JPH0338629U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0338629U JPH0338629U JP9980389U JP9980389U JPH0338629U JP H0338629 U JPH0338629 U JP H0338629U JP 9980389 U JP9980389 U JP 9980389U JP 9980389 U JP9980389 U JP 9980389U JP H0338629 U JPH0338629 U JP H0338629U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- liquid
- carrier
- large number
- semiconductor wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
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- Weting (AREA)
Description
第１図は本考案に係る液処理装置の縦断面図、
第２図は同じく平面図、第３図は変形例を示す平
面図である。第４図は従来の液処理装置の縦断面
図である。 ２……処理液、７……キヤリア、８……半導体
ウエーハ、１１……液槽、１４……駆動機構。
第２図は同じく平面図、第３図は変形例を示す平
面図である。第４図は従来の液処理装置の縦断面
図である。 ２……処理液、７……キヤリア、８……半導体
ウエーハ、１１……液槽、１４……駆動機構。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 多数枚の半導体ウエーハを処理液内に浸漬する
液処理装置において、 縦断面形状を半円形にし、底部より処理液を供
給し表面よりオーバーフローさせて処理液を循還
させる液槽と、 多数枚の半導体ウエーハを整列収納して上記処
理液内に浸漬するキヤリアと、 上記キヤリアを処理液の内または内と外とに亘
り往復或いは回転運動させる駆動機構とを具備し
たことを特徴とする液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9980389U JPH0338629U (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9980389U JPH0338629U (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338629U true JPH0338629U (ja) | 1991-04-15 |
Family
ID=31648842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9980389U Pending JPH0338629U (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0338629U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012064646A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置 |
-
1989
- 1989-08-25 JP JP9980389U patent/JPH0338629U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012064646A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置 |
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