JPH0337815A - 複合型薄膜磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents
複合型薄膜磁気ヘッドとその製造方法Info
- Publication number
- JPH0337815A JPH0337815A JP1172238A JP17223889A JPH0337815A JP H0337815 A JPH0337815 A JP H0337815A JP 1172238 A JP1172238 A JP 1172238A JP 17223889 A JP17223889 A JP 17223889A JP H0337815 A JPH0337815 A JP H0337815A
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- magnetic pole
- magnetic
- thin film
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- head
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3967—Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read
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- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明（よ 磁気ディスク装置等に用いられる磁気ヘッ
ドに関するもので、特に記録及び再生兼用であり高再生
出力 低記録電流をもつ高性能薄膜磁気ヘッドに関する
ものであも 従来の技術 従来の薄膜ヘッドを第３、４図及び第５図に基づき説明
すも 一般に薄膜磁気ヘッド（よ 例えば第３図に示す
ような断面構造を有していも すなわ板 基板ｌｌ上に
軟磁性体材料 例えばＮｉ−Ｆｅ合金等からなる下部磁
性体磁極１２が形成されも 次いでギャップとなる所定
膜厚の絶縁層１３が形成されも さらに熱硬化されたフ
ォトレジスト層１４および１６に埋め込まれるようにし
て導体材粧 例え！；Ｊ： Ａｕ、 ＡＩ、Ｃｕ等
からなる導電コイル１５が形成されたあと、軟磁性体材
料からなる上部磁性体磁極１７が形成され、次ぎにＡｌ
２Ｏ３等の絶縁物からなる保護膜１８が形成されて薄膜
磁気ヘッドが完成する。しかし第３図のごとき巻線型の
ヘッドにおいてはその再生出力を増大させるに（よ 記
録媒体１９との相対速度を増加させるか巻線数を増加さ
せねばならず、その製造技術は限界に近づきつつあも
第４図に磁気抵抗型のヘッドを示す。同図（よ 記録媒
体１９と磁気抵抗効果素子２０が接触しない磁気抵抗型
ヘッドであもこのような磁気抵抗型ヘッドで（上 再生
出力は巻線型に比べて約１０倍大きい力曳 再生専用で
あり媒体上に記録することはできなＬ〜 この様な問題
を解決するために第５図に示すような巻線型と磁気抵抗
型を合わせた複合型ヘッドが提案されている（特開昭６
１−４８１１６号公報）。
ドに関するもので、特に記録及び再生兼用であり高再生
出力 低記録電流をもつ高性能薄膜磁気ヘッドに関する
ものであも 従来の技術 従来の薄膜ヘッドを第３、４図及び第５図に基づき説明
すも 一般に薄膜磁気ヘッド（よ 例えば第３図に示す
ような断面構造を有していも すなわ板 基板ｌｌ上に
軟磁性体材料 例えばＮｉ−Ｆｅ合金等からなる下部磁
性体磁極１２が形成されも 次いでギャップとなる所定
膜厚の絶縁層１３が形成されも さらに熱硬化されたフ
ォトレジスト層１４および１６に埋め込まれるようにし
て導体材粧 例え！；Ｊ： Ａｕ、 ＡＩ、Ｃｕ等
からなる導電コイル１５が形成されたあと、軟磁性体材
料からなる上部磁性体磁極１７が形成され、次ぎにＡｌ
２Ｏ３等の絶縁物からなる保護膜１８が形成されて薄膜
磁気ヘッドが完成する。しかし第３図のごとき巻線型の
ヘッドにおいてはその再生出力を増大させるに（よ 記
録媒体１９との相対速度を増加させるか巻線数を増加さ
せねばならず、その製造技術は限界に近づきつつあも
第４図に磁気抵抗型のヘッドを示す。同図（よ 記録媒
体１９と磁気抵抗効果素子２０が接触しない磁気抵抗型
ヘッドであもこのような磁気抵抗型ヘッドで（上 再生
出力は巻線型に比べて約１０倍大きい力曳 再生専用で
あり媒体上に記録することはできなＬ〜 この様な問題
を解決するために第５図に示すような巻線型と磁気抵抗
型を合わせた複合型ヘッドが提案されている（特開昭６
１−４８１１６号公報）。
発明が解決しようとする課題
前記従来例で示したような構造を有する複合型薄膜磁気
ヘッドにおいてζよ 熱硬化されたフォトレジスト１６
上に上部磁性体磁極１７が積層されるた吹 第５図に示
したように フロントギャップ部及びパックギャップ部
のなだらかな段差部（それぞ花 第５図中の矢印Ａ及び
Ｂで示す）が形成されも このような段差部においてζ
上 上部磁性体磁極１７を威す軟磁性体材料の磁気詩法
例えば透磁率及び保磁力等が劣化し磁気ヘッドの記録
効率低下の要因となっている。まな 第５図で示したヨ
ーク型磁気抵抗型ヘッドで（上 ノンシールドを シー
ルド型タイプと違ってＭＲ素子を記録媒体１９から遠ざ
けて導磁路（フラックスガイド）を通して媒体からの磁
束を磁気抵抗効果素子に作用させるた吹 フロントギャ
ップ部の上部磁性体磁極に段差部があることにより、磁
気抵抗効果素子への磁束の流れの効率を悪化させる一つ
の要因となっていも さらに第５図の矢印Ｃに示したよ
うに 上部磁性体磁極の一部にスリットを形成する暇
このスリット幅はヨーク型磁気抵抗効果型ヘッドの特性
に影響を与える重要なパラメータの一つで、このスリッ
ト幅を正確にコントロールする必要があり、上部磁性体
層を、スパッタ蒸着法で形ａｔ、、 これをイオンエ
ツチング処理することにより上部磁性体磁極を形成する
製造方法で（よ 磁気抵抗効果素子のリード線等に断線
が生じたり、又それを防ぐ為には工程が複雑になり量産
性に欠けていも 本発明ζよ このような従来技術の課題を解決すること
を目的とすも 課題を解決するための手段 本発明ζ友 下部磁性体磁極と上部磁性体磁極と導電コ
イルとの間を埋めている絶縁層の膜厚に等しい膜厚を持
つ下部ないしは上部磁性体磁極とは別個の磁性体磁極を
下部と上部磁性体磁極との接合部分であるフロントギャ
ップ舐 パックギャップ部に挿入したものであも また
下部磁性体磁極をスパッタ蒸着法で形成し 上部磁性
体磁極をメッキ法で形成することによってなされも作用 この様な構造にすることにより、磁気ヘッドの磁気回路
となる軟磁性体層は全て平坦な上に形成され 導電コイ
ルにより発生した磁束（友 上部及び下部磁性体磁極及
び磁気抵抗効果素子を通り、損失なくギャップ部に集束
され 低記録電流化が可能になり、また再生時には記録
媒体からの漏れ磁束は段差部のない平坦な上部磁性体磁
極から効率よく磁気抵抗効果素子へ集束され高出力が得
られも また 上部磁性体磁極の一部にスリットを形成するとい
う薄膜プロセス上複雑な工程をメッキ法で形成すること
により高性能な薄膜磁気ヘッドを容易に製造できも 実施例 以下、本発明の実施例を、第１図及び第２図に基づいて
説明する。第１図は平面は 第２図は第１図のＡ−Ａ断
面図であも 第１図及び第２図において、本実施例は非磁性基板ｌ上
に軟磁性材料で下部磁性体磁極２を形成すａ 次いで下
部磁性体磁極２と導電コイル４との電気的絶縁をとるた
めの第一の絶縁層３を形成し その上に導電コイル４を
形成すも 次いで上部磁性体磁極９と下部磁性体磁極２
との接合部であるフロントギャップ部５Ａ及びバックギ
ャップ部５Ｂにリフトオフ等の手段により中間軟磁性体
を形成し 更に導電コイル４と磁気抵抗素子７及び上部
磁性体磁極９とを絶縁するために 絶縁膜をスパッタ真
空蒸着の手段により形成し 平坦化加工等の手段により
、中間軟磁性体層（５Ａ、５Ｂ）の膜厚に等しい絶縁膜
で第二の絶縁層６が充填されも 次ぎに第二の絶縁層６
上に磁気抵抗材層を形成し エツチングにより磁気抵抗
効果素子７を形威すも 次ぎに軟磁性体層で形成したフ
ロントギャップ部５Ａ上に所定厚のギャップ層８を形成
し またその絶縁層は磁気抵抗効果素子７と上部磁性体
磁極９を絶縁するための第三の絶縁層となａ さらにそ
の上に上部磁性体磁極９は磁気抵抗効果素子７の上部で
磁気抵抗効果素子７と略同−形状に隙間を持つようにフ
ォトレジストでパターンニングされた部分にメッキ法に
よりアディティブメッキすも 以上の各薄膜プロセスに
おいて、下部及び中間磁性体磁極の軟磁性材料として（
よ パーマロイやアモルファスの真空蒸着膜もしくはス
パッタ膜が上部磁性体磁極の軟磁性体層はパーマロイや
Ｆ ｅ −Ｎ ｉ −Ｃｏ系のメッキ膜カミ また導電
コイル層として（よ ＡＬ ＣｕやＡｕの真空蒸着膜
力交 絶縁層としては５ｉＯｚやＡｌａ○３のスパッタ
膜力丈 更に磁気抵抗効果素子としてＵＦｅ−Ｎｉ、Ｎ
ｉ−Ｃｏ系の真空蒸着膜等が用いられも第１図の実施例
によると上部磁性体磁極の一部に単一の磁気抵抗効果素
子を設けたカミ 複数個の磁気抵抗効果素子を設けるこ
とにより再生出力の増大及びＳ／Ｎの向上を果たすこと
ができも 通念 磁気抵抗効果素子の再生出力を増大す
るために バイアス磁界が必要であるカミ 本発明の場
合導電コイルに微少電流を流すことにより容易に達成で
きも 発明の詳細 な説明したように本発明によると、上部磁性体磁極（、
ｔ、フロントギャップ部において段差部をほとんど経験
しないので、上部磁性体磁極の段差部における磁気特性
の劣化 すなわち透磁率および保持力等の劣化が抑制さ
れ 記録媒体からの漏れ磁束は効率よく上部磁性体磁極
から磁気抵抗効果素子へ集束されも また パックギャ
ップ部も段差部がなく中間軟磁性体の分だけ磁気ヘッド
を威す磁性体の量が増すので、パックギャップ部におけ
る磁気的な飽和が抑制されＲ／Ｗ効率も向上すム また
上部磁性体の一部に隙間を持つようなコア形状にするた
めの複雑な工程もメッキ法により容易に製造できも 以上をまとめると、記録効率のよい巻線型薄膜磁気ヘッ
ドと再生出力の大きな磁気抵抗効果型ヘッドが併設され
記録及び再生が同一ヘッドで行われ さらに従来の再
生出力より約１０倍大きい再生出力が得られる良好な特
性をもつ薄膜磁気ヘッドを容易に製造できも
ヘッドにおいてζよ 熱硬化されたフォトレジスト１６
上に上部磁性体磁極１７が積層されるた吹 第５図に示
したように フロントギャップ部及びパックギャップ部
のなだらかな段差部（それぞ花 第５図中の矢印Ａ及び
Ｂで示す）が形成されも このような段差部においてζ
上 上部磁性体磁極１７を威す軟磁性体材料の磁気詩法
例えば透磁率及び保磁力等が劣化し磁気ヘッドの記録
効率低下の要因となっている。まな 第５図で示したヨ
ーク型磁気抵抗型ヘッドで（上 ノンシールドを シー
ルド型タイプと違ってＭＲ素子を記録媒体１９から遠ざ
けて導磁路（フラックスガイド）を通して媒体からの磁
束を磁気抵抗効果素子に作用させるた吹 フロントギャ
ップ部の上部磁性体磁極に段差部があることにより、磁
気抵抗効果素子への磁束の流れの効率を悪化させる一つ
の要因となっていも さらに第５図の矢印Ｃに示したよ
うに 上部磁性体磁極の一部にスリットを形成する暇
このスリット幅はヨーク型磁気抵抗効果型ヘッドの特性
に影響を与える重要なパラメータの一つで、このスリッ
ト幅を正確にコントロールする必要があり、上部磁性体
層を、スパッタ蒸着法で形ａｔ、、 これをイオンエ
ツチング処理することにより上部磁性体磁極を形成する
製造方法で（よ 磁気抵抗効果素子のリード線等に断線
が生じたり、又それを防ぐ為には工程が複雑になり量産
性に欠けていも 本発明ζよ このような従来技術の課題を解決すること
を目的とすも 課題を解決するための手段 本発明ζ友 下部磁性体磁極と上部磁性体磁極と導電コ
イルとの間を埋めている絶縁層の膜厚に等しい膜厚を持
つ下部ないしは上部磁性体磁極とは別個の磁性体磁極を
下部と上部磁性体磁極との接合部分であるフロントギャ
ップ舐 パックギャップ部に挿入したものであも また
下部磁性体磁極をスパッタ蒸着法で形成し 上部磁性
体磁極をメッキ法で形成することによってなされも作用 この様な構造にすることにより、磁気ヘッドの磁気回路
となる軟磁性体層は全て平坦な上に形成され 導電コイ
ルにより発生した磁束（友 上部及び下部磁性体磁極及
び磁気抵抗効果素子を通り、損失なくギャップ部に集束
され 低記録電流化が可能になり、また再生時には記録
媒体からの漏れ磁束は段差部のない平坦な上部磁性体磁
極から効率よく磁気抵抗効果素子へ集束され高出力が得
られも また 上部磁性体磁極の一部にスリットを形成するとい
う薄膜プロセス上複雑な工程をメッキ法で形成すること
により高性能な薄膜磁気ヘッドを容易に製造できも 実施例 以下、本発明の実施例を、第１図及び第２図に基づいて
説明する。第１図は平面は 第２図は第１図のＡ−Ａ断
面図であも 第１図及び第２図において、本実施例は非磁性基板ｌ上
に軟磁性材料で下部磁性体磁極２を形成すａ 次いで下
部磁性体磁極２と導電コイル４との電気的絶縁をとるた
めの第一の絶縁層３を形成し その上に導電コイル４を
形成すも 次いで上部磁性体磁極９と下部磁性体磁極２
との接合部であるフロントギャップ部５Ａ及びバックギ
ャップ部５Ｂにリフトオフ等の手段により中間軟磁性体
を形成し 更に導電コイル４と磁気抵抗素子７及び上部
磁性体磁極９とを絶縁するために 絶縁膜をスパッタ真
空蒸着の手段により形成し 平坦化加工等の手段により
、中間軟磁性体層（５Ａ、５Ｂ）の膜厚に等しい絶縁膜
で第二の絶縁層６が充填されも 次ぎに第二の絶縁層６
上に磁気抵抗材層を形成し エツチングにより磁気抵抗
効果素子７を形威すも 次ぎに軟磁性体層で形成したフ
ロントギャップ部５Ａ上に所定厚のギャップ層８を形成
し またその絶縁層は磁気抵抗効果素子７と上部磁性体
磁極９を絶縁するための第三の絶縁層となａ さらにそ
の上に上部磁性体磁極９は磁気抵抗効果素子７の上部で
磁気抵抗効果素子７と略同−形状に隙間を持つようにフ
ォトレジストでパターンニングされた部分にメッキ法に
よりアディティブメッキすも 以上の各薄膜プロセスに
おいて、下部及び中間磁性体磁極の軟磁性材料として（
よ パーマロイやアモルファスの真空蒸着膜もしくはス
パッタ膜が上部磁性体磁極の軟磁性体層はパーマロイや
Ｆ ｅ −Ｎ ｉ −Ｃｏ系のメッキ膜カミ また導電
コイル層として（よ ＡＬ ＣｕやＡｕの真空蒸着膜
力交 絶縁層としては５ｉＯｚやＡｌａ○３のスパッタ
膜力丈 更に磁気抵抗効果素子としてＵＦｅ−Ｎｉ、Ｎ
ｉ−Ｃｏ系の真空蒸着膜等が用いられも第１図の実施例
によると上部磁性体磁極の一部に単一の磁気抵抗効果素
子を設けたカミ 複数個の磁気抵抗効果素子を設けるこ
とにより再生出力の増大及びＳ／Ｎの向上を果たすこと
ができも 通念 磁気抵抗効果素子の再生出力を増大す
るために バイアス磁界が必要であるカミ 本発明の場
合導電コイルに微少電流を流すことにより容易に達成で
きも 発明の詳細 な説明したように本発明によると、上部磁性体磁極（、
ｔ、フロントギャップ部において段差部をほとんど経験
しないので、上部磁性体磁極の段差部における磁気特性
の劣化 すなわち透磁率および保持力等の劣化が抑制さ
れ 記録媒体からの漏れ磁束は効率よく上部磁性体磁極
から磁気抵抗効果素子へ集束されも また パックギャ
ップ部も段差部がなく中間軟磁性体の分だけ磁気ヘッド
を威す磁性体の量が増すので、パックギャップ部におけ
る磁気的な飽和が抑制されＲ／Ｗ効率も向上すム また
上部磁性体の一部に隙間を持つようなコア形状にするた
めの複雑な工程もメッキ法により容易に製造できも 以上をまとめると、記録効率のよい巻線型薄膜磁気ヘッ
ドと再生出力の大きな磁気抵抗効果型ヘッドが併設され
記録及び再生が同一ヘッドで行われ さらに従来の再
生出力より約１０倍大きい再生出力が得られる良好な特
性をもつ薄膜磁気ヘッドを容易に製造できも
第１図は本発明の一実施例にかかる薄膜磁気ヘッドを示
す平面は 第２図は同実施例のヘッドの断面は 第３，
４図及び５図は従来例の薄膜磁気ヘッドを示す断面図で
ある。 １、１１・・・基板 ２．１２・・・下部磁性体磁極３
、 ６． １４． １６・・・絶縁層 ４．１５・・・
導電コイ山 ８． １３・・・ギヤツブ凰 ５ん ５Ｂ
・・・中間磁性体磁！７．２０・・・磁気抵抗効果素子
１８・・・保護！９．１７・・・上部磁性体磁極 １０
、１９・・・記ａ尾
す平面は 第２図は同実施例のヘッドの断面は 第３，
４図及び５図は従来例の薄膜磁気ヘッドを示す断面図で
ある。 １、１１・・・基板 ２．１２・・・下部磁性体磁極３
、 ６． １４． １６・・・絶縁層 ４．１５・・・
導電コイ山 ８． １３・・・ギヤツブ凰 ５ん ５Ｂ
・・・中間磁性体磁！７．２０・・・磁気抵抗効果素子
１８・・・保護！９．１７・・・上部磁性体磁極 １０
、１９・・・記ａ尾
Claims (2)
- （１）下部磁性体磁極と上部磁性体磁極と導電コイルを
備える薄膜磁気ヘッドで前記上部磁性体磁極の一部に磁
気抵抗効果素子を挿入した複合型薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記下部磁性体磁極と前記導電コイルとの間を埋め
ている絶縁層の膜厚に等しい膜厚を持つ前記下部ないし
は上部磁性体磁極とは別個の磁性体磁極が前記下部磁性
体磁極と上部磁性体磁極との接合部分であるフロントギ
ャップ部、バックギャップ部に挿入されたことを特徴と
する薄膜磁気ヘッド。 - （２）請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法であっ
て、上部磁性体磁極をメッキ法で形成することを特徴と
する薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1172238A JPH0337815A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 複合型薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1172238A JPH0337815A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 複合型薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0337815A true JPH0337815A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15938181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1172238A Pending JPH0337815A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 複合型薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337815A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5726839A (en) * | 1993-12-08 | 1998-03-10 | Fujitsu Limited | Magnetic head having bypass magnetic path and set magnetic reluctance relationship |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP1172238A patent/JPH0337815A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5726839A (en) * | 1993-12-08 | 1998-03-10 | Fujitsu Limited | Magnetic head having bypass magnetic path and set magnetic reluctance relationship |
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