JPH033778A - 可撓性研磨材料 - Google Patents

可撓性研磨材料

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JPH033778A
JPH033778A JP13967489A JP13967489A JPH033778A JP H033778 A JPH033778 A JP H033778A JP 13967489 A JP13967489 A JP 13967489A JP 13967489 A JP13967489 A JP 13967489A JP H033778 A JPH033778 A JP H033778A
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JP
Japan
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fibers
diamond
raw material
gas
polishing
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Pending
Application number
JP13967489A
Other languages
English (en)
Inventor
Shosuke Idemitsu
出光 昭介
Toshimichi Ito
伊藤 利通
Nariyuki Hayashi
林 成幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication of JPH033778A publication Critical patent/JPH033778A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は可撓性研磨材料に関し、さらに詳しく言うと、
可撓性を有するものであって、研磨性能に優れるととも
に目詰りかなく、被研磨材が局面や起伏面等の複雑な形
状を有していても効率良く研磨することのできる可撓性
研磨材料に関する。
[従来技術および発明が解決しようとする課題]可撓性
研磨材としては、従来より研磨紙か広く知られている。
しかしなから、この研磨紙における砥粒には、専らガラ
スやSiC粉末が用いられているので、たとえば超硬合
金、セラミックス等の高硬度材料からなる被研磨材を効
率良く研磨することは殆ど不可能であるという問題があ
る。
そこて、高硬度材料からなる被研磨材を効率良く研磨す
ることのてきる可撓性研磨材か望まれており、またいく
つかの提案かなされている。
たとえば特開昭60−255:165号公報においては
、砥粒であるタイヤモント粒子を気相合成法により薄板
上に生成させるダイヤモンド研磨紙の製造方法か開示さ
れており、また、特開昭62−218071号公報にお
いては、可撓性を有する金属シートの周辺から中央部に
向けて複数の切欠部を設け、このシートの表面に気相法
ダイヤモンド薄膜を設けてなるダイヤモンド研磨シート
か開示されている。
しかしながら、これらにおいては、いずれも研磨粉の除
去か困難であるという欠点かあるとともに、研磨精度の
異なるものの製造か困難であるという問題かある。
また、特開昭63−144968号公報においては、炭
素繊維またはガラス繊維を主材料とする網状基体上に電
着された砥粒層を含む砥石か開示されている。
しかしなから、この砥石においては可撓性か充分てはな
いとともに、砥粒層か砥粒の電着により形成されている
のて耐久性も充分てはないという欠点かある。
さらに、特開昭63−185579号公報においては、
多結晶ダイヤモンドを含む研磨剤と結合剤とを含む研磨
層を可撓性支持体上に塗設してなる研磨テープか開示さ
れている。
しかしなから、この研磨テープにおいても、依然として
研磨粉の除去か困難であるという欠点がある。また、多
結晶ダイヤモンドを含む研磨剤を結合剤を用いて可撓性
支持体上に塗設してなるのて、特に多結晶ダイヤモンド
の粒径か小さいと、ダイヤモンド粒子の脱粒か生し易い
という問題がある。
したかって、可撓性を有し、しかも研磨性能に優れると
ともに目詰りのない可撓性研磨材か望まれているのか実
状である。
本発明は前記の事情に基いてなされたものである。
本発明の目的は、可撓性を有するものてあって、研磨性
能に優れるとともに目詰りかなく、被研磨材か局面や起
伏面等の複雑な形状を有していても効率良く研磨するこ
とのてきる可撓性研磨材を提供することにある。
[課題を解決するだめの手段] 前記課題を解決するために、本発明者らが鋭意検討を重
ねた結果、気相法により表面にダイヤモンドおよび/ま
たはタイヤセント状炭素(この両者をダイヤモンド類と
総称することがある。)を析出させてなる繊維を用いた
特定の研磨材料は、可撓性を有するものてあって、研磨
性71に優れるとともに目詰りかなく、被研磨材か局面
や起伏面等の複雑な形状を有していても効率良く研磨す
ることのできる可撓性研磨材を好適に形成することかて
きることを見い出して、本発明に到達した。
本発明の構成は、気相法により析出したダイヤモンドお
よび/またはダイヤモンド状炭素を表面に有する繊維を
含む織布または不織布を用いてなることを特徴とする可
撓性研磨材料である。
本発明の可撓性研磨材料は、気相法により析出したダイ
ヤモンド類を表面に有する繊維(以下、これをダイヤモ
ンド類析出繊維と称することかある。)を含むものであ
る。
前記ダイヤモンド類析出繊維は、原料繊維の表面に気相
法によりタイヤセン1〜類を析出させることにより得る
ことかてきる。
前記原料繊維としては、たとえば気相法によりダイヤモ
ンドを析出させる際の耐熱性に富むものであればよく、
具体的には、ガラス繊維、高ケイ酸質繊維、アルミナケ
イ酸繊維等のガラス質繊AI:ボロン繊維、炭化ケイ素
繊維、アルミナ繊維、チッ化ケイ素繊維、ジルコニア繊
維等のセラミック繊維;銅繊維、黄銅繊維、鋼繊維、ス
テンレス繊維、アルミ繊維、アルミニウム合金繊維、モ
リブデン繊維、タングステン繊維等の金属繊維;アルミ
ナウィスカー、マクネシアウイスカー、黒鉛ウィスカー
、炭化ケイ素ウィスカー窒化ケイ素ウィスカー等の各種
ウィスカーなどか挙げられる。
また、前記各種の原料繊維は、その表面にたとえば金属
やケイ素等を蒸着して使用に供することもてきる。
これらの中ても、好ましいのは金属繊維、セラミックI
U&なとてあり、特に好ましいのは500℃以上の耐熱
性を有する金属繊維、セラミックス繊維である。
前記原料繊維の形状については特に制限はなく、長繊維
、短繊維、ウィスカー、クロス、ローピンクマット、チ
ョツプドストランドマットなどのいずれてあってもよい
すなわち、本発明の可撓性研磨材料は、前記原料繊維が
、たとえば長繊維、短繊維、ウィスカー等であるときに
は、たとえばこれらを、織布化あるいは不織布化するこ
とにより可撓性研磨材として用いることかてきるし、前
記原料繊維が、たとえばクロス、チョツプドストランド
マット、ロービングマット等であるときには、これらを
そのまま可撓性研磨材として用いることかてきる。
前記原料繊維の繊維径およびアスペクト比は、用途に応
して最適なものをそれぞれ適宜に選定すればよいのであ
るか、繊維径は、通常、1〜50gm、好ましくは2〜
20gmてあり、アスペクト比は、通常、10以上、好
ましくは50以」二である。また、ウィスカーと呼ばれ
るものは、直径0゜1〜5gm、アスペクト比10〜5
0()のものである。
なお、前記原料繊維は前処理を行なうことなくそのまま
、次に詳述する気相法によるダイヤモンドの析出に使用
することかてきるか、ダイヤモンドの核発生密度を増す
ためには、たとえば超音波法ダイヤモンド、SiC,B
4Cなどのa微粒子法による傷付処理等の前処理を行な
ってから使用してもよい。
前記原料繊維の表面にタイヤセント類を析出させる方法
には気相法を好適に採用することかてきる。
具体的には、炭素源ガスを含有する原料ガスを励起して
得られるガスを、反応室内に設置した前記原料famに
接触させることにより、前記原料繊維の表面にダイヤモ
ンドを析出させることかてきる。
前記原料ガスは、少なくとも炭素源ガスを含有する。
具体的には、前記原料ガスとして、たとえば炭素源ガス
と水素ガスとの混合ガスか好ましく、あるいはさらに酸
素ガス、ハロゲンガス等を含有する混合ガスを使用する
こともてきる。
また、所望により、前記原料ガスとともに、不活性ガス
等のキャリヤーガスを用いることもてきる。
前記炭素源ガスとしては、各種炭化水素、含酸素化合物
、含ハロゲン化合物、含窒素化合物等のガスを使用する
ことかてきる。
炭化水素化合物としては、例えばメタン、エタン、プロ
パン、メタン等のパラフィン系炭化水素、エチレン、プ
ロピレン、メチレン等のオレフィン系炭化水素:アセチ
レン、アリレン等のアセチレン系炭化水素;ツタジエン
等のジオレフィン系炭化水素;シクロプロパン、シクロ
メタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭
化水素;シクロツタジエン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ナフタレン等の芳香族炭化水素:塩化メチル、臭
化メチル、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素などを挙げることがてきる。
含酸素化合物としては、例えばアセ1〜ン、ジエチルケ
トン、ベンゾフェノン等のケトン類:メタノール、エタ
ノール、プロパツール、フタノール等のアルコール類:
メチルエーテル、エチルエーテル、エチルメチルエーテ
ル、メチルプロピルエーテル、エチルプロピルエーテル
、フェノールエーテル、アセタール、環式エーテル(ジ
オキサン、エチレンオキシド等)のエーテル類:アセト
ン、ビナコリン、メチルオキシ1〜、芳香族ケトン(ア
セトフェノン、ベンゾフェノン等)、シケI〜ン、環式
ケトン等のケトン類:ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、プチルアルデヒ1〜、ヘンズアルデヒド等のアル
デヒド類;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、コハク酩、酪酸
、シュウ酸、酒石酸、ステアリン酸等の有機酸類:酢酸
メチル、酢酸エチル等の酸エステル類;エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール等の二価アルコール類;−
酸化炭素、二酸化炭素などを挙げることがてきる。
含窒素化合物としては、例えば1〜リメチルアミン、ト
リエチルアミンなどのアミン類などを挙げることがてき
る。
また、前記炭素源ガスとして、単体てはないが、消防法
に規定される第4類危険物:ガソリンなどの第1石油類
、ケロシン、テレピン油、しょう脳油、松根油などの第
2石油類、重油などの第3石油類、キャー油、シリンタ
ー油などの第4石油類などのガスをも使用することかで
きる。また前記各種の炭素化合物を混合して使用するこ
ともできる。
これらの炭素源ガスの中でも、常温で気体または蒸気圧
の高いメタン、エタン、プロパン等のバラフイン系炭化
水素:あるいはアセトン、ヘンンフェノン等のケトン類
、メタノール、エタノール等のアルコール類、−酸化炭
素、二酸化炭素ガス等の含酸素化合物か好ましく、−酸
化炭素は特に好ましい。
前記水素ガスには、特に制限がなく、たとえば石油類の
ガス化、天然ガス、水性ガスなどの変成、水の電解、鉄
と水蒸気との反応、石炭の完全ガス化などにより得られ
るものを充分に精製したものを用いるととかてきる。
前記水素ガスを構成する水素は励起されることにより原
子状水素を形成する。
この原子状水素は、前記タイヤセント類の析出と同時に
析出するクラファイトやアモルファスカーボン等の非タ
イヤセント成分を除去する作用を有する。
前記原料ガスにおける前記炭素源ガスの濃度は、通常、
0.1〜90%、好ましくは0.1〜80%である。
前記炭素源ガスの濃度か0.1%よりも低いと、1 ダイヤモンドの析出速度か遅くなったり、前記原料ガス
を用いて得られるダイヤモンドと原料繊維との密着性か
充分てはなくなることがある。
方、90%を超えると、非晶質炭素を多量に含むダイヤ
モンドか析出することかある。
前記原料ガスを励起する手段としては、たとえばマイク
ロ波ブラスマCVD法(有磁場CVD法、ECR−CV
D法を含む。)、高周波プラズマCVD法(熱プラズマ
法を含む。)、直流プラズマCVD法(熱プラズマ法を
含む。)、熱フイラメント法(EACVD法を含む。)
、熱CVD法、光CVD法、燃焼炎法、スパッタリング
法などを挙げることかできる。
これらの中ても、好ましいのは各種プラズマCVD法(
有磁場CVD法、ECR−CVD法を含む。)である。
これらの方法においては、通常、以下の条件下に反応か
進行して、前記原料繊維の表面にダイヤモンド類か析出
する。
すなわち、前記原料繊維の表面の温度は、前 2 記原料ガスの励起手段によって異なるのて、概に決定す
ることはてきないが、通常、300〜1.200°C1
好ましくは500〜1,100°Cである。たとえばプ
ラズマCVD法を用いる場合には500〜1.000°
Cか好ましい。
前記の温度か、300°Cより低いと、前記原料繊維の
表面に析出するダイヤモンド類の析出速度か遅くなった
り、非ダイヤモンド成分を多量に含む膜が析出したりす
ることかある。一方、1,200°Cより高くしても、
それに見合った効果は奏されず、エネルギー効率の点で
不利になるとともに、析出したダイヤモンド類かエツチ
ングされてしまうことがある。
反応圧力は、通常、10−6〜103torr、好まし
くは1O−5torr〜750 torrである。
また、必要により、反応室内に磁場を加えた状態で、前
記原料ガスを励起することもてきる。この場合には、前
記原料ガスの励起手段に有磁場CVD法を好適に採用す
ることがてきる。
反応圧力か1O−6torrよりも低いと、ダイヤモン
ド類の析出速度か遅くなったり、ダイヤモンド類か析出
しなくなったりすることかある。
一方、103torrより高くしてもそれに見合った効
果は奏されないことかある。
反応時間は、前記原料繊維の表面の温度、反応圧力、必
要とするダイヤモンド類の粒子径などにより相違するの
で一概に決定することはてきないか、通常は、10時間
以内とすることができる。
本発明の可撓性研磨材料は、以上のようにして形成され
る前記ダイヤモンド類析出繊維を有する織布または不織
布を用いてなる。
すなわち、本発明の可撓性研磨材料は前記織布または不
織布布上に直接にダイヤモンド類を析出させることによ
り得ることもてきるし、前述の通り前記ダイヤモンド類
析出繊維な織布化あるいは不織布化することにより得る
こともてきる。なお、この場合に前記ダイヤモンド類を
析出させていないm維を加えることもてきる。
前記織布または不織布の厚みについては、可撓性を損な
わない限り、特に制限はないか1通常は0.01〜2 
m m程度である。
本発明の可撓性研磨材料は、たとえば第1図に示したよ
うに、織布または不#l&布lにおけるダイヤモンド類
2を有する面とは反対側の面に樹脂層3を有していても
よい。この場合の樹脂層は、織布、不織布あるいは小孔
を多数形成したフィルム等て形成することが好ましい。
前記樹脂層を形成する樹脂としては、たとえばエチレン
酢ピコポリマー、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂
、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ボリイミ1〜樹
脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ
る。
前記樹脂層を設ける場合、前記樹脂層の厚みは、通常、
0.01〜10m m程度である。
いずれにせよ、本発明の可撓性研磨材料においては、第
1図に示したように、織布または不織布1の全面にダイ
ヤモンド類2を有していてもよいし、織布または不織布
lの一部分にダイヤモンド類2を有していてもよい。ま
た、タイヤセント 5 類は粒子状てあってもよいし、被覆膜状てあってもよい
なお、本発明において前記ダイヤモンド類としては、結
晶性の高いダイヤモンドであることか硬度等の点て好ま
しいか、用途によってはダイヤモンド状炭素てあっても
よい。
本発明の可撓性研磨材料は、様々な材料の研磨に好適に
利用することがてきる。
[実施例] 次に、本発明の実施例を示し、本発明についてさらに具
体的に説明する。
(実施例1) タンクステン繊維(平均繊維径12pm)不織布(1,
00+s+sX 10h+i )を反応室内の基板上に
載置した。
次いて、この反応室内に一酸化炭素ガスおよび水素ガス
からなる原料ガス(CO濃度7%)を導入し、Taフィ
ラメント温度2,300℃、圧力4(lt、orr、基
板温度850℃、基板−フィラメント間隔3mmの条件
にて、公知の熱フイラメント法に6 よるダイヤモンドの合成を3時間行なって、タンクステ
ン繊維不織布」−に析出物を得た。
なお、タンクステン繊維不織布は超音波法による前処理
を行なって核発生密度の増したものを使用した。
この析出物についてラマン分光分析を行なったところ、
1333cm−’の位置にダイヤモンドに起因するシャ
ープなピークか認められた。
また、この析出物の粒径は3〜5pmて均一であった。
次いて、上記タンクステン繊維不織布の裏面にポリエス
テルからなる樹脂層(厚み0.5+*m )を溶着して
、可撓性研磨材料を得た。
得られた可撓性研磨材料を用いて、超硬合金(WCCo
、 HRA 92.4人)を研磨したところ、R□、=
1,0(1(l入の鏡面に仕上げることができた。
また、研磨粉の除去は容易てあった。
(実施例2) 前記実施例1において、樹脂層を形成しなかったほかは
、前記実施例1と同様にして実施した。
得られた可撓性研磨材料を用いて、超硬合金(WC−G
o、 HMA 92.4人)を研磨したところ、R□つ
=]、000人の鏡面に仕上げることかできた。
また、研磨粉の除去は容易てあった。
[発明の効果] 本発明によると、 (1)  織布または不織布からなるので、可撓性に優
れる、 (2)  繊維径、繊維の種類あるいはこれらの組み合
わせ等により、任意の仕上げか可能な研磨材料を得るこ
とかできる、 (3)シかも、気相法により析出したダイヤモンド類を
表面に有する繊維を含むので、研磨性能に優れるととも
に目詰りがない、 (4)シたかって、たとえば被研磨材が曲面や起伏面等
の複雑な形状を有していても効率良く研磨することかて
きる、 等の利点を有する工業的に有用な可撓性研磨材料を提供
することかてきる。
4、
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の可撓性研磨材料の一例を示す説明図で
ある。 ・織布または不織布、 ・タイヤ セント類  9 第1 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)気相法により析出したダイヤモンドおよび/また
    はダイヤモンド状炭素を表面に有する繊維を含む織布ま
    たは不織布を用いてなることを特徴とする可撓性研磨材
    料。
JP13967489A 1989-06-01 1989-06-01 可撓性研磨材料 Pending JPH033778A (ja)

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JP13967489A JPH033778A (ja) 1989-06-01 1989-06-01 可撓性研磨材料

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JP13967489A Pending JPH033778A (ja) 1989-06-01 1989-06-01 可撓性研磨材料

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5202534A (en) * 1990-12-16 1993-04-13 Ricoh Company, Ltd. Developing apparatus using a liquid developer and having a system for cleaning the development region with a vacuum pressure
US5643343A (en) * 1993-11-23 1997-07-01 Selifanov; Oleg Vladimirovich Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof
US5711773A (en) * 1994-11-17 1998-01-27 Plasmoteg Engineering Center Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5202534A (en) * 1990-12-16 1993-04-13 Ricoh Company, Ltd. Developing apparatus using a liquid developer and having a system for cleaning the development region with a vacuum pressure
US5643343A (en) * 1993-11-23 1997-07-01 Selifanov; Oleg Vladimirovich Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof
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