JPH0343461A - ナフタロシアニン及びそれを用いた情報記録材料 - Google Patents

ナフタロシアニン及びそれを用いた情報記録材料

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JPH0343461A
JPH0343461A JP17807789A JP17807789A JPH0343461A JP H0343461 A JPH0343461 A JP H0343461A JP 17807789 A JP17807789 A JP 17807789A JP 17807789 A JP17807789 A JP 17807789A JP H0343461 A JPH0343461 A JP H0343461A
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Japan
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naphthalocyanine
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resin
compound
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JP17807789A
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Naoto Ito
伊藤 尚登
Takahisa Oguchi
貴久 小口
Tsuyoshi Enomoto
榎本 堅
Isao Nishizawa
西沢 功
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Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は情報記録、表示、センサー、保護眼鏡などオプ
トエレクトロニクス関連に重要な役割を果すナフタロシ
アニン及びそれを用いて作製される光記録媒体、光カー
ド、近赤外光の捕集、遮断に関するフィルター(眼鏡を
含む)、近赤外光を用いた液晶表示素子に関する。
[従来の技術] 近年、ナフタロシアニン系化合物はオプトエレクトロニ
クス材料として光ディスク、光カード、レーザープリン
ター、フィルター、保護眼鏡、液晶表示材料などに用い
られるとともに、熱線調製材料として農業フィルムにも
用いられている。
しかしナフタロシアニン系化合物は、溶剤溶解性、樹脂
との相溶性が不十分なため、利用範囲が限られていた。
そこで、ナフタレン環にアルキル基を導入することによ
り(特開昭6O−23451) 、また、中心金属のア
キシャル位に置換基を導入することにより(Journ
al of American ChemicalSo
ciety、  106巻、7404〜7410頁 1
984年刊)、溶剤あるいは樹脂溶解性の改良が図られ
たが、改良は十分とはなっていなかった。
また、前述の化合物を情報記録材料に応用した例として
は、アルキルナフタロシアニン(特開昭6l−2588
6) 、シリコンナフタロシアニン(特開昭61−17
7287、−177288、−232448、−235
188)が知られている。
しかし、前者は反射率が低いという欠点を有しており、
後者に利用されている化合物は、単独で用いると反射率
の波長依存性が大きくてレーザーの変動により読み出し
ができなくなるため、それを改良して波長依存性を小さ
くするようにポリマーとの混合使用が試みられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は前記の欠点を解決するべくなされたもので、樹
脂あるいは溶剤に対する相溶性が良好で、かつ薄膜化し
たときに反射率の波長依存性の小さなナフタロシアニン
を見出すとともに、それを用いて、高反射率、高感度な
光記録媒体、光カード、フィルター、液晶表示素子を得
ることを目的とする。
[課題を解決する手段] 本発明者らは、前項の課題を解決すべく鋭意検討の結果
、下記−数式(I)で示される化合物を見出した。
即ち本発明は、 〔式(I)中、Metは、St (TV) 、Sn (
IV)、Ge (IV) 、Ti (rV)を表わし、
Yl、Y2、Y3、Y4は各々独立に、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基
、アリールアミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基ま
たは複素環基(各基は置換基を有しても良い)を表わし
、R,R’は各々独立にアルキル基、シクロアルキル基
またはアリール基を表わし、P、Q%R,Sは各々独立
にO〜6の整数を表わす。] で示されるナフタロシアニンであり、それを用いて作製
される光記録媒体、光カード、フィルターおよび液晶表
示素子である。
本発明のナフタロシアニンは、溶剤および樹脂溶解性が
大きく、情報記録材料としたときの反射率の波長依存性
が小さいため、良好な情報記録材料を得ることができる
式(I)中の’yl、 Y2、Y3およびY4で表わさ
れる置換または未置換のアルキル基の例としては、炭素
数1〜20の直鎖、環状または分岐の炭化水素基;メト
キシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、プロポ
キシエチル、メトキシブチル、フェノキシエチル等の直
鎖または分岐の総炭素数1〜30のアルコキシまたはア
リールオキシアルキル基;メチルチオメチル、フェニル
チオメチル、エチルチオエチル、メチルチオブチル等の
直鎖または分岐の総炭素数1〜30のアルキルチオまた
はアリールチオアルキル基:N−メチルアミノメチル、
N、N−ジメチルアミノメチル、N、N−ジエチルアミ
ノメチル、N−ブチルアミノメチル、N、N−ジブチル
アミノメチル、N、N−ジメチルアミノエチル等の直鎖
または分岐の総炭素数1〜30のアルキルアミノアルキ
ル基;クロルメチル、クロルエチル、クロルブチル、フ
ロロメチル、フロロエチル、ブロムメチル、ブロムエチ
ル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化ブチルなどの
炭素数1〜20のハロゲノアルキル基;トリフロロメチ
ル、トリクロロメチル、ジブロムメチル、ペンタフロロ
エチル、ヘプタフロロプロピル等のバーハロゲノアルキ
ル基などが挙げられる。
置換または未置換のアリール基の例としては、フェニル
、ナフチル、トリル基などのフェニル誘導体、ナフチル
誘導体が挙げられ、置換または未置換のアラルキル基の
例としては、ベンジル、フェニルエチル基などが挙げら
れる。
置換または未置換のアルキルアミノ基またはジアルキル
アミノ基の例としては、メチルアミノ、エチルアミノ、
N、N−ジメチルアミノ、N、N−ジエチルアミノ基な
どの総炭素数1〜30の直鎖または分岐のアルキル基置
換アミノ基;N−(ヒドロキシエチル)アミノ、N、N
−ジ(ヒドロキシエチル)アミン、N、N−ジ(メトキ
シエチル)アミノ、N、N−ジ(エトキシエチル)アミ
ノ、N、N−ジ(メトキシエトキシエチル)アミノ、N
、N−ジ(アセトキシエチル)アミノなとのヒドロキシ
、アルコキシまたはアシルオキシアルキルアミノ基が挙
げられる。
置換または未置換のアリールアミノ基の例としては、ア
ニリ、ノ、N−アルキルアニリノ、アルキルフェニルア
ミノ、アルコキシフェニルアミノ、アルキルアミノフェ
ニルアミノ基などが挙げられる。
置換または未置換のアルコキシ基の例としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘ
キシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ基のよ
うな炭素数1〜20の直鎖または分岐の炭化水素オキシ
基;メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、プロポキシ
エトキシ、ブトキシエトキシ、フェノキシエトキシ、メ
トキシエトキシエトキシ、エトキシエトキシエトキシ、
メトキシエトキシエトキシエトキシ、ヒドロキシエチル
オキシ、ヒドロキシエトキシエトキシ基など一数式A−
(OCHK’C)IK2)、−0−(式中Aは、水素原
子、炭素数1〜6のアルキル基またはアリール基、Kl
およびに2は各々独立に水素原子、メチル基、クロルメ
チル基、アルコキシメチル基、Uは1〜5の整数を表わ
す。〕で示されるオリゴエチルオキシ誘導体、N、N−
ジメチルアミノエトキシ、N、N−ジエチルアミノエト
キシ、N、N−ジメチルアミンプロポキシ基などのアル
キルアミノアルコキシ基;エチルチオエトキシ、メチル
チオエトキシ、フェニルチオエトキシ、メチルチオプロ
ポキシ、エチルチオプロポキシ基などのアルキルまたは
アワールチオアルコキシ基などが挙げられる。
置換または未置換のアリールオキシ基の例としては、フ
ェニルオキシ、ナフチルオキシ、アルキルフェニルオキ
シ、アルキルアミノフェニルオキシ、ハロゲン置換フェ
ニルオキシ、ニトロフェニルオキシ、アルコキシフェニ
ルオキシ、アルキルチオフェニルオキシ基などが挙げら
れる。
置換または未置換のアルキルチオ基の例としては、メチ
ルチオ、エチルチオ基などの炭素数1〜30の直鎖また
は分岐の炭化水素チオ基;メトキシメチルチオ、メトキ
シエチルチオ、エトキシエチルチオ、ブトキシエチルチ
オ、メトキシエトキシエチルチオなどのオリゴアルコキ
シアルキルチオ基:メチルチオメチルチオ、エチルチオ
エチルチオ基などのオリゴアルキルチオアルキルチオ基
:N、N−ジメチルアミノエチルチオ、N、N−ジエチ
ルアミノエチルチオ、N−メチルアミノプロピルチオ基
などのアルキルアミノアルキルチオ基;クロルエチルチ
オ、ブロムエチルチオ、ヨウ化エチルチオ、フロロエチ
ルチオ、ジクロロエチルチオ基などのハロゲン化アルキ
ルチオ基などが挙げられ、置換または未置換のアリール
チオ基の例としては、フェニルチオ、ナフチルチオ、ア
ルキルフェニルチオ、アミノフェニルチオ、アルキルア
ミノフェニルチオ、アルコキシフェニルチオ基などが挙
げられる。
置換または未置換の複素環基の例としては、チオフェン
、オキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、フラン
、ビロール、キノリン、ピリジンなどのへテロ環が挙げ
られる。
また、RおよびR′で示されるアルキル基の例としては
、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、2−エチルヘキシル、3.5.5−トリメチルヘ
キシル基なとの直鎖または分岐の炭素数1〜20の炭化
水素基が、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル
、ビシクロ[2,2,1]ヘプチル、ビシクロ[2,2
,13ヘプト−5−エン−2−イル基などが挙げられる
。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、4−
t−ブチルフェニル基などの芳香族炭化水素基が挙げら
れる。
本発明の前記−数式(I)で表わされるナフタロシアニ
ンは、スキーム1に示すように、既知の方法[例えば、
J、 Am、 Chem、 Soc、、 106.74
0(I984); J、 Org、 Chem、、 2
8.3379 (I963)]を利用して合成できる。
〈スキーム1〉 (I) (2) (3) H すなわち、スキームlに示すように、化合物(I)を得
るために、ジオール体(6)にアシル化剤を作用させて
いる。
本発明のナフタロシアニンを用いて光記録媒体を製造す
る方法には、透明基板上にナフタロシアニンを塗布或は
蒸着する方法があり、塗布法としては、バインダー樹脂
20重量%以下、好ましくは0%と、ナフタロシアニン
0.05重量%〜20重量%、好ましくは0.5重量%
〜20重量%となるように溶媒に溶解し、スピンコータ
ーで塗布する方法などがある。また蒸着方法としては、
1O−5〜1O−7torr、100〜300℃にて基
板上にナフタロシアニンを堆積させる方法などがある。
基板としては、光学的に透明な樹脂であればよい。例え
ばアクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、塩化ビニール樹脂
、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレ
ン樹脂、ポリオレフィン共重合樹脂、塩化ビニール共重
合樹脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、スチレン共重合樹
脂などが挙げられる。
また基板は熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂により表
面処理がなされていてもよい。
光記録媒体を作製する場合、コストの面、ユーザーの取
り扱い面より基板はポリアクリレート基板又はポリカー
ボネート基板を用い、かつ、スピンコード法により塗布
されるのが好ましい。
基板の耐溶剤性よりスピンコードに用いる溶媒は、四塩
化炭素よりも極性が小さいものが好ましい。このような
溶媒としては、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチ
レン、ジクロロジフロロエタンなど)、エーテル類(例
えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど)、
ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど
)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、
プロパツールなど)、セロソルブ類(メチルセロソルブ
、エチルセロソルブなど)、炭化水素類(ヘキサン、シ
クロヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなど)が好適に用いられる。
また、フィルターを作製する時のコスト面、作業性より
、化合物の重要な性質としては、樹脂と混練が出来る耐
熱性を有すること、ないしは樹脂基板を溶媒中より染色
出来ることが挙げられ、かつ、作製した成型物の光吸収
特性がシャープで、かつ高い吸収率を有する必要がある
−数式(I)のナフタロシアニンを用いて近赤外線吸収
フィルターを製造する方法は、樹脂と一般式(I)のナ
フタロシアニンを混合し成型する、樹脂モノマーに一般
式(I)のナフタロシアニンを混ぜ注型重合する、樹脂
成型物に一般式(I)のナフタロシアニンを染色する、
基板材料の表面に一般式(I)のナフタロシアニンを塗
布、蒸着する方法がある。
フィルター基材として用いる樹脂としては、透明であれ
ばよく、例えばポリスチレン、ポリメチルメタアクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレ
ンなとの熱可塑性樹脂、CR−39(PPG■、商品名
)、MR−3(三井東圧化学、商品名)、MR−6(三
井東圧化学、商品名)などの熱硬化性樹脂が好ましい。
又、表示材料として液晶と共に用いる場合、液晶への溶
解性が高い必要があり、かつ電界をかけたり、熱をかけ
て液晶の状態を変化させるに際してナフタロシアニンが
その変化を妨げないことが必要である。
表示材料として混合して用いる液晶としてはネマチック
液晶、スメクティック液晶、コレステリック液晶が挙げ
られ、表示方法の例としては、ゲストホスト型表示、液
晶パネル(液晶中にナフタロシアニンを入れてレーザー
光にて画面を書込む)などが挙げられる。
さらに、光カードは、前記光記録媒体と同様の材質の透
明基板上に塗布または蒸着により、本発明の一般式(I
)のナフタロシアニンよりなる記録層を形成することに
よって得られる。
〔実施例J 以下実施例により本発明を具体的に説明する。
X皇盟よ 下記構造式(A) ’OH で示されるシラノール体1g、2−エチルヘキサン酸ク
ロリド5gとピリジン20gを混合し、加熱還流した。
室温まで冷却した後、塩酸水200m℃に排出し、ベン
ゼンにて抽出した。ベンゼン層からカラムクロマトグラ
ム精製(シリカゲル/ベンゼン)により下記構造式(I
−1)で示されるナフタロシアニン化合物を500mg
得た。クロロホルム中でのλmaxは775nmであっ
た。
C=O 5 =0 )1−Calls H9 前記化合物(I−1)1重量部をクロロホルム100重
量部に溶解し、ポリカーボネート光デイスク基板に塗布
した。この様にして製作した光記録媒体の反射率は83
0部mで35%、感度は8mW、830部m半導体レー
ザーにおいて50dB、耐久性は再生光0.5mWで1
00万回読み出しても変化がなかった。また、耐湿熱性
は温度60℃、湿度80%の条件で100時間変化がな
かった。
実光l牝Z 前記式(A)のシラノール体1 g 、3,5.5−ト
リメチルヘキサン酸クロリド5gとキノリン50gを混
合し、200℃に加熱した。反応液を実施例1と同様に
して処理することにより下記構造式(I−2)で示され
るナフタロシアニン化合物600mgを得た。
(CHa) 5ccLcl((C)+3) CLli=
0元素分析   CaaHsaNsSiO4HN 計算値(%)  ?5.12 5.54 10.62実
測値(%)  74.98 5.38 10.12前記
化合物(I−2)4部をポリスチレン樹脂1000部と
加熱混合し、板状に成形した。このようにして作製され
たフィルターは750〜850nmの光をよく吸収した
また前記化合物7部をシアノビフェニル液晶混合物10
00部に溶解し、液晶パネルを作製し、レーザー光によ
る書込みを行なったところ、鮮明な画像が得られた。
さらに、前記化合物(I−2)1部をジブチルエーテル
100部に溶解し、ポリカーボネート光カード基板上に
塗布し、記録層面を樹脂でオーバーコートして光カード
を作製した。この光カードの反射率は35%、感度は7
80部m、  8mW、線速2、8m/secでC/N
比50dBであった。また、耐久性も良好であった。
実11甑旦 前記式(A)のシラノール体1g、ベンゼン100g、
トリブチルアミン Igとプロピオン酸クロリド10g
を混合し、加熱還流した。反応液を実施例1と同様にし
て処理することにより下記構造式(I−3)で示される
ナフタロシアニン化合物700mgを得た。
C2H!1 C=0 6・0 28S 元素分析 C54H34NaSiO4 IIN 計算値(%)  66.40 3.51 11.47実
測値(%)  66.10 3.21 11.30前記
化合物(I−3)1重量部とポリカーボネートl−重量
部をクロロホルム20重量部に溶解し、ガラス基板に塗
布した。その上に金を蒸着し、続いて光硬化型ポリアク
リル樹脂によりオーバーコートした。このようにして作
製された光記録媒体は良好な感度、耐久性を有していた
X旗旦1 下記構造式(B) 0口 JH で示されるスズナフタロシアニン1g、2−エチルヘキ
サン酸logとピコリン50gを混合し、加熱反応後、
実施例1と同様に処理することにより下記構造式(I−
4)で示されるナフタロシアニン化合物を500mg得
た。
4He CH−CzHs と・0 と・0 CI−1−C2H8 4He 元素分析 計算値(%) 実測値(%) Ca4HsJa04Sn CH 68,774,87 69,014,77 +0.02 10.13 前記化合物(I−4)4部をポリスチレン樹脂1000
部と加熱混合し、板状に成形した。このようにして作製
されたフィルターは750〜1350nmの光をよく吸
収した。
また前記化合物7部をシアノビフェニル液晶混合物10
00部に溶解し、液晶パネルを作製し、レーザー光によ
る書込みを行なったところ、鮮明な画像が得られた。
X血盟互 実施例1の化合物(A)のかわりに下記構造式() のゲルマニウムナフタロシアニンを用いて同様に処理し
たところ、 300mgの化合物(I−5) を得 た。
C=0 化合物(I−5) 2mgを1f2のクロロホルムに 溶解し吸光度を測定したところ、 λmax 800nmに おいて0.8 であった。
実施例1. 3. 4. 5で得られた化合物の特性 と、 これらを薄膜化したときの特性を第1表に示す。
表から明らかなように、本発明の化合物をガラス基板に
スピンコードした薄膜の緒特性は、比較化合物のそれに
くらべていずれも良好であった。
(注−1) (注−2) (注−3) (注−4) (注−5) (注−6) (注−7) 特開昭61−25886  実施例1の化合物特開昭6
1−177287実施例4の化合物特開昭61−232
448実施例1の化合物クロロホルム溶液2mg/ (
lにて測定した最大吸収波長(λmax 、 nm)と
その波長での吸光度(abs、)を表示した。
クロロホルム溶液にて2g/βの濃度でガラス基板へス
ピンコードされた膜゛の基板面側より 830nmにお
ける反射率および吸収率を示す。
(注−5)で作製した膜を60℃、90%の湿熱試験を
100時間行なった後の反射率変化。変化率20%以内
を(○)、20〜50%を(△)、50%以上を(×)
とした。
耐熱性および耐樹脂相溶性はポリスチ レン(ps)またはポリメチルメタク リレート(PMMA)の樹脂を加熱溶 融して成型したとき、化合物の分解、 あるいは溶解を目視により判定した。
失適」目辷二婬 第2表に示す基を有する下記−数式で示される化合物を
実施例1に準じて合成し、光記録媒体として評価したと
ころ、いずれも反射率、耐湿熱性、耐熱性、耐樹脂相溶
性などに良好な結果を得た。
第 2 表 [発明の効果] 以上説明したように、本発明のナフタロシアニンは、溶
媒、液晶への溶解性、樹脂との相溶性が良好なものであ
る。更に本発明のナフタロシアニンを用いた情報記録材
料は、光記録媒体、光カードとした場合、成膜時の反射
率が高く、耐湿熱性、耐熱性、耐樹脂相溶性などが良好
であり、フィルターとした場合、光吸収特性がシャープ
でかつ高い吸収率を示し、液晶表示素子とした場合、コ
ントラストが良好である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式( I )中、Metは、Si(IV)、Sn(IV)、
    Ge(IV)、Ti(IV)を表わし、Y^1、Y^2、Y
    ^3、Y^4は各々独立に、アルキル基、アリール基、
    アラルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリール
    アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
    キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基または複素環
    基(各基は置換基を有しても良い)を表わし、R、R′
    は各々独立にアルキル基、シクロアルキル基またはアリ
    ール基を表わし、P、Q、R、Sは各々独立に0〜6の
    整数を表わす。〕で示されるナフタロシアニン。 2、請求項1記載のナフタロシアニンを記録層に含有し
    てなる光記録媒体。 3、請求項1記載のナフタロシアニンを記録層に含有し
    てなる光カード。 4、請求項1記載のナフタロシアニンを含有してなる近
    赤外線吸収フィルター。 5、請求項1記載のナフタロシアニンを含有してなる液
    晶表示素子。
JP17807789A 1989-07-12 1989-07-12 ナフタロシアニン及びそれを用いた情報記録材料 Pending JPH0343461A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002274087A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd 透明カード

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63275584A (ja) * 1987-05-01 1988-11-14 Kao Corp ナフタロシアニン系化合物

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