JPH0340932B2 - - Google Patents

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JPH0340932B2
JPH0340932B2 JP58140061A JP14006183A JPH0340932B2 JP H0340932 B2 JPH0340932 B2 JP H0340932B2 JP 58140061 A JP58140061 A JP 58140061A JP 14006183 A JP14006183 A JP 14006183A JP H0340932 B2 JPH0340932 B2 JP H0340932B2
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JP
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foil
resist ink
sides
line
electrode
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JP58140061A
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JPS6031217A (ja
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  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、電解コンデンサ電極用ナルミニウム
箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造
方法に関する。 アルミニウム(以下Alと記す)の箔を電解エ
ツチングすることにより電解コンデンサ用電極を
製造する場合、いわゆる“貫通タイプ”と“芯残
りタイプ”の2つの型式のものが得られる。前者
は、Al箔の一面から他面にほぼ達するか或いは
Al箔の断面を完全に貫くピツトが大多数を占め
るものである。これは、静電容量は高いが、耐折
強度が低いので、コンデンサ素子としての電極箔
の巻取り時に箔切れが生ずるという問題があり、
これを回避する必要上、容量をさらに増大するこ
とができない欠点がある。後者は、電解エツチン
グ条件(温度、時間、電流密度等)を調節するこ
とによりAl箔断面の中心部近傍に箔厚さの10〜
20%程度のピツトの存在しない“芯”部分を残存
させたものである。この“芯残りタイプ”は、
“貫通タイプ”に比して、耐折強度は大きいもの
の、コンデンサとした場合の容量が低いという欠
点があり、又、その2枚を重ねて用いるいわゆる
ダブルアノード用としては使用し得ない。これ
は、重なつた部分に電解液が透過しないので、陰
極に対するイオン伝導が行なわれないからであ
る。 本発明は、耐折強度に優れ、コンデンサに大き
な容量を付与し、ダブルアノード用としても使用
可能な電解コンデンサ用Al電極を提供するもの
である。すなわち、本発明は、下記の電解コンデ
ンサ電極用アルミニウム箔および電解コンデンサ
用アルミニウム電極の製造方法を提供するもので
ある: 純度99.9%以上のアルミニウム箔の両面にア
ルカリ除去型レジストインキにより線巾0.1〜
5mm、線間隔0.5〜10mmの多線状パターンを3
〜20%の面積比で且つ両面の線状パターンが実
質的に一致した位置に形成されるように塗布形
成したことを特徴とする電解コンデンサ電極用
アルミニウム箔、および 純度99.9%以上のアルミニウム箔の両面にア
ルカリ除去型レジストインキにより線巾0.1〜
5mm、線間隔0.5〜10mmの多線状パターンを3
〜20%の面積比で且つ両面の線状パターンが実
質的に一致した位置に形成されるように塗布形
成し、電解エツチングした後、レジストインキ
をアルカリで除去し、洗浄し、必要に応じて更
に化成処理することを特徴とする電解コンデン
サ用アルミニウム電極の製造方法。 本願第一発明に係る電解コンデンサ電極用Al
箔は、例えば、次の様にして製造される。即ち、
99.9%以上とAl箔の両面の一部に、電解エツチン
グ液に対する耐性を有し且つアルカリ溶液により
除去されるレジストインキにより、多数の線から
なるパターンを形成させる。レジストインキの線
巾、線間隔等は、電極箔としての寸法、厚さ、コ
ンデンサの容量等により異なるが、通常線巾0.1
〜5mm、線間隔0.5〜10mm程度である。パターン
を形成するレジストインキの線状塗布部分は、箔
の短手方向や斜め方向に形成しても良いが、Al
箔の長手方向に平行に形成するのが望ましい。こ
れは、未エツチング部分が電極箔の巻取り方向に
沿つて形成されることになるからである。第1図
に本願第一発明のAl箔の一例の部分拡大断面図
を示す。第1図において、Al箔1の両面には、
レジストインキ塗布により線群3,3……3及び
線群5,5……5が形成されている。レジストイ
ンキをAl箔1の両面に塗布する場合には、表裏
の線3と5とを出来るだけ一致した位置に設ける
ことが望ましい。何故ならば、Al箔1を電解エ
ツチング処理した場合、線群3,3……3と線群
5,5……5との間のAl箔部分にはピツトが全
く形成されず、この部分が耐折強度の向上に大き
く寄与するからである。レジストインキの塗布
は、Al箔1の両面の全面積の3〜20%とする。
容量と耐折強度とのバランスを考慮すれば、5〜
10%とすることがより好ましい。塗布面積が3%
未満では、対折強度の向上が十分ではなく、一方
20%を上回る場合にはコンデンサの静電容量を低
下させる。レジストインキとしては、電解エツチ
ング時の耐性(耐酸性)及び耐電圧性に優れ、且
つNaOH水溶液等のアルカリ水溶液により容易
に除去可能な変性フエノール樹脂、変性アルキツ
ド樹脂、アクリル系樹脂等を使用する。レジスト
インキは、8μm以上、好ましくは10μm以上の厚
塗り可能な凹版印刷法、シルクスクリーン法等に
より塗布することが望ましく、塗布後は、常法に
従つて、紫外線、加熱等により硬化される。 本願第二発明は、以下の様にして実施される。
例えば、第1図に示す構造のAl箔1をHCl,
NaCl等を含む公知のエツチング液に浸漬し、常
法に従つて電解エツチングを行なうことにより、
貫通ピツト7,7……7を形成させる。この場
合、線群3,3……3と線群5,5……5との間
の領域9,9……9には、ピツトは形成されな
い。次いでエツチング後のAl箔1をNaOH,
KOH等のアルカリ溶液に浸漬することにより、
レジストインキの線群3,3……3及び5,5…
…5を溶解除去させ、更に洗浄して、第3図に示
す如き電解コンデンサ用Al電極11を得る。電
極11を陽極として使用する場合には、更に化成
処理を行なう。 尚、電解コンデンサ用Al電極としては、第3
図に13として示す部分のみを切り出して使用す
ることも可能である。 本発明によれば、以下の如き効果が得られる。 () エツチング後に得られる電極は、いわゆる
“貫通タイプ”であるにもかかわらず、耐折強
度に優れている。 () 従つて、巻取時の曲率を大きくすることが
できるので、コンデンサを小型化することが可
能となる。 () コンデンサとした場合の静電容量は、当然
高く、しかもダブルアノード用箔としての使用
も可能である。 実施例 1 (a) Al焼鈍箔(厚さ100μm、99.99%)の両面の
長手方向に線状にレジストインキを300メツシ
ユのシルクスクリーンを使用して塗布した後、
120℃で5分間乾燥し硬化させた。使用したレ
ジストインキは、アクリル系樹脂/ブチルセロ
ソルブ/カーボンブラツクニ72/25/3(重量
比)であり、線巾は100μm、線間隔は1mm、
厚さは9μm、塗布面積比は10%であつた。 得られた塗布Al箔を4.5%塩酸水溶液に浸漬
し、温度80℃、直流電流密度15A/dm2の条
件下に6分間電解エツチングを行なつた後、
0.2%水酸化ナトリウム水溶液に常温で5秒間
浸漬してレジストインキ硬化物を除去した。次
いで、上記箔を水洗及び乾燥後、5%ホウ酸ア
ンモニウム水溶液中380Vの化成処理に供した。
得られたAl電極箔の性能は、第1表に示す通
りであつた。
【表】 尚、第1表中の耐折強度は、エツチング後の
未化成箔を長手方向に平行に10mm巾に切り出
し、切り出した箔の下方を250g重の力で引張
し、箔中央を対向する2本のロール(1.0mmR)
で挾持し、ここを交点として箔上方を左右に45
度折り曲げ、箔が切断されるまでの往復回数を
測定したものである。 又、静電容量は、公知のブリツジ法により測
定した。従来品とは、従来の貫通タイプのもの
を示す。 (b) 上記(a)のエツチング時間を8分間とすると以
外は、同様の操作を行なつた。結果は、第2表
に示す通りである。
【表】 第2表から明らかな如く、本実施例品では、
電気量増加による容量の向上が顕著であり、耐
折強度の低下は少ない。一方、従来品では、容
量の向上は小さく、耐折強度大きく低下してい
る。 (c) 上記本発明品(a)及び(b)の表面にエチレングリ
コールを滴下し、裏面にエチレングリコールが
浸透するまでの時間を測定したところ、下記の
通り従来品と同等の結果が得られた。 従来品〔6分間エツチング〕 4.5秒 本発明品(a)〔6分間エツチング〕 5.0秒 本発明品(b)〔8分間エツチング〕 4.0秒
【図面の簡単な説明】
第1図は、本願第一発明に係るAl箔の部分拡
大断面図を示し、第2図及び第3図は、本願第二
発明の実施状況を示す図面である。 1……Al箔、3及び5……レジストインキ塗
布部、7……貫通ピツト、9……ピツトの形成さ
れない領域、11……電解コンデンサ用Al電極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 純度99.9%以上のアルミニウム箔の両面にア
    ルカリ除去型レジストインキにより線巾0.1〜5
    mm、線間隔0.5〜10mmの多線状パターンを3〜20
    %の面積比で且つ両面の線状パターンが実質的に
    一致した位置に形成されるように塗布形成したこ
    とを特徴とする電解コンデンサ電極用アルミニウ
    ム箔。 2 純度99.9%以上のアルミニウム箔の両面にア
    ルカリ除去型レジストインキにより線巾0.1〜5
    mm、線間隔0.5〜10mmの多線状パターンを3〜20
    %の面積比で且つ両面の線状パターンが実質的に
    一致した位置に形成されるように塗布形成し、電
    解エツチングした後、レジストインキをアルカリ
    で除去し、洗浄し、必要に応じ更に化成処理する
    ことを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム
    電極の製造方法。
JP58140061A 1983-07-29 1983-07-29 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 Granted JPS6031217A (ja)

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JP58140061A JPS6031217A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法

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JPS6031217A JPS6031217A (ja) 1985-02-18
JPH0340932B2 true JPH0340932B2 (ja) 1991-06-20

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JP58140061A Granted JPS6031217A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法

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