JPH0345947Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0345947Y2 JPH0345947Y2 JP12648386U JP12648386U JPH0345947Y2 JP H0345947 Y2 JPH0345947 Y2 JP H0345947Y2 JP 12648386 U JP12648386 U JP 12648386U JP 12648386 U JP12648386 U JP 12648386U JP H0345947 Y2 JPH0345947 Y2 JP H0345947Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- planetary
- annular frame
- shaft
- metal film
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、半導体ウエハのような物体の表面
に金属膜を蒸着する真空蒸着装置に関するもので
ある。
に金属膜を蒸着する真空蒸着装置に関するもので
ある。
真空蒸着装置では、一回の作業に相当な時間を
要するために、一回の作業で多数のものを処理で
きることが望ましい。しかも、一回の作業での処
理数を増やすために装置を大きくすることは、設
置場所の空間や操作性などによつて制限される。
要するために、一回の作業で多数のものを処理で
きることが望ましい。しかも、一回の作業での処
理数を増やすために装置を大きくすることは、設
置場所の空間や操作性などによつて制限される。
半導体ウエハの場合、さらに、全てのウエハに
均一に、かつ、各ウエハの全面に均一に金属膜を
蒸着することが不可欠な要件である。
均一に、かつ、各ウエハの全面に均一に金属膜を
蒸着することが不可欠な要件である。
上記要件を満たす真空蒸着装置として、従来、
真空容器中に、回転軸と一体に回転する環状の枠
と、該環状の枠に設けた軸受けに中心部に軸に垂
直に設けた軸が嵌合して上記環状の枠に連動して
回軸するとともに該環状の枠の軸受けに嵌合した
軸を支点に自転するプラネタリを備え、該プラネ
タリの面に接着した物体の表面に金属膜を蒸着す
る構造のものが広く使用されてきた。
真空容器中に、回転軸と一体に回転する環状の枠
と、該環状の枠に設けた軸受けに中心部に軸に垂
直に設けた軸が嵌合して上記環状の枠に連動して
回軸するとともに該環状の枠の軸受けに嵌合した
軸を支点に自転するプラネタリを備え、該プラネ
タリの面に接着した物体の表面に金属膜を蒸着す
る構造のものが広く使用されてきた。
第２図ａは従来の真空蒸着装置におけるプラネ
タリと該プラネタリの回転に係る部分の構造の一
例、第２図ｂは第２図ａに示すプラネタリを真空
容器外に取り出した状態、第２図ｃは個々のプラ
ネタリの形状、第２図ｄはプラネタリと環状の枠
を連結する構造を示す。
タリと該プラネタリの回転に係る部分の構造の一
例、第２図ｂは第２図ａに示すプラネタリを真空
容器外に取り出した状態、第２図ｃは個々のプラ
ネタリの形状、第２図ｄはプラネタリと環状の枠
を連結する構造を示す。
図において１は回転軸、２は回転板、３は回転
板２の取付けた磁石、４は環状の枠、５は強磁性
体からなる金具、６はプラネタリ、４１は環状の
枠４に設けた軸受け、６１はプラネタリ６の中心
部に面に垂直に設けた軸、６２は半導体ウエハを
接着する円形の平面部分である。
板２の取付けた磁石、４は環状の枠、５は強磁性
体からなる金具、６はプラネタリ、４１は環状の
枠４に設けた軸受け、６１はプラネタリ６の中心
部に面に垂直に設けた軸、６２は半導体ウエハを
接着する円形の平面部分である。
図に示す例は、３個のプラネタリ６で構成した
もので、各プラネタリ６の中心部の面に垂直に設
けた軸６１を環状の枠４に等間隔に設けた軸受け
４１に嵌合して、３個のプラネタリ６を環状の枠
４に取付け、真空容器内に金具５を磁石３に吸着
させて配置する。
もので、各プラネタリ６の中心部の面に垂直に設
けた軸６１を環状の枠４に等間隔に設けた軸受け
４１に嵌合して、３個のプラネタリ６を環状の枠
４に取付け、真空容器内に金具５を磁石３に吸着
させて配置する。
回転軸１を回転させると、環状の枠４は回転板
２と一体に回転する。環状の枠４の上方または下
方に各プラネタリ６の周辺が接する環状のレール
が設けられていて、環状の枠４の回転によつて、
各プラネタリ６は、中心部が円軌道を描く回転運
動をするとともに、軸６１を支点とする自転運動
をする。
２と一体に回転する。環状の枠４の上方または下
方に各プラネタリ６の周辺が接する環状のレール
が設けられていて、環状の枠４の回転によつて、
各プラネタリ６は、中心部が円軌道を描く回転運
動をするとともに、軸６１を支点とする自転運動
をする。
各プラネタリ６の上記の運動によつて、各プラ
ネタリ６の各円形の平面部分６２の内側の面に接
着した全ての半導体ウエハの表面に均一に、か
つ、各半導体ウエハの全面に均一に金属膜が蒸着
される。
ネタリ６の各円形の平面部分６２の内側の面に接
着した全ての半導体ウエハの表面に均一に、か
つ、各半導体ウエハの全面に均一に金属膜が蒸着
される。
従来の上記構造の真空蒸着装置は、プラネタリ
の円形の平面部分の一方の面に接着した物体の表
面にしか金属膜を蒸着できなく、一回の作業での
処理数が少なく、一個当りのコストが高くつくと
いう問題があつた。
の円形の平面部分の一方の面に接着した物体の表
面にしか金属膜を蒸着できなく、一回の作業での
処理数が少なく、一個当りのコストが高くつくと
いう問題があつた。
装置を大きくして一回の作業での処理数を増や
すことは、先に説明したとおり、設置場所の広さ
や操作性に制限されて、一定限度以上は不可能で
ある。
すことは、先に説明したとおり、設置場所の広さ
や操作性に制限されて、一定限度以上は不可能で
ある。
この考案は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、プラネタリの各円形の平面部分の表面、裏面
の双方に接着した物体の表面に同時に金属膜を蒸
着できる真空蒸着装置を提供することを目的とす
る。
で、プラネタリの各円形の平面部分の表面、裏面
の双方に接着した物体の表面に同時に金属膜を蒸
着できる真空蒸着装置を提供することを目的とす
る。
この考案の真空蒸着装置は、上記目的を達成す
るために、プラネタリの金属膜を蒸着する物体を
接着する各円形部分を切り離し、切り離した各円
形部分のプラネタリ本体の中心部を通る直径線上
に設けた軸をウオームギヤ機構を介して環状の枠
に連結し、プラネタリの自転に連動して各円形部
分がプラネタリ本体の中心部を通る直径を軸に回
転する構造としたものである。
るために、プラネタリの金属膜を蒸着する物体を
接着する各円形部分を切り離し、切り離した各円
形部分のプラネタリ本体の中心部を通る直径線上
に設けた軸をウオームギヤ機構を介して環状の枠
に連結し、プラネタリの自転に連動して各円形部
分がプラネタリ本体の中心部を通る直径を軸に回
転する構造としたものである。
第１図ａはこの考案に係るプラネタリの構造
の一例、第１図ｂは第１図ａに示すプラネタリと
環状の枠を連結する構造の一例、第１図ｃは環状
の枠に設けたギヤの構造の一例を示す。
の一例、第１図ｂは第１図ａに示すプラネタリと
環状の枠を連結する構造の一例、第１図ｃは環状
の枠に設けたギヤの構造の一例を示す。
図において第２図ｄの符号と同一の符号は同一
または相当する部分を示し、４２は環状の枠４に
設けたギヤ、６ａはこの考案に係るプラネタリ、
６２ａは切り離した円形部分、６３は円形部分６
２ａのプラネタリ６ａの中心部を通る直径線上に
設けた軸、６４はギヤ４２と噛み合う構造に軸６
３に設けたウオームギヤである。
または相当する部分を示し、４２は環状の枠４に
設けたギヤ、６ａはこの考案に係るプラネタリ、
６２ａは切り離した円形部分、６３は円形部分６
２ａのプラネタリ６ａの中心部を通る直径線上に
設けた軸、６４はギヤ４２と噛み合う構造に軸６
３に設けたウオームギヤである。
各プラネタリ６ａの半導体ウエハを接着する各
円形部分６２ａを切り離し、各円形部分６２ａを
プラネタリ６ａの中心部を通る直線上に設けた軸
６３によつて、回転自在な構造にプラネタリ６ａ
に取付けて構成したものである。
円形部分６２ａを切り離し、各円形部分６２ａを
プラネタリ６ａの中心部を通る直線上に設けた軸
６３によつて、回転自在な構造にプラネタリ６ａ
に取付けて構成したものである。
プラネタリ６ａの軸６１を環状の枠４の軸受け
４１に嵌合して、プラネタリ６ａを環状の枠４に
取付けると、軸６３に設けたウオームギヤ６４は
環状の枠４に設けたギヤ４２と噛み合う。
４１に嵌合して、プラネタリ６ａを環状の枠４に
取付けると、軸６３に設けたウオームギヤ６４は
環状の枠４に設けたギヤ４２と噛み合う。
他の部分の構造は従来のものと同じで、所定の
個数のプラネタリ６ａを環状の枠４に取付け、真
空容器内に金具を磁石に吸着させて配置する。
個数のプラネタリ６ａを環状の枠４に取付け、真
空容器内に金具を磁石に吸着させて配置する。
回転軸を回転させると、環状の枠４は回転し、
環状の枠４に取付けた各プラネタリ６ａは、中心
部が円軌道を描く回転運動をするとともに、軸６
１を支点とする自転運動をする。
環状の枠４に取付けた各プラネタリ６ａは、中心
部が円軌道を描く回転運動をするとともに、軸６
１を支点とする自転運動をする。
プラネタリ６ａの軸６１を支点とする自転運動
に連動して、各円形部分６２ａは、ウオームギヤ
機構４２，６４によつて、軸６３を軸に回転す
る。
に連動して、各円形部分６２ａは、ウオームギヤ
機構４２，６４によつて、軸６３を軸に回転す
る。
円形部分６２ａは双方の面とも平面になつてい
て、各プラネタリ６ａの上記の運動によつて、各
プラネタリ６ａの各円形部分６２ａの双方の面に
接着した全ての半導体ウエハの表面に均一に、か
つ、各半導体ウエハの全面に均一に金属膜が蒸着
される。
て、各プラネタリ６ａの上記の運動によつて、各
プラネタリ６ａの各円形部分６２ａの双方の面に
接着した全ての半導体ウエハの表面に均一に、か
つ、各半導体ウエハの全面に均一に金属膜が蒸着
される。
上記には３個のプラネタリ６ａで構成する場合
について説明したが、３個に限定されるものでは
なく、円形部分６２ａの個数も限定されるもので
はない。
について説明したが、３個に限定されるものでは
なく、円形部分６２ａの個数も限定されるもので
はない。
また、半導体ウエハの表面に金属膜を蒸着する
場合を例に説明したが、勿論被蒸着物は半導体ウ
エハに限るものではない。
場合を例に説明したが、勿論被蒸着物は半導体ウ
エハに限るものではない。
以上のとおり、この考案によれば、一回の作業
で従来の２倍の数を処理することができ、作業能
率が上るとともに、１個当りのコストが下るとい
う効果がある。
で従来の２倍の数を処理することができ、作業能
率が上るとともに、１個当りのコストが下るとい
う効果がある。
第１図ａはこの考案に係るプラネタリの構造の
一例を示す平面図、第１図ｂは第１図ａに示すプ
ラネタリと環状の枠を連結する構造の一例を示す
説明図、第１図ｃは環状の枠に設けたギヤの構造
の一例を示す平面図、第２図ａは従来の真空蒸着
装置におけるプラネタリと該プラネタリの回転に
係る部分の構造の一例を示す説明図、第２図ｂは
第２図ａに示すプラネタリを真空容器外に取り出
した状態を示す説明図、第２図ｃは第２図ａにお
ける個々のプラネタリの形状を示す平面図、第２
図ｄは第２図ａにおけるプラネタリと環状の枠を
連結する構造を示す説明図である。 ４……環状の枠、４１……軸受け、４２……ギ
ヤ、６ａ……プラネタリ、６１……軸、６２ａ…
…回転する円形部分、６３……軸、６４……ウオ
ームギヤ、なお各図中同一符号は同一または相当
する部分を示す。
一例を示す平面図、第１図ｂは第１図ａに示すプ
ラネタリと環状の枠を連結する構造の一例を示す
説明図、第１図ｃは環状の枠に設けたギヤの構造
の一例を示す平面図、第２図ａは従来の真空蒸着
装置におけるプラネタリと該プラネタリの回転に
係る部分の構造の一例を示す説明図、第２図ｂは
第２図ａに示すプラネタリを真空容器外に取り出
した状態を示す説明図、第２図ｃは第２図ａにお
ける個々のプラネタリの形状を示す平面図、第２
図ｄは第２図ａにおけるプラネタリと環状の枠を
連結する構造を示す説明図である。 ４……環状の枠、４１……軸受け、４２……ギ
ヤ、６ａ……プラネタリ、６１……軸、６２ａ…
…回転する円形部分、６３……軸、６４……ウオ
ームギヤ、なお各図中同一符号は同一または相当
する部分を示す。
Claims (1)
- 真空容器中に、回転軸と一体に回転する環状の
枠と、該環状の枠に設けた軸受けに中心部に面に
垂直に設けた軸が嵌合して上記環状の枠に連動し
て回転するとともに該環状の枠の軸受けに嵌合し
た軸を支点に自転するプラネタリを備え、該プラ
ネタリの面に接着した物体の表面に金属膜を蒸着
する真空蒸着装置において、上記プラネタリの金
属膜を蒸着する物体を接着する各円形部分を切り
離し、切り離した各円形部分の該プラネタリの中
心部を通る直径線上に設けた軸をウオームギヤ機
構を介して上記環状の枠に連結し、上記プラネタ
リの自転に連動して上記各円形部分を該プラネタ
リの中心部を通る直径を軸に回転させ、該各円形
部分の双方の面に接着した物体の表面に金属膜を
蒸着する構造としたことを特徴とする真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12648386U JPH0345947Y2 (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12648386U JPH0345947Y2 (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6334163U JPS6334163U (ja) | 1988-03-04 |
| JPH0345947Y2 true JPH0345947Y2 (ja) | 1991-09-27 |
Family
ID=31020324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12648386U Expired JPH0345947Y2 (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0345947Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-08-21 JP JP12648386U patent/JPH0345947Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6334163U (ja) | 1988-03-04 |
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