JPH0345822B2 - - Google Patents

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JPH0345822B2
JPH0345822B2 JP9278582A JP9278582A JPH0345822B2 JP H0345822 B2 JPH0345822 B2 JP H0345822B2 JP 9278582 A JP9278582 A JP 9278582A JP 9278582 A JP9278582 A JP 9278582A JP H0345822 B2 JPH0345822 B2 JP H0345822B2
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JP
Japan
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vinyl
group
methacrylate
photosensitive
acrylate
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JP9278582A
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JPS58209733A (ja
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Toshuki Sekya
Toshiaki Aoai
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、感光性組成物に関し、特に感光性平
版印刷版に好適に使用される感光性組成物に関す
るものである。更に詳しくは、貯蔵安定性の改善
された感光性組成物に関するものである。 予じめ感光性を与えられた印刷材料の感光性物
質として使用されているものの大多数はジアゾニ
ウム化合物であり、その最も常用されているもの
にp−ジアゾジフエニルアミンのホルムアルデヒ
ド縮合物に代表されるジアゾ樹脂がある。このよ
うなジアゾ樹脂を紙、プラスチツク又は金属等の
適当な支持体上に塗布し、それを透明陰画を通し
て活性光線に露光した場合、露光された部分のジ
アゾ樹脂は分解を起して不溶性に変化する。一方
未露光部を水で溶解除去することにより支持体表
面が露呈する。予め親水化処理を施した表面を有
する支持体を用いれば、未露光部は現像により該
親水層を露呈する。従つてオフセツト印刷機上に
於て、この部分は水を受付けてインキを反撥す
る。又、分解した部分のジアゾ樹脂は親油性を呈
し、水を反撥してインキを受付ける。つまりこの
ような印刷材料はいわゆるネガーポジ型の印刷版
を与える。 かかる感光性組成物は、その貯蔵性が低いた
め、今まで種々の改良が試みられたが、特に高温
多湿下での保存安定性に関しては、依然として満
足すべき結果を与えるものは得られていない。 従つて、本発明の目的は、貯蔵安定性の優れた
感光性組成物を提供することであり、特に高温多
湿下に長時間保存したのちにおいても、性能的に
劣化しないジアゾ化合物を含む感光性組成物を提
供することである。 本発明者らは鋭意研究の結果、水酸基を有する
高分子化合物および下記一般式で示され、かつ該
式に於いてnが1〜5のものを90モル%以上含む
ジアゾ樹脂を含有することを特徴とする感光性組
成物によつて本発明の目的が達成されることを見
出した。 一般式() 〔式中R1は炭素数1〜3のアルキル基、R2
水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、またはフ
エニル基、Xは芳香族スルホン酸、nは1以上の
整数を表わす。〕 R1の具体例としては、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、iso−プロピル基などが含まれ、
R2の具体例としては、水素原子、メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、フ
エニル基などが含まれる。これらの中で特に好ま
ましいものは、R1がメチル基、R2が水素原子ま
たはメチル基のものである。 Xの具体例としては、トリイソプロピルナフタ
レンスルホン酸、4,4′−ビフエニルジスルホン
酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンス
ルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼン
スルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンス
ルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフト−5−スルホン酸、2−メト
キシ−4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイル−ベン
ゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸など
が含まれる。これらの中で特に好ましいものは、
2−メトキシ−4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイ
ルベンゼンスルホン酸である。 本発明において使用される前記ジアゾ樹脂(以
下本発明のジアゾ樹脂という)は、例えば3−メ
トキシ−4−ジアゾジフエニルアミン、3−エト
キシ−4−ジアゾジフエニルアミン、3−(n−
プロポキシ)−4−ジアゾジフエニルアミン、ま
たは3−(iso−プロポキシ)−4−ジアゾジフエ
ニルアミンのようなジアゾモノマーと、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデ
ヒド、n−ブチルアルデヒド、iso−ブチルアル
デヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合剤
をモル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは
1:0.8〜1:0.6を通常の方法で縮合して得られ
た縮合物と芳香族スルホン酸塩との反応生成物で
ある。縮合の比率が1:1を越えると得られたジ
アゾ樹脂の有機溶媒に対する溶解性が悪くなり、
1:0.5に満たないと感光性組成物の露光部の機
械的強度が不十分となり、本発明の感光性組成物
としては不適となる。本発明のジアゾ樹脂は、感
光性組成物中に0.1重量%以上含有することが十
分な可視画性の点から必要であるが、50重量%を
超えると感光性組成物の感度が低下してくるので
50重量%を超えないことが好ましい。本発明のジ
アゾ樹脂の更に好ましい含有量は約3〜約20重量
%の範囲である。本発明のジアゾ樹脂のほか特開
昭50−118802号公報や特公昭52−7364号公報など
に記載されているようなジアゾ化合物を適当に併
用することができる。 本発明において使用される水酸基を有する高分
子化合物としては、例えば下記一般式()で示
されるモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙
げられる。 一般式() (一般式()中、R1は水素原子またはメチ
ル基を示し、R2は水素原子、メチル基、エチル
基またはクロロメチル基を示し、nは1〜10の整
数を示す。) 前記共重合体の他のモノマーとしては、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、およ
びアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、ア
リル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類、スチレン類、クロトン酸エステル類などがあ
り、付加重合性不飽和結合を1個有する化合物か
ら選ばれる。具体的には、例えばアクリル酸エス
テル類、例えばアルキルアクリレート(例えばア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オ
クチル、アクリル酸−t−オクチル、クロロエチ
ルアクリレート、2・2−ジメチルヒドロキシプ
ロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルア
クリレート、トリメチロールプロパノアクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グ
リシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、
メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート
など):アリールアクリレート(例えばフエニル
アクリレートなど);メタクリル酸エステル類、
例えば、アルキルメタアクリレート(例えばメチ
ルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、クロルベンジルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメ
タクリレート、2・2−ジメチル−3−ヒドロキ
シプロピルメタクリレート、トリメチロールプロ
パンモノメタクリレート、ペンタエリスリトール
モノメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレートなど)、アリールメタクリ
レート(例えば、フエニルメタクリレート、クレ
ジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートな
ど);アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、
N−アルキルアクリルアミド、(該アルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプチル基、オク
チル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチル
基、ベンジル基などがある。)、N−アリールアク
リルアミド(該アリール基としては、例えばフエ
ニル基、トリル基、ニトロフエニル基、ナフチル
基、ヒドロキシフエニル基などがある。)N−N
−ジアルキルアクリルアミド(該アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、ブチル基、イソブチ
ル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基など
がある。)、N・N−ジアリールアクリルアミド
(該アリール基としては、例えばフエニル基など
がある。)、N−メチル−N−フエニルアクリルア
ミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリ
ルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−ア
セチルアクリルアミドなど;メタクリルアミド
類、例えばメタクリルアミド、N−アルキルメタ
クリルアミド(該アルキル基としては、メチル
基、エチル基、t−ブチル基、エチルヘキシル
基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基など
がある。)、N−アリールメタアクリルアミド(該
アリール基としては、フエニル基などがある。)
N・N−ジアルキルメタクリルアミド(該アルキ
ル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基
などがある。)、N・N−ジアリールメタクリルア
ミド(該アリール基としては、フエニル基などが
ある。)N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタ
クリルアミド、N−メチル−N−フエニルメタク
リルアミド、N−エチル−N−フエニルメタクリ
ルアミドなど;アリル化合物、例えばアリルエス
テル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、
カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチ
ル酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリ
ル、アセトン酢酸アリル、乳酸アリルなど)、ア
リルオキシエタノールなど;ビニルエーテル類、
例えばアルキルビニルエーテル(例えばヘキシル
ビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシ
ルビニルエーテル、エチルヘキシビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエ
チルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテ
ル、1−メチル−2・2−ジメチルプロピルビニ
ルエーテル、2−エチルブチルエーテル、ヒドロ
キシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコー
ルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテ
ル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジ
ルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニ
ルエーテルなど)、ビニルアリールエーテル(例
えばビニルフエニルエーテル、ビニルトリルエー
テル、ビニルクロルフエニルエーテル、ビニル
2・4−ジクロルフエニルエーテル、ビニルナフ
チルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど);ビニルエステル類、例えばビニルブチレー
ト、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルア
セテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバ
レレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルア
セテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメ
トキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、
ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテ
ート、ビニルラクテート、、ビニル−β−フエニ
ルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシ
レート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、ク
ロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニ
ル、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン類、例えば
スチレン、アルキルスチレン(例えばメチルスチ
レン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、
エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピ
ルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレ
ン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリ
フルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレ
ン、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキ
シスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メト
キシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン
など)、ハロゲノスチレン(例えばクロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テ
トラクロルスチレン、ベンタクロルスチレン、ブ
ロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレ
ン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、
2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、
4−フルオル−3−トリフルオルメチルスチレン
など);クロトン酸エステル類、例えば、クロト
ン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチル、クロト
ン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネートな
ど);イタコン酸ジアルキル類(例えばイタコン
酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、、イタコン酸
ジブチルなど);マレイン酸あるいはフマール酸
のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、ジ
ブチルフマレートなど)等がある。その他一般的
には前記一般式()で示される化合物と共重合
可能である付加重合性不飽和化合物であればよ
い。また前記一般式()で示されるモノマーの
単独重合体、共重合体、フエノールノボラツク等
の芳香族水酸基を一部エステル化またはエーテル
化して得られる樹脂も包含する。但し、重合体中
に含まれる一般式()で示される構造単位(モ
ノマー)は、1〜80モル%であり、好ましくは5
〜60モル%である。 構造単位が1モル%より低い場合は、保存安定
性に問題があり、80モル%を超える場合は、露光
部が溶解してポジ−ポジ型の感光性複写層を与
え、本発明の感光性組成物としては不適となる。 上にあげた高分子化合物以外に、例えばポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹
脂、シエラツクまたは特開昭54−98614号公報に
記載されたような、芳香族水酸基を有する単量体
単位を高分子構造式中に含有する重合体も、本発
明の水酸基を有する高分子化合物として用いるこ
とができる。本発明に用いられる水酸基を有する
高分子化合物は、感光性組成物中に、約50〜99.5
重量、好ましくは約55〜95重量%含有させられ
る。 本発明の感光性組成物には、更に染料、英国特
許第1041463号明細書に記載されているようなPH
指示薬、米国特許第3236646号明細書に記載され
ているよような燐酸などの添加剤を含有させるこ
とができる。 本発明において、ジアゾ樹脂および水酸基を有
する高分子化合物を含む感光性組成物は、必要に
より添加剤を加え、溶媒に溶解したのち、アルミ
ニウム板、その他の金属板、プラスチツクフイル
ムなどの基板に塗布、乾燥して感光性平版印刷版
とすることができる。その塗布量は乾燥重量で通
常約0.5〜約6g/m2が適当であり、好ましくは
約0.3〜約3.0g/m2である。 次に本発明を実施例により更に詳細に説明する
が、本発明の実施の態様がこれにより限定される
ものではない。 実施例 1 厚さ0.15mmの2Sアルミニウム板を80℃に保たれ
た第三りん酸ソーダの10%水溶液に3分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立て後、60℃の
アルミン酸ソーダで約10秒間エツチングし、次に
硫酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマツトし
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で2A/d
m2、2分間陽極酸化し、その後70℃のケイ酸ソー
ダ2.5%水溶液で1分間処理し陽極酸化アルミニ
ウム板()を作成した。 このアルミニウム板()には、次のような組
成を有する感光液をホワイラーを用いて塗布し
た。ついで100℃の温度で2分間乾燥し感光液−
1からは感光性平版印刷版Aを得た。比較例とし
て上記方法と同様にして感光液−2から感光性平
版印刷版Bを得た。乾燥後の塗布重量はどちらも
2.0g/m2であつた。 感光液 1 共重合体1 5.0g ジアゾ樹脂1 0.5g オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製染
料) 0.1g 蓚 酸 0.05g メチルセロソルブ 100g ただし、上記共重合体−1は、モル比で2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート/アクリロニトリ
ル/メチルメタアクリレート/メタクリル酸=1
0/50/30/10の組成を有するものであり、ジア
ゾ樹
脂−1は、3−メトキシ−4−ジアゾジフエニル
アミンとパラホルムアルデヒドの縮合比がモル比
で各々1:0.6の縮合物の2−メトキシ−4−ヒ
ドロオキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸
塩である。このジアゾ樹脂1の分子量分布をゲル
パーミネーシヨンクロマトグラフイー(GPC)
にて測定したところ、5量体以下が全体の95モル
%であつた。 感光液 2 感光液−1のジアゾ樹脂−1をジアゾ樹脂−2
に置き換えてただけで、他はすべて感光液−1と
同じ。ただし上記ジアゾ樹脂−2は、前記のジア
ゾ樹脂−1の3−メトキシ−4−ジアゾジフエニ
ルアミンをp−ジアゾジフエニルアミンに置き換
えたものである。 こうして得られた感光性平版印刷版AおよびB
を40℃、80%RHの条件に5日間放置した後、富
士写真フイルム(株)製PSライトで1mの距離から
1分間画像露光し、次に示す現像液にて、室温で
1分間浸漬後、脱脂綿で表面を軽くこすり、未露
光部を除去しそれぞれ平版印刷版AおよびBを得
た。 亜硫酸ナトリウム 5g ベンジルアルコール 30g 炭酸ナトリウム 5g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
12g 水 1000g この平版印刷版AおよびBをハイデルベルグ社
製GTO印刷機で市販のインクにて上質紙に印刷
したところ、印刷板Bにより印刷された印刷物に
は地汚れがみられたのに対し、印刷版Aより印刷
された印刷物には地汚れが全くみられず、良好な
印刷物が100000枚得られた。 実施例 2 実施例1における感光液−1中、共重合体−1
を共重合体−2に代えた以外は、実施例1と同じ
方法で感光性平版印刷版Cを得て、これを同様に
製版、印刷したところ実施例1と同様に地汚れは
全く発生せず良好な印刷物が80000枚得られた。 ただし、上記共重合体−2は、モル比でp−ヒ
ドロキシフエニルアクリルアミド/アクリロニト
リル/メチルメタアクリレート/メタアクリル酸
=30/30/30/10の組成を有するものである。 実施例 3 実施例1における感光液−1中、ジアゾ樹脂−
1を下記ジアゾ樹脂3〜6に置きかえた以外は実
施例1と同様にして感光性平版印刷版D〜Gを得
て、これを同様に製版、印刷したところいずれも
地汚れの発生しない良好な印刷物を多数得た。 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 水酸基を有する高分子化合物および下記一般
    式で示され、かつ該式に於いてnが1〜5のもの
    を90モル%以上含むジアゾ樹脂を含有することを
    特徴とする感光性組成物。 一般式 〔式中R1は炭素数1〜3のアルキル基、R2
    水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、またはフ
    エニル基、Xは芳香族スルホン酸、nは1以上の
    整数を表わす。〕
JP9278582A 1982-05-31 1982-05-31 感光性組成物 Granted JPS58209733A (ja)

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JPH03296756A (ja) * 1990-04-16 1991-12-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
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