JPS58209733A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPS58209733A
JPS58209733A JP9278582A JP9278582A JPS58209733A JP S58209733 A JPS58209733 A JP S58209733A JP 9278582 A JP9278582 A JP 9278582A JP 9278582 A JP9278582 A JP 9278582A JP S58209733 A JPS58209733 A JP S58209733A
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JP
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group
vinyl
diazo
methacrylate
photosensitive composition
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JP9278582A
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Toshiyuki Sekiya
関屋 俊之
Toshiaki Aoso
利明 青合
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、感7T:性組成物に関し、%に感光性平版印
刷版に好適に更用さ1しる感光性組成物に関するもので
ある。更に詳しくは、貯賦安定性の改善された感光性組
成物に開すΦものである。
予じの感光性を与えられた印刷材料の感光性物質とし″
′C反用されているものの大多数はジアゾニウム化合物
であL−t″の最も常用されているものにp−ジアゾジ
フェニルアミンのホルムアルデヒド舗合物に代表される
ジアゾ僧脂がある。この工うなジアゾ樹脂を紙、ブ2ス
チツク又は笠属等の適当な支持体上に塗布し、それで透
明陰画を通して活性光線に露光した場合、露光された部
分のジアゾw哨は分4C起して不溶性に変化する。−万
禾無光部r水で溶解除去することに工り支持体表面が絡
呈する。予め親水化処理を施し九表面盆有する支持体r
用いれは、米層元部は境僧にエリ該親水Lm ’!r 
B呈する。従ってオフセット印刷機上に於て、この部分
は水に受付けてインキで反撥する。
父1分解(〜た部分のジアノ′悄脂は親油性を呈し。
水忙反倣してインキを受付ける。つ1りこのLうな印刷
材料ばいわゆるネガ−ポジ型の臼刷版ヶ与える。
ρ)でする感光性組成物に、七の貯蔵性か低いため、今
互で糧々の改良が試みられたが、%に高温多湿下での保
存安定性に関しては、依然として#達すべき結果を与え
るものは得りれていない。
従って1本発明の目的は、貯蔵安定性の優れた感光性組
成物で提供することでめり1%に高温多湿下に負時間保
存したのちにおいて%、l!t−能的に劣化しないジア
ゾ化合物r含む感光性組成物r提供することでめる。
本発閣者すは鋭意研究の結果、水酸基を有する高分子化
合物お工び下記一般式で示され、〃1つ核酸に於いてn
が7〜!のものtりOモル慟以上含ひンアゾ醐脂勿含M
することケ特徴とする感光性組成物に工って本発明の目
的が達成されることr見出した。
N2■灼 〔式中R1は炭素数/〜3のアルキル基hR2は水素原
子、炭素数l〜3のアルキル基、または7ヱニル基、又
は芳香族スルホンait nは1〜/!の整数を表わす
。〕 R11の具体例としては、メチル基、エチル基。
n−プロピル基+1so−プロピル基などが含lれ、R
2の具体例としては、水素原子、メチル基。
エテルJL  n−プロピル基ttso−プロピル基。
フェニル基などが含まれる。こnらの甲で特に好ましい
ものid、R1がメチル基、Rzが水素原子またはメチ
ル基のものである。
Xの具体Vllとしては、iジイソプロビル1フタレン
スルホン敵、弘、弘′−ビフェニルジスルホン除、j−
二トロオルトートルエンスルホン酸。
j−スルホサリチル酸%λ、!−ジメチルベンゼンスル
ボン飯& λ、≠、6−ドリメテルベンセンスルホン酸
、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンセン
スルホン酸、3−70モベンゼンスルホン#i1 λ−
クロローよ一二トロベンセンスルホン酸、λ−フルオロ
カブリルナ7タレンスルホン酸、l−す7トールー!−
スルホン虐、2−メトキ/−≠−ヒドロオキシ−5−ベ
ンゾイル−ベンゼンスルホン酸及ヒバラドルエンスルホ
ン酸などが含lれる。これらの中で特に好ましいものは
、ニーメトヤシ−弘−ヒドロオキンーよ一ベンゾイルベ
ンセンスルホン酸で、Sる。
本発明に2いて便用される前にジアゾ樹脂(以下本%明
の7γゾ慎脂というンは、fllえば3−メトキシ−≠
−ンアンンフェニルアミン% 3−エトキン−弘−/ア
ゾジフェニルアミン、3−(n−プロポキシ)−弘−ジ
アゾジフェニルアミン、また12j−(iso−プロポ
キシ〕−μmジアゾジフェニルアミンの工うなジアゾモ
ノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、jso−ブチル
アルデヒド、またはベンズアルデヒドの工うな縮合剤7
モル比で各々/:/−i:o、r、好ましくは/ :0
.J〜i:o、ty(通常の方法で縮合して得られた縮
合物と芳香族スルホン酸塩との反応生成物である。縮合
の比率がi:iy(越えると得られたジアゾ側御の有機
溶媒に対する溶解性が悪くなり、i:o、rに満たない
と感光性組成物の露光部の機械的装置が不十分となシ1
本発明の感光性組成物としては不適となる。本発明のジ
アゾ衝鹿は、感光性組成物中にo、i重□量倦以上含有
することが十分な可視画性の点から必要であるが。
5oMii囁を超えると感光性組成物の感度が低下して
くるのでjoN@Tok:@えないことが好ましい。本
発明のジアゾ慨脂の更に好ましい含有賞は約3〜約−1
O重書聾の範囲である。本発明のジアゾ樹脂のは小待開
陪30−//♂♂Oλ号公報や待公陥jλ−736≠汚
公報などに記載されている工うなジアゾ化合物で適当に
併用することができる。
本発明に2いて使用される水散基に有する高分子化合物
としては1例えば下記−数式(川)で示されるモノマー
と他のモノマーとの共重合体が椹げられる。
一般式(11) %式% ) (一般式(11)中、R1は水素原子またはメチル基で
示し、R2は水素原子、メチル基、エチル基またはクロ
ロノチル基會示し、nは/〜10の整数を示す。) 前記共重合体の他のモノマーとしては5例えばアクリロ
ニトリル、メタアクリロニトリル、&工ひアクリル酸エ
ステル類、アクリルアミド聾、メタクリル酸エステル声
、メタクリルアミド箒、ア拳、スチレンか、クロトン酸
エステル類などがあり、付のロ単合性不箆和結合t/個
有する化合物から選ばれる。具体的には、例えばアクリ
ル酸エステル脂、?4えばアルキルアクリレート(例え
ばアクリル戯メナル、アクリル酸エナル、アクリル酸プ
ロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル。
アクリル酸エテルヘキシル、アクリル酸オクチル。
アクリルa−t−オクチル、クロロエチルアクリレート
、λ・λ−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、
!−ヒドロキンベノテルアクリレート、トリメチロール
プロパンモノアクリレート。
ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレートなど);アリールアクリレート
(例えはフェニルアタリレートなど);メタクリル醪エ
ステル類、例えは。
アルキルメタアタリレート(例えばメチルメタクリレー
ト、エチルメタ′クリレート、プロピルメタクリレート
、インブロビルメメクリレート、アミルメタタリンート
、ヘキフルメタクリレート、シクロヘキンルメタクリレ
ート、ヘンシルメタクリレート、クロルベンジルメタノ
リレート、オクチルメタクリレート、μmとドロギンブ
ナルメタクリレート、!−ヒドロキシペンチルメタクリ
レート、2・−一ジメチルー3−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルアクリレートなど)、アリールメタ
クリレート(例えば、クエニルメタクリレート、クレジ
ルメタクリレート、オクチルメタクリレートなど);ア
クリルアミド類、例えはアクリルアミド、N−アルキル
アクリルアミド、(該アル干ル基としては1例えばメチ
、ル基、エチル壷、プロピル基、ブチル基。
1−ブナル基、ヘプチル基、オタチル基、ンクロヘキシ
ル丞、ヒドロキンエテル示、ヘンシル基などかめる。)
、ヘーアリールアクリルアミト(該アリール基としては
1例えはフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナ
フチル基、ヒトC! # ジフェニル基などがある。)
、IN−ヘージアルキ九アクリルアミド(該アルキル基
としては、メチル基、エナル基、フテル基、イソブチル
基、エチルヘキシル基、ンクロヘキシル基などかめる。
)。
N−N−ジアリールアクリルアミド(該アリール基とし
ては1例えばフェニル基などかめる。)。
N−y’fルーN −フェニルアクリルアミド、N −
ヒドロキシエテに−N−メチルアクリルアミド。
N−λ−アセトアミドエチルー[\−アセチルアクリル
アミドなど;メタクリルアミド類1例えばメタクリルア
ミド、N−アルキルメタクリルアミド(該アル千ル基と
しては、メチル基、エチル基。
t−グチル基、エテルへ千ンル基、ヒドロキシエチル基
、シクロヘキンル基などがある。)、N−アリールメタ
クリルアミド(該アリール基としては、フェニル基なと
がめる。)、h・ヘージアルそルメタクリルアミド(拶
アルキル基としては。
エチル基、プロピル某、グチル基なとかある。色。
へ・N−ジアリールメタクリルアミド(該アリール基と
して1シ、フェニル基などがめる。ン、へ一ヒドロキ7
エナルーへ一メチルメタクリルアミド。
N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチ
ルーN−フェニルメタクリルアミドなど;アリル化合物
、9′I!えはアリルエステル類(例えば酢酸アリル、
カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラワリン酸アリ
ル、バルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香
酸アリル、アセトン酢酸アリル、乳酸アリルなど)、ア
リルオキシエタノールなど;ビニルエーテル崇、例えば
アルキルビニルエーテル(fFIItハヘキシルビニル
エーテル。
オクチルビニルエーテル、テシルビニルエーテル。
エチルへキシヒニルエーテル、メトキシエチルビニルエ
ーテル、エトキンエチルビニルエーテル。
クロルエチルビニルニーデル、l−メナルーλ・2−ジ
メチルプロピルビニルエーテル、+2−エテルブナルエ
ーテル、ヒドロキシエテルヒニルエーテル、シエチレン
クリコールヒニルエーテル、シメチルアミンエチルヒニ
ルエーテル、ンエナルアビニルエーテル、ペンジルヒニ
ルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルな
こ)、ビニルアリールエーテル(fj、ti’!ビニル
フェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ヒニルクロ
ルフェニルエーテル、ヒニルー+2ぜ弘−ジクロルフェ
ニルエーテル、ビニルナ7テルエーテル、ヒニルアント
ラニIVエーテル&ど);Rニルエステル類。
例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート。
ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテー
ト、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ヒニルメ
トキ7アセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニル
アセトアセテート。
ビニルアセトアセテート、ヒニルラクテート、ヒニルー
!−フェニルフチレート、ヒニルシクロヘキシルカルホ
キシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ヒニル、クロ
ル安息香醪ヒニル、テトラクロル簀K ft 酸ビニル
、す7トエ酸ビニルナト;スチレン類1例エバスチレン
、アルキルスチレン(yeJえはメチルスチレン、ジメ
チルスチレン、iジメチルスチレン、エチルスチレン、
ンエナルスチレン、イノプロピルスチレン、ブチルスチ
レン。
ヘキフルスナレン、シクロヘキシルスチレン、テシルス
テレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、ト
lJフルオルメチルスチレン、エトキンメナルスチレン
、アセトキ/メチルスチレンなト)、アルコキシスチレ
ン(@えばメトキ7スチレン、弘−メトキシ−3−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレンなト)、ノ・ロゲノス
チレン(fluばクロルスチレン、ジクロルスチレン、
トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタク
ロルスチレン、ブロムスチレン、シフロムスチレン、ヨ
ードスチレン、フルオルスチレン、iJフルオルスチレ
ン、λ−ブロムー≠−トリフルオルメチルスチレン、Q
−フルオル−j −1−IJ フルオルメチルスチレン
なと);クロトン酸エステル−1例えは、クロrン酸ア
ルキル チル,クロト/酸ヘキシル、グリセリンモノクロ←不−
1−&と);イタコン酸ジアルキル(L′:イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン−ジブチルな
ど);マレインmめるいにフマール酸のジアルキル拳(
例えばジメチルマレレート、ジブチル7マレートなど)
等かめる。その他一般的には前記一般式(If)で示さ
nる化合物と共重合可能である付加菖合性不飽和化合物
であnば二い。また前記一般式(■)で示されるモノマ
ーoh独重合体,共富合体,フェノールノボラック等の
芳香族水酸基を一部エステル化またはエーテル化して得
られるm脂も包含する。但し.N合体中に含まれる一般
式(II)で水石nる構造単位(モノマー)は、/−1
10モル暢で61)、好マしくは5〜60モル%である
構造単位が1モル%エリ低い場合は,保存安定性に問題
がめり,troモル%盆超える場合に,蕗光部が溶鱗し
1ポジーポジ型の感光性複写層?与え.本発明の感光性
組成物としては不適となる。
上にあけた尚分子化合物以外に,例えばポリビニルブチ
ラール樹脂,ポリビニルホルマール樹脂。
シェラツクまたは特開昭!弘−5#6/≠号公報に記載
さn 7’c Lうな、芳香族水酸基を有する単量体部
位τ高分子構造式中に含有する1合体も1本発明の水#
1i−r+する高分子化合物として用いることができる
。不発明に用いられる水酸基を有する高分子化合物−1
感光性組成物甲に、約jO〜タタ、3重重、好ましく゛
は約sr〜り!M焉う含有させられる。
本発明の感光性組成物には、更に染料、英国籍計渠/、
0≠/、弘乙3号明細書に記載されているLうなpH指
示楽、木国秀許第3,236.&≠6号明細書に記載さ
れている工うな燐酸などの添加剤を含有させることがで
きる。
本発明において、ジアゾ掬脂お工び水酸基?!−肩する
高分子化合物を含む感光性組成物は、必要にニジ添加剤
紫加え、浴媒に浴解したのち、アルミニウム板、その他
の金属板、プラスチックフィルムなどの基取に塗布、乾
燥して感光性平版印刷版とすることができる。その塗布
量は乾燥重置で通常約O,S〜約b t / m2が適
当でろジ、好ましくは約0.3〜約3.097m2であ
る。
仄に不発明を実施例にニジ更に詳細に説明するが1本発
明の実施の態様がこれにニジ限定されるものではない。
実施fllL fjiす0 、 / Iran(DA S フルミニT
) ム板2!r OoCに保たれfc第三りん酸ソーダ
のio優氷水浴液3分間浸漬して脱脂し、ナイロンブラ
シで砂目立て後、bo 0cのアルミン酸ソーダで約1
0秒間エツチングし1次に硫酸水素ナトリウム3%水溶
液でデスマットした。このアルミニウム板@20%億酸
中で2 A/ d m” 、2分間陽極酸化し、その後
70°Cのケイ酸ソーダλ、j″粂水溶液で1分間処理
し陽極酸化アルミニウム板(I)v作成した・ このアルミニウム&(1)に1次の工うな組成r有する
感光液勿ホワイラ−を用いて塗布した。
ついで100 °Cの温度で2分間乾燥し感光液−/〃
≧らは感光性平版印刷版A7得た。比較例とじて一ヒd
ピ方法と同様にして感5を敲−コから感光性平版印刷版
Bt得た。乾燥後の塗V5薦口はどちらもコ、Of/m
  でめった@ 感光液−/ 共重合体−/           !、Ofジアゾ側
脂−/           Q、z  gオイルブル
ー’:;1403      0./  y(オリエン
ト化学工業@製染料ン 蓚酸      0.0夕? メチルセロフル7’       l00f/ただし、
上記共重合体−lは1モル比で2−ヒドロキシエチルメ
タアクリレート/アクリロニトリル/メチルメタアクリ
レート/メタクリル酸=/ 0 / j O/ J (
) / / 00組成勿有するものがあり、ジアゾ樹脂
−7は、3−メトキシ−弘−ジアゾジフェニルアミンと
パラホルムアルデヒドの縮合比がモル比で各々/:0.
4の縮合物のλ−メトキシー弘−ヒドロオキ/−よ一ベ
ンゾ・1ルベンゼンスルホンm堪である。このジアノ情
脂−7の分子型分布tゲルパーミネーションクロマトグ
ラフィー(tJPC) Vcテml+定し罠とこO,j
N体以下が全体のりjモル囁でめった。
感光液−λ 感光液−/のジアゾ衛8百−/lジアゾ街脂−λに置き
換えたたけで、他は丁べて感光液−/と同じ。ただし上
記ジアゾ喪相−2は1m記のジアゾ418&−/の3−
メトキシ−弘−ジアゾジフェニルアミンtp−ジアンジ
フェニルアミンに直き換えたものでおる。
こりして得られた感光性平版印刷版A$i−!びB【弘
o lIc、 to優几Hの条件にj日間放置しt後、
富士写真フィルム■WP、9ライトでimの距離刀h 
>) /分間画像路光し1次に示す現像液にて。
室温で7分間浸漬後、脱qmgで表面で軽くこすり、未
勝光部を除去しそれぞれ平版印刷版AおLびBで得た。
亜硫酸ナトリウム            j2ベンジ
ルアルコール         309炭酸ナトリウム
             よ?インプロピルナフタレ
ンスルホン酸 ナトリワム             /λ2水   
                    ioooy
この平版印al+ 版A & LびB2ハイデルベルグ
社裂U ’I’ (J印刷機で市販のインクにて上實紙
に印刷したところ、印刷版BKLジ印刷さfた印刷物に
は地汚れがみらfしたのに対し、印刷版人工り印刷さn
た印刷物には池汚れが全くみら扛す、良好な印刷物が/
 00.00θ枚得られた。
実施例 龜 実施例1における感光Q−/中、共重合体−7t共重合
坏−λに代え九以外は、実施例1と同じ方法で感光性平
版団刷版(,2得て、これt同様に製版、印刷したとこ
ろ実施例1と同様に地汚れは全く発生せず良好な印刷物
が10,000枚得らnた。また蕗光後の退色が者しく
黄色安全光下での可視画性も優れていた・ ただし、上記共ム合体−2は1モル比でp−ヒドロキシ
フェニルメタアクリルアミド/アクリロニトリル/メチ
ルメタアクリレート/メタアクリル酸=3θ/30/3
θ/10の組成r有するものである。
実施例 3、 lt下紀ジアゾ斃脂3〜乙にtkき〃・えた以外は実施
例1と同様にして#元性平版印桐版D−02侍て、これ
t同様に製版、印刷したところいずnも地汚れの発生し
ない良好な1刷′@を多数得た。
手続補正書 1.事件の表示    昭和!7年特願第227gよ号
2、発明の名称   感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係       特許出願人4、補正の灼象
  明細畜の「発明の詳細な説明」の禰 5、補正の同番 (1)  明細4第弘頁の下から第2〜を行の「/〜/
jjを「7以上」と訂正する。
(2)  同第を負の第弘行の「ブチルアルデヒド」の
贋にrn−J全挿入する。
(S+  同第6頁の第7行の「o、i」を「θ、IJ
と訂正する。
(4)同第77頁の第12行の「が」を「で」と訂正す
る。
t5J  同N/り頁の第13〜l≠行の「また露光後
の退色が着しく黄色安全党下での可視画性も優れてい之
」を削除する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 水酸基t)Kする高分子化合物2工ひ下記一般式で示さ
    n、刀1つ該式に於いてnが/〜j v)%、のtりO
    モル粂以上含ひジアゾ樹脂を含有することで特徴とする
    感光性組成物。 一般式 〔式中1(1は炭素数l〜3のアルキル基、 R2は水
    素原子、炭素数/〜3のアルキル基、またはフェニル基
    、Xは芳否諌スルホン鹸、nは7以上の歪!!τ次わす
    。〕
JP9278582A 1982-05-31 1982-05-31 感光性組成物 Granted JPS58209733A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5997136A (ja) * 1982-11-26 1984-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH03296756A (ja) * 1990-04-16 1991-12-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
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