JPH0341926U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0341926U JPH0341926U JP1989102291U JP10229189U JPH0341926U JP H0341926 U JPH0341926 U JP H0341926U JP 1989102291 U JP1989102291 U JP 1989102291U JP 10229189 U JP10229189 U JP 10229189U JP H0341926 U JPH0341926 U JP H0341926U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resist
- baking apparatus
- mounting plate
- spacer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Description
第１図は本考案の実施例によるレジストベーク
装置の概略縦断面図、第２図は加熱段の拡大平面
図、第３図は加熱部のスペーサの斜視図、第４図
は冷却部のスペーサの斜視図、第５図は基板搬送
装置を加熱部と冷却部に関連づけて示す平面図、
第６図は第５図の−線に沿つた断面図である
。 １……基板、２……加熱部、２ａ……第１加熱
段、２ｂ……第２加熱段、３……冷却部、４……
電熱ヒータ、５……ホツトプレート、６……スペ
ーサ、６ａ……基板支持面、７……載置プレート
、８……スペーサ、８ａ……基板支持面、９……
温湿度調整器、１０……フイルタ、１１……ダク
ト出口部、１２……搬送アーム、１３，１４……
ホルダ、１５，１６，１７……搬送運動方向を示
す矢印。
装置の概略縦断面図、第２図は加熱段の拡大平面
図、第３図は加熱部のスペーサの斜視図、第４図
は冷却部のスペーサの斜視図、第５図は基板搬送
装置を加熱部と冷却部に関連づけて示す平面図、
第６図は第５図の−線に沿つた断面図である
。 １……基板、２……加熱部、２ａ……第１加熱
段、２ｂ……第２加熱段、３……冷却部、４……
電熱ヒータ、５……ホツトプレート、６……スペ
ーサ、６ａ……基板支持面、７……載置プレート
、８……スペーサ、８ａ……基板支持面、９……
温湿度調整器、１０……フイルタ、１１……ダク
ト出口部、１２……搬送アーム、１３，１４……
ホルダ、１５，１６，１７……搬送運動方向を示
す矢印。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 基板に塗布したレジストをベーク処理する加熱
部と、ベーク処理後移送された基板を冷却する、
基板載置プレートを設けた冷却部とを備えたレジ
ストベーク装置において、 前記冷却部が、温度と湿度を調節した冷却用ガ
スを基板のレジスト塗布面に供給する手段を備え
、 前記基板載置プレートが、その上面と基板下面
との間に隙間を生じるように基板を支持するスペ
ーサを備えていることを特徴とするレジストベー
ク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989102291U JPH0341926U (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989102291U JPH0341926U (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341926U true JPH0341926U (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=31651197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989102291U Pending JPH0341926U (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0341926U (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59132128A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-07-30 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法及び装置 |
| JPS60263431A (ja) * | 1984-06-12 | 1985-12-26 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法 |
| JPS6167224A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JPS61147527A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-05 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法 |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP1989102291U patent/JPH0341926U/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59132128A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-07-30 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法及び装置 |
| JPS60263431A (ja) * | 1984-06-12 | 1985-12-26 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法 |
| JPS6167224A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JPS61147527A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-05 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法 |