JPH0344006A - 厚膜抵抗描画方法 - Google Patents
厚膜抵抗描画方法Info
- Publication number
- JPH0344006A JPH0344006A JP1179609A JP17960989A JPH0344006A JP H0344006 A JPH0344006 A JP H0344006A JP 1179609 A JP1179609 A JP 1179609A JP 17960989 A JP17960989 A JP 17960989A JP H0344006 A JPH0344006 A JP H0344006A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- resistor
- writing
- substrate
- back side
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- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ハイブリッドIC(以下HICと略す)の抵
抗体を形成する厚膜抵抗描画方法に関するものである。
抗体を形成する厚膜抵抗描画方法に関するものである。
従来の技術
HICでは、基板の表裏の両面とも抵抗を描画する必要
があるが、従来の抵抗描画機の描画開始位置は、基板の
表面は表面での基準点からのデータで抵抗体を描画し、
また基板の裏面は裏面での基準点からのデータで抵抗体
を描画するように、各面ごとの基準点で、描画開始位置
を決定していた。
があるが、従来の抵抗描画機の描画開始位置は、基板の
表面は表面での基準点からのデータで抵抗体を描画し、
また基板の裏面は裏面での基準点からのデータで抵抗体
を描画するように、各面ごとの基準点で、描画開始位置
を決定していた。
発明が解決しようとする課題
しかし、従来の方法においては、同じ基板でありながら
、表と裏で基準点を変えて描画開始位置を作成する必要
がある。
、表と裏で基準点を変えて描画開始位置を作成する必要
がある。
近年CAD等から出力される抵抗位置データは、表面も
裏面も同じ基準点によるデータで表わされ、CADから
のデータを直接使用する時には、裏面のデータは作業者
が再度描画位置を計算し再入力していた。
裏面も同じ基準点によるデータで表わされ、CADから
のデータを直接使用する時には、裏面のデータは作業者
が再度描画位置を計算し再入力していた。
つまり第1図に示すデータが与えられた時、2の表面の
描画開始位置データは(X+、yl)であり、そのデー
タで直接描画できる。しかし、3の裏面描画開始位置デ
ータは(X2.y2)であるが、裏面にした時、描画特
有の描画方法である、X、Y方向へはそれぞれ一方向し
か描画できないという限定等もあり、直接そのデータは
使用できず、作業者か計算し再入力する必要かあった。
描画開始位置データは(X+、yl)であり、そのデー
タで直接描画できる。しかし、3の裏面描画開始位置デ
ータは(X2.y2)であるが、裏面にした時、描画特
有の描画方法である、X、Y方向へはそれぞれ一方向し
か描画できないという限定等もあり、直接そのデータは
使用できず、作業者か計算し再入力する必要かあった。
課題を解決するための手段
そして上記問題点を解決する本発明の技術的手段は、描
画データの基準点が表裏とも同しである抵抗体のデータ
を、描画開始位置演算工程と描画終了位置演算工程によ
り、基板の表裏両面のデータへ変換し、これに基づき描
画するものである。
画データの基準点が表裏とも同しである抵抗体のデータ
を、描画開始位置演算工程と描画終了位置演算工程によ
り、基板の表裏両面のデータへ変換し、これに基づき描
画するものである。
作用
この技術的手段による作用は次のようになる。
すなわち、描画開始位置データが基板の表面も裏面とも
同じ基準点で与えられた場合に、座標変換して裏面の描
画開始位置データを計算し、裏面の抵抗描画が可能とな
る。
同じ基準点で与えられた場合に、座標変換して裏面の描
画開始位置データを計算し、裏面の抵抗描画が可能とな
る。
実施例
以下本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明する。
第1図において、1は描画を行なう基板であり、2は基
板表面に描画する抵抗体、3は基板裏面に描画する抵抗
体、4はCAD等により与えられた表面の抵抗体2の描
画開始点、5は裏面の抵抗体3の描画開始点、6はこれ
ら抵抗体の描画方向である。
板表面に描画する抵抗体、3は基板裏面に描画する抵抗
体、4はCAD等により与えられた表面の抵抗体2の描
画開始点、5は裏面の抵抗体3の描画開始点、6はこれ
ら抵抗体の描画方向である。
第2図は、基板1をY軸に対してX座標を反転し、裏面
にした時の状態である。7は裏面時の抵抗体3の描画開
始点であり、8は抵抗体2の表面描画終了点、9は抵抗
体3の裏面描画終了点である。
にした時の状態である。7は裏面時の抵抗体3の描画開
始点であり、8は抵抗体2の表面描画終了点、9は抵抗
体3の裏面描画終了点である。
表面を描画する場合は、4の描画開始位置(x +、
y +)と描画長さ 11のデータで描画終了(x+
+j!+、Y+)を求め、描画させることかできる。
y +)と描画長さ 11のデータで描画終了(x+
+j!+、Y+)を求め、描画させることかできる。
しかし、裏面を描画する場合、5の描画開始位置(X2
.Y2)と描画長さ12のデータでは描画できない。裏
面の場合は第2図となり、描画開始位置のデータは、(
−x2.y2)になる。しかし描画特有の性質である描
画方向がX方向下方向それぞれ一方向に限られているた
め、裏面の5の描画開始位置は、第2図の7の位置より
右方向へ描画しなければならない。したかって、裏面時
の描画開始点7の座標は、((X2 +12)y2)で
求められ、描画長さはは12であるので描画終了点9が
求まる。
.Y2)と描画長さ12のデータでは描画できない。裏
面の場合は第2図となり、描画開始位置のデータは、(
−x2.y2)になる。しかし描画特有の性質である描
画方向がX方向下方向それぞれ一方向に限られているた
め、裏面の5の描画開始位置は、第2図の7の位置より
右方向へ描画しなければならない。したかって、裏面時
の描画開始点7の座標は、((X2 +12)y2)で
求められ、描画長さはは12であるので描画終了点9が
求まる。
この一連の座標変換工程により、裏面抵抗体すべての描
画開始位置が求まる。第3図にこのフローチャートを示
す。
画開始位置が求まる。第3図にこのフローチャートを示
す。
発明の効果
本発明によれば、抵抗描画装置で表面裏面の両面の抵抗
体を描画する場合に、表面と裏面の描画位置データが同
じ基準点で与えられても、座標変換が可能となり、作業
者が描画位置データを変換して再度入力する必要がなく
、データ作成時間を短縮できる。
体を描画する場合に、表面と裏面の描画位置データが同
じ基準点で与えられても、座標変換が可能となり、作業
者が描画位置データを変換して再度入力する必要がなく
、データ作成時間を短縮できる。
第1図は表面から見た描画基板図、第2図は裏面から見
た描画基板図、第3図は座標変換機能のフローチャート
である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・表面描画抵抗、3
・・・・・・裏面描画抵抗、4・・・・・・表面描画開
始位置、5・・・・・・裏面描画開始位置、6・・・・
・・描画方向、7・・・・・・裏面時の描画開始位置、
8・・・・・・表面描画終了位置、9・・・裏面描画終
了位置。
た描画基板図、第3図は座標変換機能のフローチャート
である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・表面描画抵抗、3
・・・・・・裏面描画抵抗、4・・・・・・表面描画開
始位置、5・・・・・・裏面描画開始位置、6・・・・
・・描画方向、7・・・・・・裏面時の描画開始位置、
8・・・・・・表面描画終了位置、9・・・裏面描画終
了位置。
Claims (1)
- 粘性物をノズルにより吐出する厚膜抵抗描画方法におい
て、基板両面に抵抗体を描画する際、描画データの基準
点が表裏とも同じである抵抗体のデータを、描画開始位
置演算工程と描画終了位置演算工程により基板の表裏両
面のデータへ変換し、この描画データに基づいて裏面の
抵抗体を描画することを特徴とする厚膜抵抗描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179609A JPH0344006A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 厚膜抵抗描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179609A JPH0344006A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 厚膜抵抗描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344006A true JPH0344006A (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=16068743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1179609A Pending JPH0344006A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 厚膜抵抗描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0344006A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160113731A (ko) | 2012-04-09 | 2016-09-30 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 식물 재배용 소재 및 그것을 이용한 식물 재배 방법 |
-
1989
- 1989-07-11 JP JP1179609A patent/JPH0344006A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160113731A (ko) | 2012-04-09 | 2016-09-30 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 식물 재배용 소재 및 그것을 이용한 식물 재배 방법 |
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