JPH0338036A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0338036A JPH0338036A JP17334689A JP17334689A JPH0338036A JP H0338036 A JPH0338036 A JP H0338036A JP 17334689 A JP17334689 A JP 17334689A JP 17334689 A JP17334689 A JP 17334689A JP H0338036 A JPH0338036 A JP H0338036A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- brush
- conductive material
- wafer
- cleaning
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- Pending
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- Brushes (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ウェハ製造プロセスにおけろ異物除去全目
的としｔ：洗浄装置に関するものである。
的としｔ：洗浄装置に関するものである。
［従来の技術］
従来のウェハプロセスにおける洗浄装置としては、第３
図に示すようなスクラブ洗浄装置があげられる。
図に示すようなスクラブ洗浄装置があげられる。
第３図にわいて、１は被洗浄物である、例えば・フ工ハ
、２はこのウェハ１のスクラブｌ先浄時に１史川されろ
ブラシである。なお、このブラシ２は両端ｒイけでｈ
＜ 、中央部全台め第４図に示すＪうに全体にあり、そ
の材料としては、例えばレーヨンやアクリル、またはナ
イロンなどが１史用されている。
、２はこのウェハ１のスクラブｌ先浄時に１史川されろ
ブラシである。なお、このブラシ２は両端ｒイけでｈ
＜ 、中央部全台め第４図に示すＪうに全体にあり、そ
の材料としては、例えばレーヨンやアクリル、またはナ
イロンなどが１史用されている。
次に動作について説明する。
ウェハ製造プロセスにおいて、ウェハ表面に付着する異
物は、パターン欠損、特性劣化などを誘発し、歩留り低
下を引き起こす。それらを低減。
物は、パターン欠損、特性劣化などを誘発し、歩留り低
下を引き起こす。それらを低減。
防止するために酸などによるウェット洗浄、プランを用
いたスクラブ洗浄を実施する乙とが必要となっている。
いたスクラブ洗浄を実施する乙とが必要となっている。
従来、スクラブ洗浄においては、ブラシ材にアクリルや
レーヨン、またはナイロンなどを直接プラン材料とし、
このブラシ材料で形成されたブラシー２を第４図のよう
にウェハ１面に接触させ、異物除去を実施していた。ま
た、ウェハ１面を親水性にして除去効果を高めたり、静
電気発生を抑制するため、洗浄に用いる純水の比抵抗を
下げるためのＣＯ２バブリング、金属イオン、例えばＭ
ｇイオンなどを用い、ウェハ１やブラシ２の帯電を防止
していた。
レーヨン、またはナイロンなどを直接プラン材料とし、
このブラシ材料で形成されたブラシー２を第４図のよう
にウェハ１面に接触させ、異物除去を実施していた。ま
た、ウェハ１面を親水性にして除去効果を高めたり、静
電気発生を抑制するため、洗浄に用いる純水の比抵抗を
下げるためのＣＯ２バブリング、金属イオン、例えばＭ
ｇイオンなどを用い、ウェハ１やブラシ２の帯電を防止
していた。
しかしながら、上記のように構成された従来の洗浄装置
においては、ブラシ材自身の帯電や被洗浄物の帯電を防
止するには不十分であり、ＣＯ２バブリングや金属イオ
ンの使用は有機異物の増加、金属残渣などを発生させ、
新たな歩留り低下を引き起こすなどの問題点があった。
においては、ブラシ材自身の帯電や被洗浄物の帯電を防
止するには不十分であり、ＣＯ２バブリングや金属イオ
ンの使用は有機異物の増加、金属残渣などを発生させ、
新たな歩留り低下を引き起こすなどの問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するｔコめにな
されたものであり、プラン材や被洗浄物への帯電を防止
するとともに、洗浄工程を簡略化した洗浄装置を得るこ
とを目的とする。
されたものであり、プラン材や被洗浄物への帯電を防止
するとともに、洗浄工程を簡略化した洗浄装置を得るこ
とを目的とする。
この発明に係る洗浄装置は、スクラブ洗浄時に用いるブ
ラシを導電性物質により構成し、かつ前記ブラシを接地
したものである。
ラシを導電性物質により構成し、かつ前記ブラシを接地
したものである。
この発明による洗浄装置においてζよ、ブラシ材が導電
性物質であるため、被洗浄物の電荷はブラシ材を通し除
去されるため、帯電によるダメージ・を低減させること
ができる。
性物質であるため、被洗浄物の電荷はブラシ材を通し除
去されるため、帯電によるダメージ・を低減させること
ができる。
以下、この発明の一実施例全第１図について説明する。
第１図において、１は被洗７Ｄ物であるウェハ、２０は
プランで、このブラシ２０は、ブラシ材２］として導電
性物質、例えばアクリル、レーＵシなどにカーボンを含
んだ素材（金属ブラシ（柔素材））が使・用され、この
導電性物質を経由し、接地電極３に接地される。
プランで、このブラシ２０は、ブラシ材２］として導電
性物質、例えばアクリル、レーＵシなどにカーボンを含
んだ素材（金属ブラシ（柔素材））が使・用され、この
導電性物質を経由し、接地電極３に接地される。
次に動作について説明する６゜
ブラシ２０を直接ウエノ）１表面に接触させ、異物除去
を実施する方式は、従来技術と同様であるが、係る工程
において発生した電荷は、ブラシ材２］に使用された導
電性物質全通し除去される。
を実施する方式は、従来技術と同様であるが、係る工程
において発生した電荷は、ブラシ材２］に使用された導
電性物質全通し除去される。
上記のような方法によれば、ブラシ祠２１．ウェハ１へ
の電荷集中を発生させるとと紅へ、洗浄工程において、
異物除去とと右に、スクラブ時まｔコは前工程において
発生した電荷除去が可能となる。
の電荷集中を発生させるとと紅へ、洗浄工程において、
異物除去とと右に、スクラブ時まｔコは前工程において
発生した電荷除去が可能となる。
なお、この発明の他の実施例として、７ｒラン材２１の
それぞれ令弟２図に模式的に示すように、低発塵体の被
膜２２でコーティングすることによりスクラブ時の発塵
を防止することができる。
それぞれ令弟２図に模式的に示すように、低発塵体の被
膜２２でコーティングすることによりスクラブ時の発塵
を防止することができる。
なお、上記実施例では、被洗浄体としてウェハについて
述べたが、マスクなどへの転用も可能である。
述べたが、マスクなどへの転用も可能である。
以上説明したように、この発明は、ブラシを導電性物質
により構成し、かつ前記ブラシを接地したので、洗浄工
程で発生する電荷は直ちに除去されろことから、被洗浄
物の帯電に上るグメージ令低減でき、歩留りを向上させ
ることができろ。
により構成し、かつ前記ブラシを接地したので、洗浄工
程で発生する電荷は直ちに除去されろことから、被洗浄
物の帯電に上るグメージ令低減でき、歩留りを向上させ
ることができろ。
第１図はこの発明の一実施例を示す洗浄装置の構成図、
第２図はこの発明の他の実施例を示す洗浄装置の構成図
、第３図は従来の洗浄装置の構成図、第４図はスクラブ
洗浄状態の概略全量す斜視図である。 図において、１は被洗浄物であろウー【ハ、２゜はブラ
シ、２１はブラシ材、２２は被膜である。 なお、 各図中の同一符号は同一または相当部分を小す。
第２図はこの発明の他の実施例を示す洗浄装置の構成図
、第３図は従来の洗浄装置の構成図、第４図はスクラブ
洗浄状態の概略全量す斜視図である。 図において、１は被洗浄物であろウー【ハ、２゜はブラ
シ、２１はブラシ材、２２は被膜である。 なお、 各図中の同一符号は同一または相当部分を小す。
Claims (1)
- 被洗浄体の洗浄面にプランを接触させて異物を除去する
スクラブ洗浄装置において、前記ブラシを導電性物質に
より構成し、かつ前記ブラシを接地したことを特徴とす
る洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17334689A JPH0338036A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17334689A JPH0338036A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338036A true JPH0338036A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15958715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17334689A Pending JPH0338036A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0338036A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015032756A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置、基板の裏面洗浄方法及び洗浄機構 |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP17334689A patent/JPH0338036A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015032756A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置、基板の裏面洗浄方法及び洗浄機構 |
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