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5837644A (ja) |
| AU (1) | AU554484B2 (ja) |
| CA (1) | CA1181624A (ja) |
| DE (1) | DE3268792D1 (ja) |
| MX (1) | MX161751A (ja) |
| NZ (1) | NZ201355A (ja) |
| ZA (1) | ZA825244B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59214027A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-03 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Ｘ線用ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE3431860A1 (de) * | 1984-08-30 | 1986-03-06 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung farbfotografischer bilder |
| JPH0679142B2 (ja) * | 1985-10-18 | 1994-10-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 現像処理方法 |
| DE3789634T2 (de) * | 1986-06-27 | 1994-08-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zum Zuführen von Regenerationsflüssigkeit in einem automatischen Entwicklungsgerät. |
| JPH0648371B2 (ja) * | 1986-11-07 | 1994-06-22 | 富士写真フイルム株式会社 | Ｘレイ用ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
| JPH0627932B2 (ja) * | 1987-01-19 | 1994-04-13 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
| US4794070A (en) * | 1987-06-09 | 1988-12-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Automatically processible photographic element comprising a non-silver halide layer containing bromide |
| JP2699003B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1998-01-19 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
| DE3938573A1 (de) * | 1989-11-21 | 1991-05-23 | Du Pont Deutschland | Verfahren zum entwickeln photographischer silberhalogenidaufzeichnungsmaterialien |
| EP2275727A4 (en) | 2008-03-19 | 2014-11-05 | Chaul Huerta Adma Elena Faraon | SHAPED CYLINDRICAL SHUTTER OF THE POINTEAU TYPE FOR AUTOMATICALLY CONTROLLING FLOW RATE IN WATER PIPES |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3545971A (en) * | 1966-06-28 | 1970-12-08 | Eastman Kodak Co | Rapid processing of photographic x-ray film |
| AU456094B2 (en) * | 1971-05-15 | 1974-12-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | New development composition for radiographic film |
| JPS5648864B2 (ja) * | 1973-09-03 | 1981-11-18 | ||
| JPS5081539A (ja) * | 1973-11-20 | 1975-07-02 | ||
| US4046571A (en) * | 1975-06-27 | 1977-09-06 | Gaf Corporation | Processing solution for use as photographic developer bath and replenisher therefor |
-
1982
- 1982-06-30 DE DE8282303437T patent/DE3268792D1/de not_active Expired
- 1982-06-30 EP EP82303437A patent/EP0071344B1/en not_active Expired
- 1982-07-22 AU AU86296/82A patent/AU554484B2/en not_active Ceased
- 1982-07-22 CA CA000407806A patent/CA1181624A/en not_active Expired
- 1982-07-22 MX MX193692A patent/MX161751A/es unknown
- 1982-07-22 NZ NZ201355A patent/NZ201355A/xx unknown
- 1982-07-22 JP JP57126859A patent/JPS5837644A/ja active Granted
- 1982-07-22 ZA ZA825244A patent/ZA825244B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NZ201355A (en) | 1985-03-20 |
| EP0071344B1 (en) | 1986-01-29 |
| MX161751A (es) | 1990-12-20 |
| ZA825244B (en) | 1984-03-28 |
| CA1181624A (en) | 1985-01-29 |
| EP0071344A1 (en) | 1983-02-09 |
| AU8629682A (en) | 1983-01-27 |
| DE3268792D1 (en) | 1986-03-13 |
| JPS5837644A (ja) | 1983-03-04 |
| AU554484B2 (en) | 1986-08-21 |
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