JPH0339965B2 - - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 9
- -1 monosilane Chemical compound 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 150000007975 iminium salts Chemical class 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LVRCYPYRKNAAMX-UHFFFAOYSA-M bis(triphenylphosphine)iminium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)N=P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LVRCYPYRKNAAMX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 3
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine hydrochloride Chemical compound Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUCQPHINKBNKRU-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=C(P)C=C1 HUCQPHINKBNKRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJJKYKYXZZCJEE-UHFFFAOYSA-N 2,2-diphenylethylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CP)C1=CC=CC=C1 YJJKYKYXZZCJEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,2,4-oxadiazol-5-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NOC(=N1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000581652 Hagenia abyssinica Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- GGNALUCSASGNCK-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;propan-2-ol Chemical compound O=C=O.CC(C)O GGNALUCSASGNCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylethylamine Chemical compound CCN(C)C DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010449 novaculite Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 229920001627 poly(4-methyl styrene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical class O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Chemical group 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 235000012222 talc Nutrition 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Catalysts (AREA)
Description
発明の技術的分野
本発明はクロロ水素化シランの不均化および/
又は再分配反応によるシラン類、特にモノシラン
および/又はクロロシランの製造方法に関する。 従来の技術 シラン、特にモノシランは半導体、アモルフア
ス太陽電池、ICデバイスや感光体等に有用な素
原料である。クロロシランあるいはモノシラン
は、次式の如く、クロロシランを原料に不均化も
しくは再分配反応により得られることが知られて
いる。そしてこれらの反応に有用な触媒の開発が
行われている。 2SiHCl3SiH2Cl2+SiCl4 2SiH2Cl2SiHCl3+SiH3Cl 2SiH3ClSiH4+SiH2Cl2 上記の触媒としてはアミノ基等を含む不溶性の
固体陰イオン交換樹脂(特開昭50−119798号公
報)、トリメチルアミン又はジメチルエチルアミ
ン(特開昭59−121110号公報)、パラジウム(特
開昭54−59230号公報)、無機固体塩基(特開昭59
−174515号公報)α−オキソアミン基を含む化合
物(特開昭59−54617号公報)、テトラアルキル尿
素(特公昭55−14046号公報)炭化水素基でN−
置換したα−ピロリドン(特公昭55−14045号公
報)、スルホン酸基を有する陽イオン交換体(特
開昭59−164614号公報)、アミノアルコールとシ
リカの反応生成物(特開昭59−156907号公報)な
どがある。また特に反応生成物と触媒の分離が容
易な不均一系触媒が注目されている。 発明が解決しようとする問題点 クロロ水素化シランの不均化および/又は再分
配反応に有用な触媒はいくつか提案されている
が、特に従来の固体陰イオン交換樹脂系の触媒は
耐熱性、機械的強度に劣り、イオン交換樹脂特有
の膨潤などの問題があり、活性、触媒寿命も満足
するものではなかつた。一方ルイス酸やアミン類
等の均一系触媒は生成物と触媒の分離に多大のエ
ネルギーを要する。 問題を解決する為の手段 発明の要旨 本発明は、一般式(R3P)2N・X(式中、R
は互いに同じかあるいは異つても良いC1〜C10の
炭化水素基で酸素原子やハロゲン原子を含有して
いてもよく、飽和でも不飽和でもよい。Xは
F-、Cl-、Br-、I-、CN-、N3 -、BF4 -、BH4 -、
OH-、アルコキシド、アセテート等のモノアニ
オンである。)で表わされるビスホスフインイミ
ニウム塩を触媒成分として用い、SiHnCl4-o(た
だし、1≦n≦3)で表わされるクロロシランを
不均化および/又は再分配させることを特徴とす
るシラン類、特にモノシラン、および/又はクロ
ロシランの製造方法に関するものである。 該ビスホスフインイミニウム塩は適当な溶媒に
溶かし、均一系反応触媒として、あるいは気相不
均一系反応触媒として、使用することができる。
前者の場合、溶媒としてクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、等のハロゲン化芳香族化合物、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、ク
ロロホルム、塩化メチレン等に代表されるハロゲ
ン化炭化水素、アセトニリル、ベンゾニトリル等
のニトリル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物等がある。又、クロロシラン類自
体を使用することができる。 後者の場合、ビスホスフインイミニウム塩を多
孔性固体表面に分散担持して用いることが好まし
く、この目的に適する多孔性固体としては、活性
炭、グラフアイト、モレキユラーシービングカー
ボン等の炭素質固体、スチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体、ポリ(p−メチルスチレン)及びこ
れらのハロゲン化物の様なポリスチレン構造を有
する高分子固体、ポリエチレン、ポリプロピレン
に代表される非芳香族系オレフイン重合体、及び
それらのハロゲン化物、主鎖に酸素、窒素、イオ
ウ、珪素等のヘテロ原子を含む有機高分子、ポリ
シキサン類、炭化珪素、炭化チタニウム、炭化ホ
ウ素等の炭化物、窒化珪素、窒化ホウ素、窒化ジ
ルコニウム等の窒化物、石英、ノバキユライト、
コロイダルシリカ、シリカエアロゲル等のシリ
カ、カオリン、タルクウオラストナイト、石綿、
珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、ゼオライト
等の珪酸塩、チタニア、ジルコニア等の金属酸化
物を用いることができる。又、その表面積は2〜
2000m2/gのものが用いられる。 ビスホスフインイミニウム塩を多孔性固体に担
持する方法としては公知の含浸法が適している。
溶媒としては、ビスホスフインイミニウム塩を溶
かすもので多孔性固体と親和性を有し、かつ適度
な揮発性を持つ液体が好ましい。特に適するもの
はメタノール、エタノール等のアルコール類、
水、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類及びこれらの混合物である。 ビスホスフインイミニウム塩、(R3P)2NX
は公知の方法で調製することができる。即ち、ホ
スフイン、塩素、ヒドロキシルアミン塩酸塩とか
らつくることができる。例えば、トリフエニルホ
スフイン(Ph3P)と塩素との反応によりPh3PCl2
を得(Ph3P+Cl2→Ph3PCl2)、これとH2NOH・
HCl及びPh3Pとの反応により、ハロゲン化ビス
ホスフインイミニウムを得る(Ph3PCl2+Ph3P+
H2NOH・HCl→(Ph3P)2NCl+Ph3P=O
+4HCl)。この合成方法は例えば、「イノーガニ
ツク・シンセシズ」第15巻 85頁〜86頁に記載さ
れている。 触媒として使用されるビスホスフインイミニウ
ム塩を例示すると次の通りである。 ビス(トリフエニルホスフイン)イミニウムク
ロリド、同ポロヒドリド、または同テトラフルオ
ロボレイト、 ビス〔トリ(p−トリルホスフイン〕イミニウ
ムアジド、 ビス(ジフエニルエチルホスフイン)イミニウ
ムクロリド、 ビス(フエニルジメチルホスフイン)イミニウ
ムクロリド、 ビス(トリブチルホスフイン)イミニウムクロ
リド、 ビス(トリエチルホスフイン)イミニウムクロ
リド、 ビス(トリシクロヘキシルホスフイン)イミニ
ウムクロリド 特に、好ましいのは(R3P)3N・Xにおい
て、Rがフエニル、トリル等の芳香族基であるビ
ス(トリアリールホスフイン)イミニウム塩であ
る。 また不均化および/又は再分配反応の条件は、
反応温度0℃〜300℃、好ましくは10℃〜200℃、
反応時間(接触時間)0.1〜20秒、好ましくは、
0.2〜10秒、反応圧力は常圧〜50Kg/cm2、通常常
圧〜20Kg/cm2で行なわれる。フイードとなるのは
トリクロロシラン、ジクロロシラン、モノクロロ
シランおよびこれらの混合物であり、不活性流体
で希釈してもよい。 発明の効果 本発明で用いられるビスホスフインイミニウム
塩触媒は従来知られている触媒(第4アンモニウ
ム塩、あるいは第4ホスホニウム塩)に比べ触媒
成分モル当りの活性が高く、従つて、比較的低温
での反応にも使用でき更に、多孔性固体に担持し
て不均一系反応も行える為、触媒と生成物の分離
操作が不要となる。 実施例 1 ビス(トリフエニルホスフイン)イミニウムク
ロリド、〔(C6H5)3P〕2N+Cl-、(アルドリツチ
製)〕587mg(1.02mmole)を5.8mlのメタノール
−水(1/1)混合液に溶かし、この溶液に5.8
gのシリカ(フジダビソン社製シリカゲル、ID
タイプ、表面積350m2/g、30〜60メツシユを空
気中、120℃、12時間乾燥したもの)を加えてよ
く撹拌した。風乾後空気中100℃で12時間乾燥し
て触媒を調製した。 この触媒0.64g(2.0ml)をガラス製気相流通
反応装置(内径10mm)に充てんし、窒素気流中
110℃で1時間加熱した後反応層を所定温度に保
ちながら常圧下原料ガス(SiHCl3/N2、モル比
30/70)フイードとして反応を行なわしめた。反
応条件整定後1時間の生成物をヘリウムをキヤリ
ヤガスとしてガスクロマトグラフ(TCD)で分
析した。結果を表−1に示した。
又は再分配反応によるシラン類、特にモノシラン
および/又はクロロシランの製造方法に関する。 従来の技術 シラン、特にモノシランは半導体、アモルフア
ス太陽電池、ICデバイスや感光体等に有用な素
原料である。クロロシランあるいはモノシラン
は、次式の如く、クロロシランを原料に不均化も
しくは再分配反応により得られることが知られて
いる。そしてこれらの反応に有用な触媒の開発が
行われている。 2SiHCl3SiH2Cl2+SiCl4 2SiH2Cl2SiHCl3+SiH3Cl 2SiH3ClSiH4+SiH2Cl2 上記の触媒としてはアミノ基等を含む不溶性の
固体陰イオン交換樹脂(特開昭50−119798号公
報)、トリメチルアミン又はジメチルエチルアミ
ン(特開昭59−121110号公報)、パラジウム(特
開昭54−59230号公報)、無機固体塩基(特開昭59
−174515号公報)α−オキソアミン基を含む化合
物(特開昭59−54617号公報)、テトラアルキル尿
素(特公昭55−14046号公報)炭化水素基でN−
置換したα−ピロリドン(特公昭55−14045号公
報)、スルホン酸基を有する陽イオン交換体(特
開昭59−164614号公報)、アミノアルコールとシ
リカの反応生成物(特開昭59−156907号公報)な
どがある。また特に反応生成物と触媒の分離が容
易な不均一系触媒が注目されている。 発明が解決しようとする問題点 クロロ水素化シランの不均化および/又は再分
配反応に有用な触媒はいくつか提案されている
が、特に従来の固体陰イオン交換樹脂系の触媒は
耐熱性、機械的強度に劣り、イオン交換樹脂特有
の膨潤などの問題があり、活性、触媒寿命も満足
するものではなかつた。一方ルイス酸やアミン類
等の均一系触媒は生成物と触媒の分離に多大のエ
ネルギーを要する。 問題を解決する為の手段 発明の要旨 本発明は、一般式(R3P)2N・X(式中、R
は互いに同じかあるいは異つても良いC1〜C10の
炭化水素基で酸素原子やハロゲン原子を含有して
いてもよく、飽和でも不飽和でもよい。Xは
F-、Cl-、Br-、I-、CN-、N3 -、BF4 -、BH4 -、
OH-、アルコキシド、アセテート等のモノアニ
オンである。)で表わされるビスホスフインイミ
ニウム塩を触媒成分として用い、SiHnCl4-o(た
だし、1≦n≦3)で表わされるクロロシランを
不均化および/又は再分配させることを特徴とす
るシラン類、特にモノシラン、および/又はクロ
ロシランの製造方法に関するものである。 該ビスホスフインイミニウム塩は適当な溶媒に
溶かし、均一系反応触媒として、あるいは気相不
均一系反応触媒として、使用することができる。
前者の場合、溶媒としてクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、等のハロゲン化芳香族化合物、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、ク
ロロホルム、塩化メチレン等に代表されるハロゲ
ン化炭化水素、アセトニリル、ベンゾニトリル等
のニトリル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物等がある。又、クロロシラン類自
体を使用することができる。 後者の場合、ビスホスフインイミニウム塩を多
孔性固体表面に分散担持して用いることが好まし
く、この目的に適する多孔性固体としては、活性
炭、グラフアイト、モレキユラーシービングカー
ボン等の炭素質固体、スチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体、ポリ(p−メチルスチレン)及びこ
れらのハロゲン化物の様なポリスチレン構造を有
する高分子固体、ポリエチレン、ポリプロピレン
に代表される非芳香族系オレフイン重合体、及び
それらのハロゲン化物、主鎖に酸素、窒素、イオ
ウ、珪素等のヘテロ原子を含む有機高分子、ポリ
シキサン類、炭化珪素、炭化チタニウム、炭化ホ
ウ素等の炭化物、窒化珪素、窒化ホウ素、窒化ジ
ルコニウム等の窒化物、石英、ノバキユライト、
コロイダルシリカ、シリカエアロゲル等のシリ
カ、カオリン、タルクウオラストナイト、石綿、
珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、ゼオライト
等の珪酸塩、チタニア、ジルコニア等の金属酸化
物を用いることができる。又、その表面積は2〜
2000m2/gのものが用いられる。 ビスホスフインイミニウム塩を多孔性固体に担
持する方法としては公知の含浸法が適している。
溶媒としては、ビスホスフインイミニウム塩を溶
かすもので多孔性固体と親和性を有し、かつ適度
な揮発性を持つ液体が好ましい。特に適するもの
はメタノール、エタノール等のアルコール類、
水、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類及びこれらの混合物である。 ビスホスフインイミニウム塩、(R3P)2NX
は公知の方法で調製することができる。即ち、ホ
スフイン、塩素、ヒドロキシルアミン塩酸塩とか
らつくることができる。例えば、トリフエニルホ
スフイン(Ph3P)と塩素との反応によりPh3PCl2
を得(Ph3P+Cl2→Ph3PCl2)、これとH2NOH・
HCl及びPh3Pとの反応により、ハロゲン化ビス
ホスフインイミニウムを得る(Ph3PCl2+Ph3P+
H2NOH・HCl→(Ph3P)2NCl+Ph3P=O
+4HCl)。この合成方法は例えば、「イノーガニ
ツク・シンセシズ」第15巻 85頁〜86頁に記載さ
れている。 触媒として使用されるビスホスフインイミニウ
ム塩を例示すると次の通りである。 ビス(トリフエニルホスフイン)イミニウムク
ロリド、同ポロヒドリド、または同テトラフルオ
ロボレイト、 ビス〔トリ(p−トリルホスフイン〕イミニウ
ムアジド、 ビス(ジフエニルエチルホスフイン)イミニウ
ムクロリド、 ビス(フエニルジメチルホスフイン)イミニウ
ムクロリド、 ビス(トリブチルホスフイン)イミニウムクロ
リド、 ビス(トリエチルホスフイン)イミニウムクロ
リド、 ビス(トリシクロヘキシルホスフイン)イミニ
ウムクロリド 特に、好ましいのは(R3P)3N・Xにおい
て、Rがフエニル、トリル等の芳香族基であるビ
ス(トリアリールホスフイン)イミニウム塩であ
る。 また不均化および/又は再分配反応の条件は、
反応温度0℃〜300℃、好ましくは10℃〜200℃、
反応時間(接触時間)0.1〜20秒、好ましくは、
0.2〜10秒、反応圧力は常圧〜50Kg/cm2、通常常
圧〜20Kg/cm2で行なわれる。フイードとなるのは
トリクロロシラン、ジクロロシラン、モノクロロ
シランおよびこれらの混合物であり、不活性流体
で希釈してもよい。 発明の効果 本発明で用いられるビスホスフインイミニウム
塩触媒は従来知られている触媒(第4アンモニウ
ム塩、あるいは第4ホスホニウム塩)に比べ触媒
成分モル当りの活性が高く、従つて、比較的低温
での反応にも使用でき更に、多孔性固体に担持し
て不均一系反応も行える為、触媒と生成物の分離
操作が不要となる。 実施例 1 ビス(トリフエニルホスフイン)イミニウムク
ロリド、〔(C6H5)3P〕2N+Cl-、(アルドリツチ
製)〕587mg(1.02mmole)を5.8mlのメタノール
−水(1/1)混合液に溶かし、この溶液に5.8
gのシリカ(フジダビソン社製シリカゲル、ID
タイプ、表面積350m2/g、30〜60メツシユを空
気中、120℃、12時間乾燥したもの)を加えてよ
く撹拌した。風乾後空気中100℃で12時間乾燥し
て触媒を調製した。 この触媒0.64g(2.0ml)をガラス製気相流通
反応装置(内径10mm)に充てんし、窒素気流中
110℃で1時間加熱した後反応層を所定温度に保
ちながら常圧下原料ガス(SiHCl3/N2、モル比
30/70)フイードとして反応を行なわしめた。反
応条件整定後1時間の生成物をヘリウムをキヤリ
ヤガスとしてガスクロマトグラフ(TCD)で分
析した。結果を表−1に示した。
【表】
実施例 2〜5
実施例1の要領でビス(トリフエニルホスフイ
ン)イミニウムクロリド(以下PPNClと略す)
をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体ビーズ
(ダイヤイオンHP−20−三菱化成(株)製商品名
−)、活性炭(ツルミコール社製商品名、4GV、
30〜60メツシユ、を15%HNO3処理後、空気中、
100℃、24時間乾燥)、チタニア(ダイヤキヤタリ
スト(株)製)及びカオリン(小宗化学薬品(株)製)に
各々担持して触媒した。触媒調製条件を表−2に
示した。これらの触媒を用いて実施例1の要領で
トリクロロシラン(SiHCl3/N2=3/7、モル
比)の不均化反応を行なつた。実験結果を表−3
に示した。
ン)イミニウムクロリド(以下PPNClと略す)
をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体ビーズ
(ダイヤイオンHP−20−三菱化成(株)製商品名
−)、活性炭(ツルミコール社製商品名、4GV、
30〜60メツシユ、を15%HNO3処理後、空気中、
100℃、24時間乾燥)、チタニア(ダイヤキヤタリ
スト(株)製)及びカオリン(小宗化学薬品(株)製)に
各々担持して触媒した。触媒調製条件を表−2に
示した。これらの触媒を用いて実施例1の要領で
トリクロロシラン(SiHCl3/N2=3/7、モル
比)の不均化反応を行なつた。実験結果を表−3
に示した。
【表】
【表】
実施例 6
原料ガスがジクロロシラン(製鉄化学(株)製、>
98.5%)である他は実施例1と同じ要領で不均化
反応を行なつた。結果を表4に示した。
98.5%)である他は実施例1と同じ要領で不均化
反応を行なつた。結果を表4に示した。
【表】
実施例 7
1Hnmr(水素核磁気共鳴)試料管に29mg(0.05
ミリモル)のビス(トリフエニルホスフイン)イ
ミニウムクロリド及びベンゼン封入キヤピラリー
(外部標準)を入れた後、試料管を真空ラインに
接続して脱気し、次に試料管をドライアイス−イ
ソプロパノールバスで冷却し、これに1.0g(7.4
ミリモル)のトリクロロシランの真空蒸留によつ
て仕込んだ後試料管上端をガスバーナーで封じ切
つた。試料管を室温まで昇温した後、封入された
サンプルをよく振り混ぜ30℃で1時間放置した。
試料の 1Hnmrスペクトルには外部標準のベンゼ
ンのピーク(τ2.8)及びビス(トリフエニルホス
フイン)イミニウムクロリドのピーク(τ2.6〜
3.0)以外に3本のシングレツト(τ3.9、τ4.6、及
びτ5.4、面積比=8:2:0.1)が観測された。
これらはそれぞれトリクロロシラン、ジクロロシ
ラン、及びモノクロロシランのSi−Hの共鳴に由
来するものであり、トリクロロシランの不均化反
応によりモノクロロシラン、ジクロロシラン、ト
リクロロシランが生成したことを示す。
ミリモル)のビス(トリフエニルホスフイン)イ
ミニウムクロリド及びベンゼン封入キヤピラリー
(外部標準)を入れた後、試料管を真空ラインに
接続して脱気し、次に試料管をドライアイス−イ
ソプロパノールバスで冷却し、これに1.0g(7.4
ミリモル)のトリクロロシランの真空蒸留によつ
て仕込んだ後試料管上端をガスバーナーで封じ切
つた。試料管を室温まで昇温した後、封入された
サンプルをよく振り混ぜ30℃で1時間放置した。
試料の 1Hnmrスペクトルには外部標準のベンゼ
ンのピーク(τ2.8)及びビス(トリフエニルホス
フイン)イミニウムクロリドのピーク(τ2.6〜
3.0)以外に3本のシングレツト(τ3.9、τ4.6、及
びτ5.4、面積比=8:2:0.1)が観測された。
これらはそれぞれトリクロロシラン、ジクロロシ
ラン、及びモノクロロシランのSi−Hの共鳴に由
来するものであり、トリクロロシランの不均化反
応によりモノクロロシラン、ジクロロシラン、ト
リクロロシランが生成したことを示す。
Claims (1)
- 1 一般式(R3P)2N・X(式中、Rは互いに
同じかあるいは異つてもよいC1〜C10の炭化水素
基で酸素原子やハロゲン原子を含有してもよく、
飽和でも不飽和でもよい。XはF-、Cl-、Br-、
I-、CN-、N3 -、BF4 -、BH4 -、OH-、アルコキ
シド、アセテート等のモノアニオンである。)で
表わされるビスホスフインイミニウム塩を触媒成
分として用い、SiHnCl4-o(ただし、1≦n≦3)
で表わされるクロロシランを不均化および/又は
再分配させることを特徴とするシラン類の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60102766A JPS61261208A (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 | シランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60102766A JPS61261208A (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 | シランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61261208A JPS61261208A (ja) | 1986-11-19 |
| JPH0339965B2 true JPH0339965B2 (ja) | 1991-06-17 |
Family
ID=14336300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60102766A Granted JPS61261208A (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 | シランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61261208A (ja) |
-
1985
- 1985-05-16 JP JP60102766A patent/JPS61261208A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61261208A (ja) | 1986-11-19 |
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