JPH0344421B2 - - Google Patents
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- JPH0344421B2 JPH0344421B2 JP60022749A JP2274985A JPH0344421B2 JP H0344421 B2 JPH0344421 B2 JP H0344421B2 JP 60022749 A JP60022749 A JP 60022749A JP 2274985 A JP2274985 A JP 2274985A JP H0344421 B2 JPH0344421 B2 JP H0344421B2
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- JP
- Japan
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- cap
- displacement
- tapered roller
- micro
- seam
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体集積回路(IC)やトランジ
スタ、ダイオードなどの半導体回路素子を容器本
体に収容し、キヤツプをこの容器本体にシーム接
合して半導体回路素子を気密封止するマイクロパ
ラレルシーム接合装置における、シーム接合の不
良を判別する方法およびこの方法の実施に直接使
用する装置に関するものである。
スタ、ダイオードなどの半導体回路素子を容器本
体に収容し、キヤツプをこの容器本体にシーム接
合して半導体回路素子を気密封止するマイクロパ
ラレルシーム接合装置における、シーム接合の不
良を判別する方法およびこの方法の実施に直接使
用する装置に関するものである。
(従来技術)
ICなどの半導体回路素子を気密に封止する方
法としてマイクロパラレルシーム接合(Micro
Parallel Seam Join−ing)法が提案されてい
る。この方法は、第3図に示すように、セラミツ
ク基板1に環状のシールフレーム2をろう付けし
て容器本体3を形成し、このシールフレーム2内
に半導体回路素子4を固定して薄板のキヤツプ5
を被せ、これを回転テーブル6に載せてこのキヤ
ツプ5の縁に一対のテーパローラ電極7,8を不
活性ガス中で所定圧力下で転接させつつ通電する
ことにより、キヤツプ5をシールフレーム2にシ
ーム接合するものである。また矩形のキヤツプの
場合にはテーブル6を直線移動させて2辺を接合
したのち、90°回転させて残りの2辺を接合する
か、円形のキヤツプの場合と同様にテーブル5を
回転させて接合する方法がとられている。
法としてマイクロパラレルシーム接合(Micro
Parallel Seam Join−ing)法が提案されてい
る。この方法は、第3図に示すように、セラミツ
ク基板1に環状のシールフレーム2をろう付けし
て容器本体3を形成し、このシールフレーム2内
に半導体回路素子4を固定して薄板のキヤツプ5
を被せ、これを回転テーブル6に載せてこのキヤ
ツプ5の縁に一対のテーパローラ電極7,8を不
活性ガス中で所定圧力下で転接させつつ通電する
ことにより、キヤツプ5をシールフレーム2にシ
ーム接合するものである。また矩形のキヤツプの
場合にはテーブル6を直線移動させて2辺を接合
したのち、90°回転させて残りの2辺を接合する
か、円形のキヤツプの場合と同様にテーブル5を
回転させて接合する方法がとられている。
ここにシールフレーム2の上面には、シールフ
レーム2より低融点の金などのメツキ層が予め形
成され、またキヤツプ5にも同様に金などのメツ
キ層が形成されている。従つてテーパローラ電極
7,8に通電するとシールフレーム2とキヤツプ
5の間に介在するメツキ層が溶けて接合される。
この時シールフレーム2やキヤツプ5の母材自身
は溶融せず、通常のスポツト溶接に見られるよう
な母材同志の溶融部、即ちナゲツトは形成されな
い。
レーム2より低融点の金などのメツキ層が予め形
成され、またキヤツプ5にも同様に金などのメツ
キ層が形成されている。従つてテーパローラ電極
7,8に通電するとシールフレーム2とキヤツプ
5の間に介在するメツキ層が溶けて接合される。
この時シールフレーム2やキヤツプ5の母材自身
は溶融せず、通常のスポツト溶接に見られるよう
な母材同志の溶融部、即ちナゲツトは形成されな
い。
このようなマイクロパラレルシーム接合におい
て、接合部の品質管理方法、すなわちシール接合
の良否を判別する方法の一つとして、電流モニタ
法が知られている。これはスポツト溶接などの他
の電気溶接法で広く用いられているもので、2つ
のテーパローラ電極7,8間の電流を検出し、こ
の電流を基準電流値と比較してその許容範囲を外
れたことを判別することにより、接合の良否を判
定するものである。
て、接合部の品質管理方法、すなわちシール接合
の良否を判別する方法の一つとして、電流モニタ
法が知られている。これはスポツト溶接などの他
の電気溶接法で広く用いられているもので、2つ
のテーパローラ電極7,8間の電流を検出し、こ
の電流を基準電流値と比較してその許容範囲を外
れたことを判別することにより、接合の良否を判
定するものである。
(従来技術の問題点)
しかしマイクロパラレルシーム接合では、1つ
のシーム接合回路中に2つの接合点があるため、
これら2つの接合点を流れる全電流の検出は可能
であるが、個々の接合点においてはその電流密度
は必ずしも同一にはならない。このため各接合点
の温度上昇がアンバランスになつても、従来の電
流をモニタする方法ではそれを検出することはで
きず、シーム接合の良否を高精度に判別すること
は困難であつた。このためシーム接合不良による
容器の気密不良が生じても、破壊試験もしくはリ
ークテスタによらなければその欠陥を発見するこ
とができず、製品の歩留り低下の大きな要因とな
つていた。
のシーム接合回路中に2つの接合点があるため、
これら2つの接合点を流れる全電流の検出は可能
であるが、個々の接合点においてはその電流密度
は必ずしも同一にはならない。このため各接合点
の温度上昇がアンバランスになつても、従来の電
流をモニタする方法ではそれを検出することはで
きず、シーム接合の良否を高精度に判別すること
は困難であつた。このためシーム接合不良による
容器の気密不良が生じても、破壊試験もしくはリ
ークテスタによらなければその欠陥を発見するこ
とができず、製品の歩留り低下の大きな要因とな
つていた。
(発明の目的)
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので
あり、半導体集積回路やトランジスタ、ダイオー
ドなどの半導体回路素子を収容する容器をマイク
ロパラレルシーム接合によつて気密封止する際
に、シーム接合の良否を高精度に検出でき、製品
の歩留りを向上させることができるマイクロパラ
レルシーム接合装置の接合不良判別方法を提供す
ることを第1の目的とする。またこの発明は、こ
の方法の実施に直接使用する接合不良判別装置を
提供することを第2の目的とするものである。
あり、半導体集積回路やトランジスタ、ダイオー
ドなどの半導体回路素子を収容する容器をマイク
ロパラレルシーム接合によつて気密封止する際
に、シーム接合の良否を高精度に検出でき、製品
の歩留りを向上させることができるマイクロパラ
レルシーム接合装置の接合不良判別方法を提供す
ることを第1の目的とする。またこの発明は、こ
の方法の実施に直接使用する接合不良判別装置を
提供することを第2の目的とするものである。
(発明の構成)
本発明によれば前記第1の目的は、半導体回路
素子を収容する上方が開口した容器本体にキヤツ
プを載せ、前記キヤツプの対称な周縁に接触する
ように配置された一対のテーパローラ電極を、前
記キヤツプの周縁に上方から転接させつつ通電す
ることにより、前記キヤツプと容器本体との間に
介在するメツキ層を溶融させ、前記キヤツプを前
記容器本体にシーム接合するマイクロパラレルシ
ーム接合装置において、少くとも一方の前記テー
パローラ電極の上下方向の変位に基づいて前記キ
ヤツプのずれによる接合不良を判別することを特
徴とするマイクロパラレルシーム接合装置の接合
不良判別方法により達成される。
素子を収容する上方が開口した容器本体にキヤツ
プを載せ、前記キヤツプの対称な周縁に接触する
ように配置された一対のテーパローラ電極を、前
記キヤツプの周縁に上方から転接させつつ通電す
ることにより、前記キヤツプと容器本体との間に
介在するメツキ層を溶融させ、前記キヤツプを前
記容器本体にシーム接合するマイクロパラレルシ
ーム接合装置において、少くとも一方の前記テー
パローラ電極の上下方向の変位に基づいて前記キ
ヤツプのずれによる接合不良を判別することを特
徴とするマイクロパラレルシーム接合装置の接合
不良判別方法により達成される。
また、前記第2の目的は、半導体回路素子を収
容する上方が開口した容器本体にキヤツプを載
せ、前記キヤツプの対称な周縁に接触するように
配置された一対のテーパローラを、前記キヤツプ
の周縁に上方より転接させつつ通電することによ
り前記キヤツプと容器本体との間に介在するメツ
キ層を溶融させ、前記キヤツプを前記容器本体に
シーム接合するマイクロパラレルシーム接合装置
において、前記キヤツプのずれが無い状態を基準
として少くとも一方の前記テーパローラ電極の変
位を検出する変位検出回路と、前記テーパローラ
電極の変位の許容範囲を設定する設定器と、前記
テーパローラ電極の変位を前記許容範囲と比較す
る比較器とを備え、前記テーパローラ電極の変位
が前記許容範囲を外れたことから接合不良を判別
することを特徴とするマイクロパラレルシーム接
合装置の接合不良判別装置により達成される。
容する上方が開口した容器本体にキヤツプを載
せ、前記キヤツプの対称な周縁に接触するように
配置された一対のテーパローラを、前記キヤツプ
の周縁に上方より転接させつつ通電することによ
り前記キヤツプと容器本体との間に介在するメツ
キ層を溶融させ、前記キヤツプを前記容器本体に
シーム接合するマイクロパラレルシーム接合装置
において、前記キヤツプのずれが無い状態を基準
として少くとも一方の前記テーパローラ電極の変
位を検出する変位検出回路と、前記テーパローラ
電極の変位の許容範囲を設定する設定器と、前記
テーパローラ電極の変位を前記許容範囲と比較す
る比較器とを備え、前記テーパローラ電極の変位
が前記許容範囲を外れたことから接合不良を判別
することを特徴とするマイクロパラレルシーム接
合装置の接合不良判別装置により達成される。
(発明の原理)
発明者はマイクロパラレルシーム接合法におけ
る接合不良の原因を詳細に検討した結果、2つの
テーパローラ電極に対するキヤツプのずれが大き
な原因であることを知つた。
る接合不良の原因を詳細に検討した結果、2つの
テーパローラ電極に対するキヤツプのずれが大き
な原因であることを知つた。
第4,5図はその原理説明図である。第4図は
シールフレーム2は正規の位置にあるがキヤツプ
5だけがずれた状態を説明するものである。すな
わちこの図でキヤツプ5の正規の位置が実線で示
されるのに対し、このキヤツプ5が図上左側のテ
ーパローラ電極7側へxだけずれて仮想線位置に
来た場合には、テーパローラ電極7は距離H上昇
し、テーパローラ電極8は距離H下降する。この
結果両テーパローラ電極7,8は図に仮想線で示
す位置に移動することが解る。
シールフレーム2は正規の位置にあるがキヤツプ
5だけがずれた状態を説明するものである。すな
わちこの図でキヤツプ5の正規の位置が実線で示
されるのに対し、このキヤツプ5が図上左側のテ
ーパローラ電極7側へxだけずれて仮想線位置に
来た場合には、テーパローラ電極7は距離H上昇
し、テーパローラ電極8は距離H下降する。この
結果両テーパローラ電極7,8は図に仮想線で示
す位置に移動することが解る。
また第5図はシールフレーム2がテーパローラ
電極7側にxだけずれた状態を示すものである。
すなわち図の実線は正規の位置を示すものである
のに対し、シールフレーム2がテーパローラ電極
7側へxずれると、この上のキヤツプ5も共にx
だけ移動し、これらは図の仮想線位置に来る。こ
の結果両テーパローラ電極7,8は図の仮想線で
示す位置に移動する。
電極7側にxだけずれた状態を示すものである。
すなわち図の実線は正規の位置を示すものである
のに対し、シールフレーム2がテーパローラ電極
7側へxずれると、この上のキヤツプ5も共にx
だけ移動し、これらは図の仮想線位置に来る。こ
の結果両テーパローラ電極7,8は図の仮想線で
示す位置に移動する。
これらの場合には、キヤツプ5のずれxにより
一方のテーパローラ電極7はH=x tanθだけ上
昇し、他方のテーパローラ電極8は同量だけ下降
する。ここにθはテーパローラ電極7,8のテー
パ角である。このようにテーパローラ電極7,8
の上下動があると、テーパローラ電極7,8がキ
ヤツプ5に接触する部分の半径が変化する。この
ためテーパローラ電極7,8がキヤツプ5を押圧
する荷重が同じであつても、接触面積が変化して
くるために接触圧力が変化する。この結果テーパ
ローラ電極7,8とキヤツプ5との接触抵抗、ま
たキヤツプ5とシールフレーム2との接触抵抗が
アンバランスになる。また、テーパローラ電極
7,8の熱伝達特性もアンバランスになる。
一方のテーパローラ電極7はH=x tanθだけ上
昇し、他方のテーパローラ電極8は同量だけ下降
する。ここにθはテーパローラ電極7,8のテー
パ角である。このようにテーパローラ電極7,8
の上下動があると、テーパローラ電極7,8がキ
ヤツプ5に接触する部分の半径が変化する。この
ためテーパローラ電極7,8がキヤツプ5を押圧
する荷重が同じであつても、接触面積が変化して
くるために接触圧力が変化する。この結果テーパ
ローラ電極7,8とキヤツプ5との接触抵抗、ま
たキヤツプ5とシールフレーム2との接触抵抗が
アンバランスになる。また、テーパローラ電極
7,8の熱伝達特性もアンバランスになる。
このように2つの接合点における全電流が同じ
であつても、各接合点の発熱量および放熱量など
の熱的条件がアンバランスになるため、温度がア
ンバランスになり、接合不良が発生するものであ
ることが解つた。
であつても、各接合点の発熱量および放熱量など
の熱的条件がアンバランスになるため、温度がア
ンバランスになり、接合不良が発生するものであ
ることが解つた。
そこで発明者はこれらの原因となつている第4
図に示すようなキヤツプ5のずれ、あるいは第5
図に示すようなシールフレーム2とキヤツプ5と
が一体となつたずれを、テーパローラ電極7,8
の上下方向の変位に基づいて検出し、このキヤツ
プ5のずれが予め設置した許容範囲を外れたこと
から接合不良を判別するという思想を得たもので
ある。
図に示すようなキヤツプ5のずれ、あるいは第5
図に示すようなシールフレーム2とキヤツプ5と
が一体となつたずれを、テーパローラ電極7,8
の上下方向の変位に基づいて検出し、このキヤツ
プ5のずれが予め設置した許容範囲を外れたこと
から接合不良を判別するという思想を得たもので
ある。
(実施例)
第1図は本発明の一実施例であるマイクロパラ
レルシーム接合装置の側面図、第2図はその接合
不良判別装置のブロツク図である。
レルシーム接合装置の側面図、第2図はその接合
不良判別装置のブロツク図である。
この実施例においては、前記第3図に示すよう
に、回転テーブル6と共に回転する容器本体3に
円形のキヤツプ5を載せてシーム接合する。符号
10,10はそれぞれ門形の静荷重式接合ヘツド
であり、図では省略したが同一機枠上に図示のご
とく対向させて配置されている。従つて接合ヘツ
ド10,10の説明は必要な場合を除き、一方の
接合ヘツド10のみの説明に止める。11はフレ
ームであり、このフレーム11には直線運動用ベ
アリング12によつて上下動可能にシヤフト13
が保持されている。このシヤフト13の上端部位
には重垂14が装荷されて、シヤフト13に下向
きの荷重を付与する。シヤフト13の下端部には
電極支持体15が固定され、この支持体15には
前記テーパローラ電極7または8がシヤフト13
の軸線に対して直角かつ回転自在に装着されてい
る。電極支持体15には給電帯16が接続され
て、テーパローラ電極7,8に電流が供給され
る。
に、回転テーブル6と共に回転する容器本体3に
円形のキヤツプ5を載せてシーム接合する。符号
10,10はそれぞれ門形の静荷重式接合ヘツド
であり、図では省略したが同一機枠上に図示のご
とく対向させて配置されている。従つて接合ヘツ
ド10,10の説明は必要な場合を除き、一方の
接合ヘツド10のみの説明に止める。11はフレ
ームであり、このフレーム11には直線運動用ベ
アリング12によつて上下動可能にシヤフト13
が保持されている。このシヤフト13の上端部位
には重垂14が装荷されて、シヤフト13に下向
きの荷重を付与する。シヤフト13の下端部には
電極支持体15が固定され、この支持体15には
前記テーパローラ電極7または8がシヤフト13
の軸線に対して直角かつ回転自在に装着されてい
る。電極支持体15には給電帯16が接続され
て、テーパローラ電極7,8に電流が供給され
る。
前記回転テーブル6は、その上に容器本体3お
よびキヤツプ5を載せた状態で両テーパローラ電
極7,8の間の下方に配置される。従つてテーパ
ローラ電極7,8は、重錘14,14の荷重によ
つてキヤツプ5に押圧される。この状態で回転テ
ーブル6を電気モータ(図示せず)などにより回
転させる一方、両テーパローラ電極7,8に電流
を流せば、テーパローラ電極7,8に押圧された
部分が発熱し、容器本体3のシールフレームのメ
ツキ層およびキヤツプ5のメツキ層が溶融し、シ
ーム接合される。
よびキヤツプ5を載せた状態で両テーパローラ電
極7,8の間の下方に配置される。従つてテーパ
ローラ電極7,8は、重錘14,14の荷重によ
つてキヤツプ5に押圧される。この状態で回転テ
ーブル6を電気モータ(図示せず)などにより回
転させる一方、両テーパローラ電極7,8に電流
を流せば、テーパローラ電極7,8に押圧された
部分が発熱し、容器本体3のシールフレームのメ
ツキ層およびキヤツプ5のメツキ層が溶融し、シ
ーム接合される。
以上説明したマイクロパラレルシーム接合装置
は従来装置と変わるところはなく、従つてテーパ
ローラ電極7,8の昇降機構等については省略し
た。
は従来装置と変わるところはなく、従つてテーパ
ローラ電極7,8の昇降機構等については省略し
た。
この実施例ではシヤフト13,13の変位を検
出するため、前記シヤフト13,13に例えば差
動変圧器からなる位置センサ18,18を取付
け、シヤフト13とフレーム11との相対移動距
離をそれぞれ電圧変動値として検出する。
出するため、前記シヤフト13,13に例えば差
動変圧器からなる位置センサ18,18を取付
け、シヤフト13とフレーム11との相対移動距
離をそれぞれ電圧変動値として検出する。
第2図において20は変位検出回路であり、こ
の変位検出回路20は前記2つの位置センサ1
8,18と、これら位置センサ18,18の出力
を増幅する増幅回路21,21と、その出力の差
を求める差動増幅回路22と、この回路22の出
力の絶対値を求める絶対値回路23とを備える。
位置センサ18,18はゼロ設定機18a,18
aを備え、このゼロ設定機18a,18aによつ
てキヤツプ5のずれが無い時における位置センサ
18,18の出力電圧がゼロとなるように調整さ
れる。また、この位置センサ18,18は差動変
圧器であるので、キヤツプ5のずれが無い時の出
力をゼロとして、キヤツプ5のずれがあると一方
の位置センサ18が正の電圧を他方と位置センサ
18が負の電圧を出力する。
の変位検出回路20は前記2つの位置センサ1
8,18と、これら位置センサ18,18の出力
を増幅する増幅回路21,21と、その出力の差
を求める差動増幅回路22と、この回路22の出
力の絶対値を求める絶対値回路23とを備える。
位置センサ18,18はゼロ設定機18a,18
aを備え、このゼロ設定機18a,18aによつ
てキヤツプ5のずれが無い時における位置センサ
18,18の出力電圧がゼロとなるように調整さ
れる。また、この位置センサ18,18は差動変
圧器であるので、キヤツプ5のずれが無い時の出
力をゼロとして、キヤツプ5のずれがあると一方
の位置センサ18が正の電圧を他方と位置センサ
18が負の電圧を出力する。
23は絶対値回路であり、差動増幅回路22の
絶対値を求める。
絶対値を求める。
24は比較回路であり、この絶対値回路23の
出力を、設定器25の設定値と比較し、この設定
値より大きくなると接合不良と判断して接合不良
信号を制御回路26に送る。設定器25の設定値
はテーパローラ電極7,8の変位の許容範囲すな
わちキヤツプ5のずれが許容範囲を設定するもの
である。
出力を、設定器25の設定値と比較し、この設定
値より大きくなると接合不良と判断して接合不良
信号を制御回路26に送る。設定器25の設定値
はテーパローラ電極7,8の変位の許容範囲すな
わちキヤツプ5のずれが許容範囲を設定するもの
である。
制御回路26は接合不良信号に基づいて警告ラ
ンプや警告ブザーなどによつて警告したり、テー
パローラ電極7,8の電流を遮断し回転テーブル
6を停止してシーム接合を停止させる。
ンプや警告ブザーなどによつて警告したり、テー
パローラ電極7,8の電流を遮断し回転テーブル
6を停止してシーム接合を停止させる。
この実施例においてキヤツプ5の直径を12.87
mmとし、テーパローラ電極7,8のテーパ角θを
15°とする。キヤツプ5の正規の位置からのずれ
xが1.0mmあるものとすればテーパローラ電極7,
8はそれぞれ H=1.0×tan15° =1.0×0.27 =0.27mm だけ上方および下方に変位する。回転テーブル6
は約11.2秒かけて185°回転する。従つてテーパロ
ーラ電極7,8はキヤツプ5の円周の20.2mmを
11.2秒かけて転接する間に、0.27mmづつ変位する
ことになる。
mmとし、テーパローラ電極7,8のテーパ角θを
15°とする。キヤツプ5の正規の位置からのずれ
xが1.0mmあるものとすればテーパローラ電極7,
8はそれぞれ H=1.0×tan15° =1.0×0.27 =0.27mm だけ上方および下方に変位する。回転テーブル6
は約11.2秒かけて185°回転する。従つてテーパロ
ーラ電極7,8はキヤツプ5の円周の20.2mmを
11.2秒かけて転接する間に、0.27mmづつ変位する
ことになる。
テーパローラ電極7,8の上下逆向きの変位の
絶対値の和は変位検出回路20で求められ、この
変位量が設定器25で設定された許容範囲を外れ
ると制御回路26は警告を発し、シーム接合動作
を停止する。
絶対値の和は変位検出回路20で求められ、この
変位量が設定器25で設定された許容範囲を外れ
ると制御回路26は警告を発し、シーム接合動作
を停止する。
以上の実施例においては2つのテーパローラ電
極7,8の変位の絶対値の和を変位検出器20で
求めているが、本発明はこれに限られるものでは
ない。例えばキヤツプ周縁がテーパローラ電極の
回転軸に対して常に直交する方向に移動する場合
には、一方のテーパローラ電極のみの変位を検出
して、その絶対値を設定値と比較してもよい。こ
のような方法が適用可能な場合としては、円形キ
ヤツプを回転させてシーム接合する場合、矩形の
キヤツプをその周縁方向に平行移動させてシーム
接合する場合などが考えられる。
極7,8の変位の絶対値の和を変位検出器20で
求めているが、本発明はこれに限られるものでは
ない。例えばキヤツプ周縁がテーパローラ電極の
回転軸に対して常に直交する方向に移動する場合
には、一方のテーパローラ電極のみの変位を検出
して、その絶対値を設定値と比較してもよい。こ
のような方法が適用可能な場合としては、円形キ
ヤツプを回転させてシーム接合する場合、矩形の
キヤツプをその周縁方向に平行移動させてシーム
接合する場合などが考えられる。
また、1つの位置センサにより、2つのテーパ
ローラ電極の相対変位を検出し、その絶対値を設
定値と比較するようにしてもよい。例えば、差動
変圧器を位置センサとして用いる場合にはこの差
動変圧器のコイル側を一方のシヤフト13に、可
動鉄心側を他方のシヤフト13にそれぞれ固定し
て、両者の相対変位を1つの差動変圧器で検出し
てもよい。
ローラ電極の相対変位を検出し、その絶対値を設
定値と比較するようにしてもよい。例えば、差動
変圧器を位置センサとして用いる場合にはこの差
動変圧器のコイル側を一方のシヤフト13に、可
動鉄心側を他方のシヤフト13にそれぞれ固定し
て、両者の相対変位を1つの差動変圧器で検出し
てもよい。
この場合には位置センサの出力は前記第1,2
図の実施例のものに比べて2倍になるから感度が
向上する。このような方法によれば、正多角形の
キヤツプを回転させつつシーム接合する場合のよ
うに2つの位置センサが同時に上下動する場合に
も、キヤツプのずれによる変位のみを検出できる
利点がある。
図の実施例のものに比べて2倍になるから感度が
向上する。このような方法によれば、正多角形の
キヤツプを回転させつつシーム接合する場合のよ
うに2つの位置センサが同時に上下動する場合に
も、キヤツプのずれによる変位のみを検出できる
利点がある。
また、前記第1,2図の実施例では、位置セン
サ18として差動変圧器を用いゼロ設定器18a
によつてゼロ調整するが、本発明における変位検
出回路はこれに限定されるものでないのは勿論で
ある。例えば、テーパローラ電極への通電開始時
またはその直前におけるテーパローラ電極の位置
を示す位置センサの出力を記憶し、その後のシー
ム接合中の位置センサの出力とこの記憶値との差
から変位を求めてもよい。また、位置センサの出
力の最大値と最小値を求め両者の差から最大変位
を求めたり、位置センサの出力の変化率からキヤ
ツプのずれを間接的に検出するものなど種々の構
成が可能である。本発明はキヤツプのずれをテー
パローラ電極の変位に基づいて検出するものであ
れば全て包含するものである。
サ18として差動変圧器を用いゼロ設定器18a
によつてゼロ調整するが、本発明における変位検
出回路はこれに限定されるものでないのは勿論で
ある。例えば、テーパローラ電極への通電開始時
またはその直前におけるテーパローラ電極の位置
を示す位置センサの出力を記憶し、その後のシー
ム接合中の位置センサの出力とこの記憶値との差
から変位を求めてもよい。また、位置センサの出
力の最大値と最小値を求め両者の差から最大変位
を求めたり、位置センサの出力の変化率からキヤ
ツプのずれを間接的に検出するものなど種々の構
成が可能である。本発明はキヤツプのずれをテー
パローラ電極の変位に基づいて検出するものであ
れば全て包含するものである。
(発明の効果)
本発明は以上のように、半導体回路素子の容器
をマイクロパラレルシーム接合する際に、テーパ
ローラ電極の変位に基づいてキヤツプのずれが許
容範囲内にあるか否かを判別することによりシー
ム接合の良否を検出する。このため2つのテーパ
ローラ電極のキヤツプ接触部分の回転半径の差が
許容範囲を越えて過大にならず、温度のアンバラ
ンスによる接合不良を高精度に検出できる。この
結果次のような種々の効果を得ることができる。
をマイクロパラレルシーム接合する際に、テーパ
ローラ電極の変位に基づいてキヤツプのずれが許
容範囲内にあるか否かを判別することによりシー
ム接合の良否を検出する。このため2つのテーパ
ローラ電極のキヤツプ接触部分の回転半径の差が
許容範囲を越えて過大にならず、温度のアンバラ
ンスによる接合不良を高精度に検出できる。この
結果次のような種々の効果を得ることができる。
(1) シーム接合不良に基づく容器の気密性の低下
を防止し、製品の歩留りを著しく高めることが
できる。
を防止し、製品の歩留りを著しく高めることが
できる。
(2) 後工程の組立作業中や使用中に破損しない強
固な気密封止が可能になる。
固な気密封止が可能になる。
(3) 2つの接合部の温度のアンバランスが小さく
なるので、温度が過度に上昇することがなくな
り、テーパローラ電極や容器の損傷が発生しな
い。
なるので、温度が過度に上昇することがなくな
り、テーパローラ電極や容器の損傷が発生しな
い。
(4) 温度が過度に上昇することがないので、収容
する半導体回路素子の温度による特性への悪影
響を防止することができる。
する半導体回路素子の温度による特性への悪影
響を防止することができる。
第1図、本発明の一実施例である装置の側面
図、第2図は接合不良判別装置のブロツク図、第
3図はマイクロパラレルシーム接合法の説明図、
第4,5図は本発明の原理説明図である。 3……容器本体、4……半導体回路素子、5…
…キヤツプ、7,8……テーパローラ電極、18
……位置センサ、20……変位検出回路、22…
…差動増幅回路、23……絶対値回路、24……
比較回路、25……設定器。
図、第2図は接合不良判別装置のブロツク図、第
3図はマイクロパラレルシーム接合法の説明図、
第4,5図は本発明の原理説明図である。 3……容器本体、4……半導体回路素子、5…
…キヤツプ、7,8……テーパローラ電極、18
……位置センサ、20……変位検出回路、22…
…差動増幅回路、23……絶対値回路、24……
比較回路、25……設定器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体回路素子を収容する上方が開口した容
器本体にキヤツプを載せ、前記キヤツプの対称な
周縁に接触するように配置された一対のテーパロ
ーラ電極を、前記キヤツプの周縁に上方から転接
させつつ通電することにより、前記キヤツプと容
器本体との間に介在するメツキ層を溶融させ、前
記キヤツプを前記容器本体にシーム接合するマイ
クロパラレルシーム接合装置において、 少くとも一方の前記テーパローラ電極の上下方
向の変位に基づいて前記キヤツプのずれによる接
合不良を判別することを特徴とするマイクロパラ
レルシーム接合装置の接合不良判別方法。 2 前記キヤツプの周縁が前記テーパローラ電極
の回転軸に対して直交する方向に相対移動され、
一方のテーパローラ電極の変位を検出しこの変位
が予め設定した許容範囲を外れたことから接合不
良を判別することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のマイクロパラレルシーム接合装置の接
合不良判別方法。 3 2つのテーパローラ電極の相対変位を検出
し、この相対変位は予め設定した許容範囲を外れ
たことから接合不良を判別することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載のマイクロパラレルシ
ーム接合装置の接合不良判別方法。 4 半導体回路素子を収容する上方が開口した容
器本体にキヤツプを載せ、前記キヤツプの対称な
周縁に接触するように配置された一対のテーパロ
ーラ電極を、前記キヤツプの周縁に上方より転接
させつつ通電することにより前記キヤツプと容器
本体との間に介在するメツキ層を溶融させ、前記
キヤツプを前記容器本体にシーム接合するマイク
ロパラレルシーム接合装置において、 前記キヤツプのずれが無い状態を基準として少
くとも一方の前記テーパローラ電極の変位を検出
する変位検出回路と、前記テーパローラ電極の変
位の許容範囲を設定する設定器と、前記テーパロ
ーラ電極の変位を前記許容範囲と比較する比較器
とを備え、前記テーパローラ電極の変位が前記許
容範囲を外れたことから接合不良を判別すること
を特徴とするマイクロパラレルシーム接合装置の
接合不良判別装置。 5 一対のテーパローラ電極は前記キヤツプの周
縁の移動方向に直交する直線上に対向配置され、
変位検出回路は、一方のテーパローラ電極の変位
を検出する位置センサと、この位置センサの出力
の絶対値を求める絶対値回路とを備えることを特
徴とする特許請求の範囲第4項記載のマイクロパ
ラレルシーム接合装置の接合不良判別装置。 6 変位検出回路は2つのテーパローラ電極の相
対変位を検出する1つの位置センサと、この位置
センサの出力の絶対値を求める絶対値回路とを備
えることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
のマイクロパラレルシーム接合装置の接合不良判
別装置。 7 変位検出回路は2つのテーパローラ電極のそ
れぞれの変位を検出する2つの位置センサと、こ
れら各位置センサの出力の差を求める差動増幅器
と、この差動増幅器の出力の絶対値を求める絶対
値回路とを備えることを特徴とする特許請求の範
囲第4項記載のマイクロパラレルシーム接合装置
の接合不良判別装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60022749A JPS61183946A (ja) | 1985-02-09 | 1985-02-09 | マイクロパラレルシ−ム接合装置の接合不良判別方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60022749A JPS61183946A (ja) | 1985-02-09 | 1985-02-09 | マイクロパラレルシ−ム接合装置の接合不良判別方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61183946A JPS61183946A (ja) | 1986-08-16 |
| JPH0344421B2 true JPH0344421B2 (ja) | 1991-07-05 |
Family
ID=12091338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60022749A Granted JPS61183946A (ja) | 1985-02-09 | 1985-02-09 | マイクロパラレルシ−ム接合装置の接合不良判別方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61183946A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100348744B1 (ko) * | 1998-06-17 | 2002-10-25 | 차이나 스틸 코포레이션 | 벽부재상의링리테이너내에장착되는튜브형본체의조립과해체에적합한푸시풀장치 |
| KR101366536B1 (ko) * | 2012-12-13 | 2014-02-28 | 주식회사 장원 | 용광로용 풍구해체장치 |
| LU100373B1 (en) * | 2017-08-18 | 2019-03-26 | Wurth Paul Sa | Extraction Device for a Tuyere Part |
-
1985
- 1985-02-09 JP JP60022749A patent/JPS61183946A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61183946A (ja) | 1986-08-16 |
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