JPS602830U - 半導体ウエハのエツチング槽 - Google Patents
半導体ウエハのエツチング槽Info
- Publication number
- JPS602830U JPS602830U JP9461383U JP9461383U JPS602830U JP S602830 U JPS602830 U JP S602830U JP 9461383 U JP9461383 U JP 9461383U JP 9461383 U JP9461383 U JP 9461383U JP S602830 U JPS602830 U JP S602830U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- wafer etching
- etching tank
- wafer
- etching bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は、複数の半導体ウェハを収納したウェハキャリ
ア外観を示す斜視図、第２図は従来のウェハエツチング
装置を示す側面図で、第３図は本 −考案によるウェハ
エツチング装置の一実施例を示す側面図である。 なお図において、１・・・・・・ウェハキャリア、２・
・・・・・半導体ウェハ、３：・・・・・上下機構、４
・・・・・・エツチング槽、５・・・・・・薄板、６・
・・・・・水平移動機構、７・・・・・・保持バー、８
・・・・・・回転ローラ、９・・曲ベルト、１０・・・
・・・駆動モータ、である。
ア外観を示す斜視図、第２図は従来のウェハエツチング
装置を示す側面図で、第３図は本 −考案によるウェハ
エツチング装置の一実施例を示す側面図である。 なお図において、１・・・・・・ウェハキャリア、２・
・・・・・半導体ウェハ、３：・・・・・上下機構、４
・・・・・・エツチング槽、５・・・・・・薄板、６・
・・・・・水平移動機構、７・・・・・・保持バー、８
・・・・・・回転ローラ、９・・曲ベルト、１０・・・
・・・駆動モータ、である。
Claims (1)
- ウェハキャリアに収納した半導体ウェハをエツチングす
るための半導体ウェハのエツチング槽において、前記半
導体ウェハが前記ウェハキャリア底部間隙をとうして接
触する回転ローラを前記エツチング槽内に設けたことを
特徴とする半導体ウェハのエツチング槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9461383U JPS602830U (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 半導体ウエハのエツチング槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9461383U JPS602830U (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 半導体ウエハのエツチング槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS602830U true JPS602830U (ja) | 1985-01-10 |
Family
ID=30226388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9461383U Pending JPS602830U (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 半導体ウエハのエツチング槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602830U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61170035A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 高精度エツチング方法 |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP9461383U patent/JPS602830U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61170035A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 高精度エツチング方法 |
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