JPS6031217A - 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法Info
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- JPS6031217A JPS6031217A JP58140061A JP14006183A JPS6031217A JP S6031217 A JPS6031217 A JP S6031217A JP 58140061 A JP58140061 A JP 58140061A JP 14006183 A JP14006183 A JP 14006183A JP S6031217 A JPS6031217 A JP S6031217A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電
解コンデンサ用アμミニウム電極の製造方法に関する。
解コンデンサ用アμミニウム電極の製造方法に関する。
アルミニウム箔(以下Al と記す)の箔を電解エツチ
ングすることによシミ解コンデンサ用電極を製造する場
合、いわゆる“貫通タイプ”と“思残9タイプ”の2つ
の型式のものが得られる。前者はs Al箔の一面から
他面にほぼ達するか或いはAl箔の断面を完全に貫くビ
ットが大多数を占めるものである。これは、静電容量は
高いが、耐折強度が低いので、コンデンサ素子としての
電極箔の巻取り時に箔切れが生ずるという開路があり、
これを回避する必要上、容量をさらに増大することがで
きない欠点がある。後者は、電解エツチング条件(温度
、時間、電流密度等)を調節することによjl)AJ箔
断面の中心部近傍に箔厚さの10〜20%程度のビット
の存在1.ない“芯”部分を残存させたものである。こ
の“思残シタイブ”は、“貫通タイプ”に比して、耐折
強度は大きいものの、コンデンサとした場合の88が低
いという欠点があシ、又、その2枚を重ねて用いるいわ
ゆるダブルアノード用としては使用し得ない。これは、
東なった部分に電解液が浸透しないので、陰極に対する
イオン伝導が行なわれないからである。
ングすることによシミ解コンデンサ用電極を製造する場
合、いわゆる“貫通タイプ”と“思残9タイプ”の2つ
の型式のものが得られる。前者はs Al箔の一面から
他面にほぼ達するか或いはAl箔の断面を完全に貫くビ
ットが大多数を占めるものである。これは、静電容量は
高いが、耐折強度が低いので、コンデンサ素子としての
電極箔の巻取り時に箔切れが生ずるという開路があり、
これを回避する必要上、容量をさらに増大することがで
きない欠点がある。後者は、電解エツチング条件(温度
、時間、電流密度等)を調節することによjl)AJ箔
断面の中心部近傍に箔厚さの10〜20%程度のビット
の存在1.ない“芯”部分を残存させたものである。こ
の“思残シタイブ”は、“貫通タイプ”に比して、耐折
強度は大きいものの、コンデンサとした場合の88が低
いという欠点があシ、又、その2枚を重ねて用いるいわ
ゆるダブルアノード用としては使用し得ない。これは、
東なった部分に電解液が浸透しないので、陰極に対する
イオン伝導が行なわれないからである。
本発明は、耐折強度に優れ、コンデンサに大きな容量を
付与し、ダブルアノード用とし”でも使用可能な電解コ
ンデンサ用A/電極を提供するものである。即ち、本発
明は、■純度99.9%以上のAA’箔の片面若しくは
両面にアルカリ除去型レジストインキによシmrp O
,1〜5mm、線間隔0.5〜l0mmの多線状パター
ンを3〜2(lの面積比で塗布形成したことを特徴とす
るt解コンデンサ電極用A/箔(これを以下本願第一発
明という)、及び■純度99.996以上のi箔の片面
若しくは両面にアルカリ除去型レジストインキによシ線
巾o、t〜6mmb線間隔0.5〜10mmの多線状パ
ターンを3〜20%の面積比で塗布形成し、電解エツチ
ングした後、レジストインキケアルカリで除去し、洗浄
し、必要に応じ更に化成処理することを特徴とする電解
コンデンサ用A7電極の製造方法(これを以下本願第二
発明という)に係る。
付与し、ダブルアノード用とし”でも使用可能な電解コ
ンデンサ用A/電極を提供するものである。即ち、本発
明は、■純度99.9%以上のAA’箔の片面若しくは
両面にアルカリ除去型レジストインキによシmrp O
,1〜5mm、線間隔0.5〜l0mmの多線状パター
ンを3〜2(lの面積比で塗布形成したことを特徴とす
るt解コンデンサ電極用A/箔(これを以下本願第一発
明という)、及び■純度99.996以上のi箔の片面
若しくは両面にアルカリ除去型レジストインキによシ線
巾o、t〜6mmb線間隔0.5〜10mmの多線状パ
ターンを3〜20%の面積比で塗布形成し、電解エツチ
ングした後、レジストインキケアルカリで除去し、洗浄
し、必要に応じ更に化成処理することを特徴とする電解
コンデンサ用A7電極の製造方法(これを以下本願第二
発明という)に係る。
本願第一発明に係る電解コンデンサt[i用人!箔は、
例えば、次の様KL’r製造される。即ち、99.91
以上のA/箔の片面又は両面の一部tこ、電解エツチン
グ液に対する耐性を有し且つアルカリ溶液によシ除去さ
れるレジストインキにょシ、多数の線からなるパターン
を形成させる。レジストインキの線巾、線間隔等は、電
極箔とし°Cの寸法、厚さ、コンデンサの容量等によシ
異なるが、通常線中0.1〜5mf11%線間隔0.5
〜10mm程度である。パターンを形成するレジストイ
ンキの線状塗布部分は、箔の短手方向や斜め方向に形成
しても良いが、Al箔の長手方向に平行に形成するのが
望ましい。これは、未エツチング部分が電極箔の巻取シ
方向に沿って形成されることになるからである。第1図
に本願第一発明のA7箔の一例の部分拡大断面図を示す
。第1図においrtA)箔illの両面には、レジスト
インキ塗布により線群+31 、131・・・・・・(
3)及び線1i +51 、 +51・・・・・・(5
)が形成されている。レジヌトインギkAl箔([)の
両面に塗布する場合には、表裏の線131と(5)とを
出来るだけ一致した位置に設けることが望ましい。何故
ならば、AJ箔1[)を電解エツチング処理した場合、
線群iA)、13)・・・・・・(3)と線群15+
、 15+・・・・・・−5)との間のAl箔部分には
ビットが全く形成されず、この部分が耐折強度の向上に
大きく寄与するからである。レジストインキの塗布は、
AI箔中の片面又は両面の全ffi+積の3〜20’%
とする。容量と耐折強度とのバランスを考慮すれば、5
〜10%とすることがより好ましい。塗布面積が3慢未
満では、耐折強度の向上が十分ではなく、一方20φを
上回る場合には、コンデンサの静電容量を低下させる。
例えば、次の様KL’r製造される。即ち、99.91
以上のA/箔の片面又は両面の一部tこ、電解エツチン
グ液に対する耐性を有し且つアルカリ溶液によシ除去さ
れるレジストインキにょシ、多数の線からなるパターン
を形成させる。レジストインキの線巾、線間隔等は、電
極箔とし°Cの寸法、厚さ、コンデンサの容量等によシ
異なるが、通常線中0.1〜5mf11%線間隔0.5
〜10mm程度である。パターンを形成するレジストイ
ンキの線状塗布部分は、箔の短手方向や斜め方向に形成
しても良いが、Al箔の長手方向に平行に形成するのが
望ましい。これは、未エツチング部分が電極箔の巻取シ
方向に沿って形成されることになるからである。第1図
に本願第一発明のA7箔の一例の部分拡大断面図を示す
。第1図においrtA)箔illの両面には、レジスト
インキ塗布により線群+31 、131・・・・・・(
3)及び線1i +51 、 +51・・・・・・(5
)が形成されている。レジヌトインギkAl箔([)の
両面に塗布する場合には、表裏の線131と(5)とを
出来るだけ一致した位置に設けることが望ましい。何故
ならば、AJ箔1[)を電解エツチング処理した場合、
線群iA)、13)・・・・・・(3)と線群15+
、 15+・・・・・・−5)との間のAl箔部分には
ビットが全く形成されず、この部分が耐折強度の向上に
大きく寄与するからである。レジストインキの塗布は、
AI箔中の片面又は両面の全ffi+積の3〜20’%
とする。容量と耐折強度とのバランスを考慮すれば、5
〜10%とすることがより好ましい。塗布面積が3慢未
満では、耐折強度の向上が十分ではなく、一方20φを
上回る場合には、コンデンサの静電容量を低下させる。
レジストインキとしては、電解エツチング時の耐性(耐
酸性)及び耐電圧性に優れ、且つN aOH水溶液等の
アルカリ水溶液によシ容易に除去可能な変性フェノ−7
し樹脂、変性アルキッド樹脂、アクリル系樹脂等を使用
する。レジストインキ社、8μm以上、好ましくは10
μm以上の厚塗り可能な凹版印刷法、シルクスクリーン
法等により塗布することが望ましく、塗布後は、常法に
従って、紫外線、加熱等によシ硬化される。
酸性)及び耐電圧性に優れ、且つN aOH水溶液等の
アルカリ水溶液によシ容易に除去可能な変性フェノ−7
し樹脂、変性アルキッド樹脂、アクリル系樹脂等を使用
する。レジストインキ社、8μm以上、好ましくは10
μm以上の厚塗り可能な凹版印刷法、シルクスクリーン
法等により塗布することが望ましく、塗布後は、常法に
従って、紫外線、加熱等によシ硬化される。
本願第一発明は、以下の様にして実施される。
例えは、第1図に示す構造のkl m i)をHCl
。
。
Nap/等を含む公知のエツチング液シこ浸漬し、常法
をこ従って電解エツチングを行なうことによシ、貫通ビ
ット+7+ 、 +7+・・・・・・(7)を形成させ
る。この場合、線群131 、 +31・・・・・・1
3)と線群+51 、 +51・・・・・・(5)との
間の領域+91 、 +91・・・・・・(9)には、
ビットは形成されない。次いでエツチング後のAlll
llをNaOH、[)H等のアμカリ溶液に浸漬するこ
とによp、レジストインキの線群131 、 +31・
・・・・・[41及び+51 、 +51・・・・・・
(5)全溶解除去させ、更に洗浄し゛C1第3図に示す
如き電解コンデシサ用A/電極uDを得る。電極CIl
+を陽極とし°〔使用する場合には、更に化成処理を行
なう。
をこ従って電解エツチングを行なうことによシ、貫通ビ
ット+7+ 、 +7+・・・・・・(7)を形成させ
る。この場合、線群131 、 +31・・・・・・1
3)と線群+51 、 +51・・・・・・(5)との
間の領域+91 、 +91・・・・・・(9)には、
ビットは形成されない。次いでエツチング後のAlll
llをNaOH、[)H等のアμカリ溶液に浸漬するこ
とによp、レジストインキの線群131 、 +31・
・・・・・[41及び+51 、 +51・・・・・・
(5)全溶解除去させ、更に洗浄し゛C1第3図に示す
如き電解コンデシサ用A/電極uDを得る。電極CIl
+を陽極とし°〔使用する場合には、更に化成処理を行
なう。
尚、電解コンデンサ用Al電極としては、第3図に(I
3)としC示す部分のみを切り出して使用することも可
能である。
3)としC示す部分のみを切り出して使用することも可
能である。
本発明によれば、以下の如き効果が得られる。
(1) エツチング後に得られるt[[iは、いわゆる
′貫通タイプ“であるにもかかわらず%耐折強度に優れ
ている。
′貫通タイプ“であるにもかかわらず%耐折強度に優れ
ている。
(ll)従って、巻取時の曲率を大きくすることができ
るので、コンデンサを小型化することが可能となる。
るので、コンデンサを小型化することが可能となる。
(lit) コンデンサとした場合の静電容量は、当然
制<、シかもダブルプノード用箔とし・Cの使用も実施
例1 +aJ Al焼鈍箔(厚さ100μm、99゜99%)
の両面の長手方向に線状にレジストインキを300メツ
シユのシρクスクリーンを使用して塗布した後、120
℃で5分間乾燥して硬化させた。
制<、シかもダブルプノード用箔とし・Cの使用も実施
例1 +aJ Al焼鈍箔(厚さ100μm、99゜99%)
の両面の長手方向に線状にレジストインキを300メツ
シユのシρクスクリーンを使用して塗布した後、120
℃で5分間乾燥して硬化させた。
使用したレジストインキは、アクリル系樹脂/ブチルセ
ロソルブ/カーボンブラックニア2/25/3(重量比
)であり、線巾はt o o um。
ロソルブ/カーボンブラックニア2/25/3(重量比
)であり、線巾はt o o um。
線間隔は1 mm 、厚さは9μm、塗布面積比は10
チであった。
チであった。
得られた塗布AA’箔を4,5%塩酸水溶液に浸漬し、
温度80℃、直流電流密度L 5 A/dm2の条件下
に6分間電解エツチングを行なった後、0.2%水酸化
すFリウム水溶液に常温で5秒間浸漬してレジストイン
キ硬化物を除去した。次いで、上記箔を水洗及び乾燥後
、5%ホウ酸アンモニウム水溶液中380■の化成処理
に供した。得られたへl電極箔の性能は、第1表に示す
通シであった。
温度80℃、直流電流密度L 5 A/dm2の条件下
に6分間電解エツチングを行なった後、0.2%水酸化
すFリウム水溶液に常温で5秒間浸漬してレジストイン
キ硬化物を除去した。次いで、上記箔を水洗及び乾燥後
、5%ホウ酸アンモニウム水溶液中380■の化成処理
に供した。得られたへl電極箔の性能は、第1表に示す
通シであった。
第1表
尚、第1表中の耐折強度は、エツチング後の未化成箔を
長手方向に平行にl Q l11m 巾に切シ出し、切
り出した箔の下方を250F重の力で引張し、箔中央を
対向する2本のロー/L/(t、。
長手方向に平行にl Q l11m 巾に切シ出し、切
り出した箔の下方を250F重の力で引張し、箔中央を
対向する2本のロー/L/(t、。
mmR)で挾持し、ここを支点として箔上方を左右に4
5度折り曲げ、箔が切断されるまでの往復回数を測定し
たものである。
5度折り曲げ、箔が切断されるまでの往復回数を測定し
たものである。
又、静電容量は、公知のブリッジ法によシ測定した。従
来品とは、従来の貫通タイプのものを示す。
来品とは、従来の貫通タイプのものを示す。
lb) 上記(勾のエツチング時間を8分間とする以外
は、同様の操作を行なった。結果は、第2表に示す通勺
である。
は、同様の操作を行なった。結果は、第2表に示す通勺
である。
第 2 表
第2表から明らかな如く、本実施例品では、電気量増加
による容量の向上が顕著であり、耐折強度の低下は少な
い。一方、従来品では、容量の向上は小さく、耐折強度
は大きく低下している。
による容量の向上が顕著であり、耐折強度の低下は少な
い。一方、従来品では、容量の向上は小さく、耐折強度
は大きく低下している。
(C1レジストインキをA4箔の片面にのみ塗布した場
合及び両面の塗布位置が一致していない場合においても
、従来品を上回る効果が確認された。
合及び両面の塗布位置が一致していない場合においても
、従来品を上回る効果が確認された。
(dJ 上記本発明品(a)及び(b)の表面にエチレ
ングリコ−y1滴下し、裏面にエチレングリコールが浸
透するまでの時間を測定したところ、下記の49従来品
と同等の結果が得られた。
ングリコ−y1滴下し、裏面にエチレングリコールが浸
透するまでの時間を測定したところ、下記の49従来品
と同等の結果が得られた。
従来品〔6分間エツチング〕4.5秒
本発明品(川〔6分間エツチング〕5.0秒本発明品(
至)〔8分間エツチング〕4.0秒
至)〔8分間エツチング〕4.0秒
第1図は、本願第一発明に係るAI箔の部分拡大断面図
を示し、第2図及び第3図は、本願第二発明の実施状況
を示す図面である。 1[)・・・Al箔、 (3)及び(5)・・・レジストインキ塗布部、(7)
・・・貫通ビット、 (9)・・・ビットの形成されない領域、aIJ・・・
電解コンデンサ用AI!電極。 (以上) 1・1:・・トノC1,4乙’j’1.’、+に二、史
急・シ)第1図 第2図 第3図 3 手続補正書C′j5劃 1.事件の表示 昭和58年 特 許 願第目1061 号2・ 発明の
名称 電解コンダン1J電極用アルミニウム箔及び電解
コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 大阪市東区平野町2の10沢の鶴ビル電話06−203
−0941 (代)昭和58年11月29日 補正の内容 ! 第1図、第2図及び第3図を別紙の通り補正する。 (以 上)
を示し、第2図及び第3図は、本願第二発明の実施状況
を示す図面である。 1[)・・・Al箔、 (3)及び(5)・・・レジストインキ塗布部、(7)
・・・貫通ビット、 (9)・・・ビットの形成されない領域、aIJ・・・
電解コンデンサ用AI!電極。 (以上) 1・1:・・トノC1,4乙’j’1.’、+に二、史
急・シ)第1図 第2図 第3図 3 手続補正書C′j5劃 1.事件の表示 昭和58年 特 許 願第目1061 号2・ 発明の
名称 電解コンダン1J電極用アルミニウム箔及び電解
コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 大阪市東区平野町2の10沢の鶴ビル電話06−203
−0941 (代)昭和58年11月29日 補正の内容 ! 第1図、第2図及び第3図を別紙の通り補正する。 (以 上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 純度99.9’%以上のアルミニウム箔の片面若し
くは両面にアルカリ除去型レジストインキによ#)#中
0.1〜5mm%+il1間隔0.5〜lQmmの多8
状パターンを3〜20’%の面積比で塗布形成したこと
を特徴とする電解コンデンサ電極用アルミニウム箔。 ■ 純度99.9%以上のアルミニウム箔の片面若しく
は両面にアルカリ除去型レジストインキによシ線巾0.
1〜5111m%線間隔0.5〜lOmmo多線状パタ
ーンを3〜20%の面積比で塗布形成し、電解エツチン
グした後、レジストインキをアルカリで除去し、洗浄し
、必要に応じ更に化成処理することを特徴とする電解コ
ンデンサ用アルミニウム電極の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58140061A JPS6031217A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58140061A JPS6031217A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6031217A true JPS6031217A (ja) | 1985-02-18 |
| JPH0340932B2 JPH0340932B2 (ja) | 1991-06-20 |
Family
ID=15260066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58140061A Granted JPS6031217A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6031217A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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