JPH0338191Y2 - - Google Patents

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JPH0338191Y2
JPH0338191Y2 JP1984164381U JP16438184U JPH0338191Y2 JP H0338191 Y2 JPH0338191 Y2 JP H0338191Y2 JP 1984164381 U JP1984164381 U JP 1984164381U JP 16438184 U JP16438184 U JP 16438184U JP H0338191 Y2 JPH0338191 Y2 JP H0338191Y2
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JP
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vacuum chamber
suction
partition
ultra
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JP1984164381U
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Description

【考案の詳細な説明】 (考案の属する技術分野) 紙、印画紙、フイルム、アルミニウム板、硝子
板、フイルター、フオトマスクなどで代表される
抑えを用いなく、かつ簡易に、かつ正確な固定に
用いられる、盤の内外に気圧差を設ける仕組の吸
着盤に関するものである。
(考案の技術的背景とその問題点) 先ず、吸着盤について少々の説明を加える。
吸着盤は、常に一定のサイズの被吸着物専用は
少く、多くは数種のサイズの被吸着物を吸着でき
る構造となつている。しかし、被吸着物と吸着に
供される孔が一致しないと、吸着が不完全となつ
たり、空気漏れが起きる。
従つてこの様な事が起きぬ為に、被吸着物と合
致する孔のみ吸着が起きる。この為に吸着盤の内
部は、一つ以上の真空室が設けられており、真空
室どうしの間は仕切で仕切られていて、その形状
は被吸着物と合致する様構成されている。
以下、従来の吸着盤の一例につき図面を用いて
説明をする。第3図は、従来例を示す正面図、第
4図は、第3図のB−B線の断面図である。
この吸着盤は、直方体の上面に相当する有孔板
10、直方体の下面に相当する底板61、直方体
の内部空間を有孔板10と垂直に区切る仕切3
0、仕切30により区切られる真空室40、真空
室40より空気を排気する真空ボンプ62、真空
ポンプ62と真空室40を繋ぐ吸引管63、吸引
管63の空気の流れを制御するコツク50よりな
る。
また、この直方体の内部を更に詳述すると、中
心点を一にする矩形のB5サイズの仕切31、矩
形のA4サイズの仕切32、矩形のB4サイズの仕
切33、矩形のA3サイズの仕切34が設けられ
ている。そして、矩形のB5サイズの仕切31に
より形成されている空間は、B5サイズ用真空室
41となつており、矩形のA4サイズの仕切32
と矩形のB5サイズの仕切31により形成されて
いる空間は、A4サイズ用真空室42となつてお
り、矩形のB4サイズの仕切33と矩形のA4サイ
ズの仕切32により形成されている空間は、B4
サイズ用真空室43となつており、矩形のA3サ
イズの仕切34との矩形B4サイズの仕切33に
より形成されている空間は、A3サイズ用真空室
44となつている。従つて本例の場合、A3サイ
ズの仕切34の中にB4サイズの仕切33があり、
B4サイズの仕切33の中にA4サイズの仕切32
があり、A4サイズの仕切32の中にB5サイズの
仕切31がある。また、B5サイズ用真空室41
の上面の有孔板10にB5サイズの孔21が、A4
サイズ用真空室42の上の有孔板10にA4サイ
ズ用孔22が、B4サイズ用真空室43の上面の
有孔板10にB4サイズ用の孔23が、A3サイズ
用真空室44の上面の有孔板10にA3サイズ用
の孔24が各々設けられている。そして、この
各々の真空室40は、真空ポンプ62と、吸着管
63を介して連結されている。また、最も小さい
B5サイズ用真空室41を除く他の真空室40に
はコツク50が個別に設けられている。それは、
A4サイズ用真空室42にはA4サイズ用コツク5
2が、B4サイズ用真空室43にはB4サイズ用コ
ツク53が、A3サイズ用真空室44にはA3サイ
ズ用コツク54が該当する。これとは別に、全体
用コツク51も設けられ、実質的にB5サイズの
真空室用コツク51も設けられ、実質的にB5サ
イズの真空室用コツクと同じ働きを目的として設
けられている。次に、上記吸着盤を用いて被吸着
物を吸着する様態を説明する。吸着に用いるとき
は予め真空ポンプ62を動かしておく。まず、
B5サイズの被吸着物を吸着する場合から説明す
ると、全体用コツク51のみを開き、他のコツク
は閉す、この事でB5サイズ用真空室41のみが
吸引され、B5サイズ用の孔21のみが働く。従
つてB5サイズの被吸着物が有孔板10上に吸着
される。また、A4サイズの被吸着物を吸着する
場合は、全体用コツク51とA4サイズ用コツク
52が開かれ、残りのB4サイズ用とコツク53
とA3サイズ用コツク54は閉される。この事で
A4サイズ用真空室42およびB5サイズ用真空室
41の二つの真空室が吸引される。この状態の場
合には、B5サイズ用の孔21のみならずA4用の
孔22も働くこととなる。これでA4サイズの被
吸着物が有孔板10上に吸着される。このように
して、B4サイズの被吸着物を吸着する場合には、
全体用コツク51とA4サイズ用コツク52とB4
サイズ用コツク53を開ければよい。そして更に
A3サイズの被吸着物を吸着する場合には、全部
のコツク50を開ければよい。
しかし、この従来例では有孔板10は単層であ
り、かつその有孔板10上に設けられている孔2
0は、平均1mm径である。従つて孔20は1個当
りの通気断面が大きく、真空ポンプ62により常
に真空室40を吸引していなければ被吸着物と有
孔板10との密接状態を維持することができな
い。また、孔20が大きい為に、有孔板10の単
位面積当りの孔20の数を減らす必要があつた。
このため、被吸着物を十分にならして、完全に密
着する様図つても、一部でたわみが生じていた。
この様なたわみを生じた場合、当該真空室を元の
常圧に戻して吸引し直して被吸着物を吸着し直す
ことになる。この事は、時間のロスと人の手間が
かかるのみならず、吸着への信頼性を下げていた
要因でもあつた。更に、被吸着物を吸着盤より外
すときも、位置ずれ等が発生していた。
この様な事は、孔を一様の大きさの微細孔とす
ることで一定の効果をあげ得る。しかし、各微細
孔の吸引力がそのまま緩衝されず吸引される。従
つて、その各吸引の影響がほぼそのまま被吸着物
を吸引する力となつてしまう。従つて、盤面均一
な吸引や解離が出来ず、被吸着物がたわんだまま
吸着される事がある。
(考案の目的) 本考案の目的とするところは、被吸着物を吸着
するときにたわむ事なく完全に被吸着物を密着で
き、これにより真空室を常圧にいつたん戻して吸
引し直し、被吸着物を吸着し直す等の時間のロス
や人の手間をかけたり、吸着への信頼性を下落さ
せる事なく、真空ポンプが止つても被吸着物との
密着が容易に解けることなく、被吸着物を吸着盤
から外すときも位置ずれ等が起きない吸着盤を提
供することにある。
(考案の概要) 上記目的を達成する為になされた本考案は、被
吸着物を吸着する為の孔がある有孔板が上板であ
る直方体と、少なくとも一つある真空室と、直方
体の外部にある真空ポンプと、各々の真空室と真
空ポンプを繋ぐ吸引管と、吸引管に設けられたコ
ツクからなる吸着盤に於いて、少くとも超微細孔
を持つ超微細孔層と、そのすぐ内側に微細孔を持
つ微細孔層の少くとも2層のセラミツクから有孔
板が構成されている事を特徴とする吸着盤であ
る。
(考案の詳述) 本考案の一実施例を図面を用いて詳細に説明す
る。
第1図は、本考案の一実施例を示す平面図であ
り、第2図は、第1図のA−A線の断面図であ
る。
この吸着盤は、直方体の上面に相当する有孔板
10、直方体の下面に相当する底板61、直方体
の内部空間を有孔板10と垂直に区切る仕切3
0、仕切30により区切られる真空室40、真空
室40より空気を排気する真空ポンプ62、真空
ポンプ62と真空室40を繋ぐ吸引管63、吸引
管63の空気の流れを制御するコツク50よりな
る。
また、この直方体の内部を更に詳述すると、中
心点を一にする矩形のB5サイズの仕切31、矩
形のA4サイズの仕切32、矩形のB4サイズの仕
切33、矩形のA3サイズの仕切34が設けられ
ている。この場合、各々の仕切30は直方体の上
面まで延び、有孔板10をも区切つている。その
各々の区切られた空間については、矩形のB5サ
イズの仕切31により形成されている空間は、
B5サイズ用真空室41となつており、矩形のA4
サイズの仕切32と矩形のB5サイズの仕切31
により形成されている空間は、A4サイズ用真空
室42となつており、矩形のB4サイズの仕切3
3と矩形のA4サイズの仕切32により形成され
ている空間は、B4サイズ用真空室43となつて
おり、矩形のA3サイズの仕切34との矩形B4サ
イズの仕切33により形成されている空間は、
A3サイズ用真空室44となつている。従つて、
本例の場合、A3サイズの仕切34の中にB4サイ
ズの仕切33があり、B4サイズの仕切33の中
にA4サイズの仕切32があり、A4サイズの仕切
32の中にB5サイズの仕切31がある。また、
B5サイズ用真空室41の上面の有孔板10にB5
サイズ用の孔21が、A4サイズ用真空室42の
上面の有孔板10にA4サイズ用の孔22が、B4
サイズ用真空室43の上面の有孔板10にB4サ
イズ用の孔23が、A3サイズ用真空室44の上
面の有孔板10にA3サイズ用の孔24が各々設
けられている。そして、この各々の真空室40
は、真空ポンプ62と吸引管63を介して連結さ
れている。また、最も小さいB5サイズ用真空室
41を除く他の真空室40にはコツク50が個別
に設けられている。それは、A4サイズ用真空室
42にはA4サイズ用コツク52が、B4サイズ用
真空室43にはB4サイズ用コツク53が、A3サ
イズ用真空室44にはA3サイズ用コツク54が
該当する。これとは別に、全体用コツク51も設
けられ、実質的にB5サイズの真空室用コツクと
同じ働きを目的として設けられている。
次に、上記吸着盤を用いて被吸着物を吸着する
様態を説明する。吸着に用いるときは予め真空ポ
ンプ62を動かしておく。まず、B5サイズの被
吸着物を吸着する場合から説明すると、全体用コ
ツク51のみを開き、他のコツクは閉す。この事
でB5サイズ用真空室41のみが吸着され、B5サ
イズ用の孔21のみが働く。従つてB5サイズの
被吸着物が有孔板10上に吸着される。また、
A4サイズの被吸着物を吸着する場合は、全体用
コツク51とA4サイズ用コツク52が開かれ、
残りのB4サイズ用コツク53とA3サイズ用コツ
ク54は閉ざされる。この事でA4サイズ用真空
室42およびB5サイズ用真空室41の二つの真
空室が吸引される。この状態の場合には、B5サ
イズ用の孔21のみならずA4用の孔22も働く
こととなる。これでA4サイズの被吸着物が有孔
板10上に吸着される。このようにして、B4サ
イズの被吸着物を吸着する場合には、全体用コツ
ク51とA4サイズ用コツク52とB4サイズ用コ
ツク53を開ければよい。そして更にA3サイズ
の被吸着物を吸着する場合には、全部のコツク5
0を開ければよい。この場合、従来例とは相違し
て、有孔板10は2層から構成されている。各々
は真空室40側に微細孔層11、外側に超微細孔
層12である。そのうち微細孔層11は径50〜
200μの微細孔を持つセラミツクシートからなつ
ており、厚さは20mmのものである。また、超微細
孔層12は径1〜7μの超微細孔を持つセラミツ
クシートからなつており、厚さは5mmのものであ
る。こられの二つの層は、密着してある。但し、
セラミツクシートの有効板10は仕切30によつ
て真空室40ごとに仕切られているが、これはセ
ラミツクの孔20が3次元的に設けられているた
めである。これにより互いの真空室40の空気が
移動することがなくなる。
これにより、真空室40が真空ポンプ62によ
つて吸引されると、先に微細孔層11の微細孔内
の空気が吸引される。このときに微細孔層11は
セラミツクで出来ている為に空気を吸引したとし
ても微細孔の大きさに変化が無い為に微細孔内は
瞬間的に減圧状態になる。また、この微細孔層1
1の先には同じくセラミツクで出来ている超微細
孔層12があり、繋がつている。この超微細孔層
12もセラミツクで出来ている為、空気を吸引し
たとしても超微細孔の大きさに変化が無い。従つ
て、微細孔層11と超微細孔層12の関係も変化
しない。そうすると、空気を吸引すると、その吸
引による影響はまず微細孔に及ぶ、これにより微
細孔内が減圧し、この影響が超微細孔に及ぶ、こ
のとき微細孔に比べて超微細孔のほうが孔が微細
である為、微細孔による吸引の影響はすぐ超微細
孔に及ぶ。その原因としては、絶対的に孔の体積
が違うという事である。たとえば、微細孔と超微
細孔とを同じ量吸引したとすれば、微細孔ではあ
る程度の吸引でないとその影響が現れないのに対
し、超微細孔ではその中の空気がすぐに排気さ
れ、すぐに影響が現れる。それに対して、超微細
孔の大きさに比べて微細孔の大きさは格段に大き
い。従つて、超微細孔の影響は、なかなか実際の
影響としては現れにくい。この場合、実際に被吸
着盤が引かれるのは、超微細孔の影響によるもの
であるが、個々の超微細孔の吸引は超微細孔が直
接引かれるのと違つて、微細孔による緩衝作用が
働き、超微細孔であるにも拘わらず微細孔の吸引
の影響分布となり、その容積の違いによる緩衝作
用となる。また、これとは逆に送気の場合でも、
同じ働きが起きる。
また、この状態では、微細孔一層の場合とも異
なる。大きな違いは、微細孔の吸引の影響が超微
細孔により遮断される構造となつている為に、そ
の影響が即座にかつストレートに現れる訳ではな
い点にある。その事により、盤面均一な吸引や解
離が出来、たわむ事なく被吸着物の処理が可能に
なる。実際、超微細孔層12の超微細孔より、減
圧状態にある微細孔へ空気が吸い込まれる。この
とき、超微細孔は密度が高い為に均一に超微細孔
が減圧され、被吸着物が吸着されるときに密着さ
れる。さらに、真空ポンプ62を仮に止まつても
被吸着物がたわみなく密着した場合には、被吸着
物と有孔板10との間に空気が入る余地がない為
に密着状態は保持される。
尚、吸着盤より被吸着物を解離させる場合を説
明する。このときは、真空室40内に真空ポンプ
62より空気を送風して加圧する。これにより圧
力が微細孔に伝わり、更に超微細孔まで伝達して
空気を吹き出す。この時、急激に真空室40を加
圧しても微細孔や超微細孔が小さく、しかも微細
孔が超微細孔より微細なので、空気抵抗となり、
有孔板10上に空気が吹き出すときは均一に吹き
出し、被吸着物が吸着板上に2次元的に動かず容
易にわずか持ち上つた状態となつている。
それに比べ、例えば超微細孔がスポンジなどの
体積変形が起こるものでは、剥離性能や劣化とい
う問題があるだけではなく、吸引のときと送気の
ときで孔の大きさが相違してしまうという欠陥が
あり、性能が低下する。例えば、吸引ではこのス
ポンジ自体が吸引されて潰れてしまい、吸気の影
響が現れにくい。その逆に、送気の場合、空気の
圧力で孔が拡張し送気した空気の分がスポンジ自
体で吸収して膨張してしまい、剥離が的確に出来
ない。
尚、上述の一実施例において、真空室を切切に
より複数個設けた構成としたが、本考案はこの構
成に限るものではない。また、本考案では有孔層
を2層のみの構成としたが、本考案は、この構成
に限るものではない事は勿論である。また、本考
案では微細孔層および超微細孔層の材質をセラミ
ツクとしているが、その一方もしくは双方の材質
はセラミツクに限るものでなく、孔もまた3次元
的な孔である構成に限るものではない事は勿論で
ある。
しかし、このように孔が3次元的な孔である構
成では、孔と孔が連結している構造となり、均一
効果が増す。
その他、本考案は本考案の要旨を変えない範囲
で種々変形実施可能な事は勿論である。
(考案の効果) 本考案により、吸着盤が被吸着物を吸着すると
きにたわむ事なく完全に被吸着物を密着でき、こ
れにより真空室を常圧にいつたん戻して吸引し直
し、被吸着物を吸着し直す等の時間のロスや人の
手間をかけたり、吸着への信頼性を下落させる事
がなく、真空ポンプが止つても被吸着物との密着
が容易に解けることのなく、被吸着物を吸着板か
ら外すときも位置ずれ等が起きないものとなつ
た。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の一実施例を示す平面図であ
り、第2図は、第1図のA−A線の断面図であ
る。第3図は、従来例を示す平面図であり、第4
図は、第3図のB−B線の断面図である。 10……有孔板、11……微細孔層、12……
起微細孔層、20……孔、21……B5サイズ用
の孔、22……A4サイズ用の孔、23……B4サ
イズ用の孔、24……A3サイズ用の孔、30…
…仕切、31……B5サイズの仕切、32……A4
サイズの仕切、33……B4サイズの仕切、34
……A3サイズの仕切、40……真空室、41…
…B5サイズ用真空室、42……A4サイズ用真空
室、43……B4サイズ用真空室、44……A3サ
イズ用真空室、50……コツク、51……B5サ
イズ用コツク、52……A4サイズ用コツク、5
3……B4サイズ用コツク、54……A3サイズ用
コツク、61……底板、62……真空ポンプ、6
3……吸引管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 被吸着物を吸収する為の孔がある有孔板が上板
    である直方体と、少くとも一つある真空室と、直
    方体の外部にある真空ポンプと、各々の真空室と
    真空ポンプを繋ぐ吸引管と、吸引管に設けられた
    コツクからなる吸着盤に於いて、少なくとも超微
    細孔を持つ超微細孔層と、そのすぐ内側に微細孔
    を持つ微細孔層の少くとも2層のセラミツクから
    有孔板が構成されている事を特徴とする吸着盤。
JP1984164381U 1984-10-30 1984-10-30 Expired JPH0338191Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984164381U JPH0338191Y2 (ja) 1984-10-30 1984-10-30

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984164381U JPH0338191Y2 (ja) 1984-10-30 1984-10-30

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Publication Number Publication Date
JPS6178153U JPS6178153U (ja) 1986-05-26
JPH0338191Y2 true JPH0338191Y2 (ja) 1991-08-13

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ID=30722243

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JP1984164381U Expired JPH0338191Y2 (ja) 1984-10-30 1984-10-30

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0635231Y2 (ja) * 1988-11-09 1994-09-14 興和株式会社 画像記録装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5512382Y2 (ja) * 1973-06-22 1980-03-18
JPS51101474U (ja) * 1975-02-10 1976-08-14

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