JPH0348193Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0348193Y2 JPH0348193Y2 JP1985037767U JP3776785U JPH0348193Y2 JP H0348193 Y2 JPH0348193 Y2 JP H0348193Y2 JP 1985037767 U JP1985037767 U JP 1985037767U JP 3776785 U JP3776785 U JP 3776785U JP H0348193 Y2 JPH0348193 Y2 JP H0348193Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- activated gas
- gas
- activated
- reaction chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、例えばポリプロピレン、ポリエチレ
ン等の合成樹脂成型品の表面を改質加工するため
の活性化ガスによる処理装置に関するものであ
る。
ン等の合成樹脂成型品の表面を改質加工するため
の活性化ガスによる処理装置に関するものであ
る。
（従来技術）
一般に、例えばポリプロピレン、ポリエチレン
等の合成樹脂材は、剛性が高く機械的強度も充分
に得られることから、最近ではこれらの合成樹脂
材を自動車の車体外板などの構造材として使用す
ることが行なわれている。
等の合成樹脂材は、剛性が高く機械的強度も充分
に得られることから、最近ではこれらの合成樹脂
材を自動車の車体外板などの構造材として使用す
ることが行なわれている。
しかし、このような合成樹脂材は素材そのもの
の特質上、塗装に際して当該合成樹脂材表面と塗
装膜との密着性、接着性が悪く、塗装膜の剥離が
生じる不具合がある。
の特質上、塗装に際して当該合成樹脂材表面と塗
装膜との密着性、接着性が悪く、塗装膜の剥離が
生じる不具合がある。
そこで、従来から上記塗装に際して、例えばプ
ラズマ放電等により酸素ガスを活性化し、当該活
性化された酸素ガス中に被処理物としての合成樹
脂材（成形品）を入れ、その表面を酸化（極性基
の導入）或いはエッチング（アンカー効果向上）
することによつて塗装膜との密着性、接着性を高
くする改質加工が行なわれており、このような活
性化ガスによる改質加工処理装置として例えば特
開昭57−12032号公報に示される公知の従来技術
があつた。
ラズマ放電等により酸素ガスを活性化し、当該活
性化された酸素ガス中に被処理物としての合成樹
脂材（成形品）を入れ、その表面を酸化（極性基
の導入）或いはエッチング（アンカー効果向上）
することによつて塗装膜との密着性、接着性を高
くする改質加工が行なわれており、このような活
性化ガスによる改質加工処理装置として例えば特
開昭57−12032号公報に示される公知の従来技術
があつた。
この公知技術は、ドラム状の反応室の上端部に
例えばプラズマ放電により活性化した酸素ガスの
噴射部を設け、上記反応室内に搬入された複数の
ワークを順次回動させて上記噴射部前面を通過さ
せることにより上記噴射部より噴出される活性化
ガスが各ワークごとに均一に照射（吹き付け）さ
れるように構成されている。
例えばプラズマ放電により活性化した酸素ガスの
噴射部を設け、上記反応室内に搬入された複数の
ワークを順次回動させて上記噴射部前面を通過さ
せることにより上記噴射部より噴出される活性化
ガスが各ワークごとに均一に照射（吹き付け）さ
れるように構成されている。
従つて、この従来技術では反応室内で複数のワ
ークを順次回動させるために回動可能なワーク保
持機構およびその駆動機構がそれぞれ必要とな
り、装置自体が大型化してコストも上昇する等の
難点があつた。又、同時に反応室内にワークの他
に余分な機構が設置されるために当該工程で処理
できるワークの搬入個数も制約され１サイクルの
回動に要する時間が大きいこととも相まつてかな
り処理能力の低いものとなる欠点もあつた。
ークを順次回動させるために回動可能なワーク保
持機構およびその駆動機構がそれぞれ必要とな
り、装置自体が大型化してコストも上昇する等の
難点があつた。又、同時に反応室内にワークの他
に余分な機構が設置されるために当該工程で処理
できるワークの搬入個数も制約され１サイクルの
回動に要する時間が大きいこととも相まつてかな
り処理能力の低いものとなる欠点もあつた。
（考案の目的）
本考案は、上述のような問題点を改善するため
になされたものであつて、活性化ガス噴出部を複
数のワークの中央部に位置させるともに各ワーク
の背後に当該活性化ガスの排出口を位置させるこ
とによつて上記従来のようなワークの回動および
駆動機構を不要にし処理能力を向上させた活性化
ガスによる処理装置を提供することを目的とする
ものである。
になされたものであつて、活性化ガス噴出部を複
数のワークの中央部に位置させるともに各ワーク
の背後に当該活性化ガスの排出口を位置させるこ
とによつて上記従来のようなワークの回動および
駆動機構を不要にし処理能力を向上させた活性化
ガスによる処理装置を提供することを目的とする
ものである。
（目的を達成するための手段）
本考案は、上記の目的を達成するために、反応
室内略中央部に活性化ガス噴出部を設け、該活性
化ガス噴出部の周囲等距離位置に複数のワーク設
置部を備えたワーク保持治具を配置するとともに
該ワーク保持治具の上記ワーク設置部に表面側を
上記活性化ガス噴出部に対向させた状態でワーク
を設置し、さらに上記各ワーク設置部のガス噴出
方向後方に活性化ガス排出口を設けたことを特徴
とするものである。
室内略中央部に活性化ガス噴出部を設け、該活性
化ガス噴出部の周囲等距離位置に複数のワーク設
置部を備えたワーク保持治具を配置するとともに
該ワーク保持治具の上記ワーク設置部に表面側を
上記活性化ガス噴出部に対向させた状態でワーク
を設置し、さらに上記各ワーク設置部のガス噴出
方向後方に活性化ガス排出口を設けたことを特徴
とするものである。
（作用）
上記の手段によると、活性化ガス噴出部の各噴
出口と対応する複数のワーク設置部の各々は、全
て放射方向等距離に対置されることになるので、
各ワークに対する活性化ガスの被曝状態は全て均
一になる。
出口と対応する複数のワーク設置部の各々は、全
て放射方向等距離に対置されることになるので、
各ワークに対する活性化ガスの被曝状態は全て均
一になる。
しかも、上記ワーク設置部に設置されるワーク
は、表面側を上記活性化ガス噴出部に対向させて
全てが正確な位置に保持されるようになつてお
り、処理すべき各ワークの表面側を全く同一の品
質状態で高精度に仕上げることができるようにな
る。
は、表面側を上記活性化ガス噴出部に対向させて
全てが正確な位置に保持されるようになつてお
り、処理すべき各ワークの表面側を全く同一の品
質状態で高精度に仕上げることができるようにな
る。
そして、さらに上記各ワーク設置部の背後に位
置して活性化ガスの排出口が設けられているので
上記噴出部の噴出口から噴出された活性化ガスは
各ワークごとに各ワークを介して直線方向に収束
して流れて行く放射状の複数の流れを形成するの
で無駄な流れの分散（拡散）がなく高密度状態で
各ワークの表面に作用するので処理効率も高くな
る。
置して活性化ガスの排出口が設けられているので
上記噴出部の噴出口から噴出された活性化ガスは
各ワークごとに各ワークを介して直線方向に収束
して流れて行く放射状の複数の流れを形成するの
で無駄な流れの分散（拡散）がなく高密度状態で
各ワークの表面に作用するので処理効率も高くな
る。
しかも、ワークを全く回動する必要がないので
処理に要する時間は活性化ガスの単位時間当たり
の噴出量を大きくすれば従来の単一ワークについ
て処理するのと同じ程度にまでアツプすることも
可能となる。
処理に要する時間は活性化ガスの単位時間当たり
の噴出量を大きくすれば従来の単一ワークについ
て処理するのと同じ程度にまでアツプすることも
可能となる。
（実施例）
第１図〜第３図は、本考案の実施例に係る活性
化ガスによる処理装置の構成を示している。
化ガスによる処理装置の構成を示している。
先ず第１図は、上記装置のシステム全体の構造
を示す一部切断側面図であり、符号１は第２図に
詳細に示されているようなドラム状の反応室本体
であり、この反応室本体１内には長手方向に延び
た円形空間よりなる反応室２が形成されている。
この反応室２の中央部（例えば反応室本体１の中
心軸部）には、所定の間隔を置いて複数本（本実
施例の図面上では３本）の後述する活性化ガス導
入管４に接続された円筒状の活性化ガス噴出部３
が上記反応室２の長手方向に延びて設けられてお
り、この活性化ガス噴出部３は、上記のような例
えば石英管よりなる複数本の活性化ガス導入管４
を介して上記反応室２外部の各連結部５に接続さ
れている。そして、各連結部５では、さらに石英
管６と接続され、この石英管６の部分でプラズマ
発生管７に接続されている。
を示す一部切断側面図であり、符号１は第２図に
詳細に示されているようなドラム状の反応室本体
であり、この反応室本体１内には長手方向に延び
た円形空間よりなる反応室２が形成されている。
この反応室２の中央部（例えば反応室本体１の中
心軸部）には、所定の間隔を置いて複数本（本実
施例の図面上では３本）の後述する活性化ガス導
入管４に接続された円筒状の活性化ガス噴出部３
が上記反応室２の長手方向に延びて設けられてお
り、この活性化ガス噴出部３は、上記のような例
えば石英管よりなる複数本の活性化ガス導入管４
を介して上記反応室２外部の各連結部５に接続さ
れている。そして、各連結部５では、さらに石英
管６と接続され、この石英管６の部分でプラズマ
発生管７に接続されている。
プラズマ発生管７は、さらにガス供給管８を介
して例えば酸素ガスを収納したガスボンベ９に接
続されている。なお、符号１０は、上記ガス供給
管８の一部に設けられた流量計である。一方、上
記ガス供給管８のプラズマ発生管７近傍には、プ
ラズマ発生炉１１が設けられており、このプラズ
マ発生炉１１は、マイクロ波用導波管１２を通じ
スリースタブチユーナ１３、パワーモニター１
４、アイソレータ１５を経てマイクロ波発振器１
６に接続されている。
して例えば酸素ガスを収納したガスボンベ９に接
続されている。なお、符号１０は、上記ガス供給
管８の一部に設けられた流量計である。一方、上
記ガス供給管８のプラズマ発生管７近傍には、プ
ラズマ発生炉１１が設けられており、このプラズ
マ発生炉１１は、マイクロ波用導波管１２を通じ
スリースタブチユーナ１３、パワーモニター１
４、アイソレータ１５を経てマイクロ波発振器１
６に接続されている。
従つて、先ず上記ガスボンベ９より流量計１０
を経て上記プラズマ発生炉１１に供給された酸素
ガスは、当該プラズマ発生炉１１内で上記マイク
ロ波発振器１６より供給される所定パワーかつ所
定周波数のマイクロ波の照射を受けて高温ガスと
なり、次にプラズマ発生管７に供給されてプラズ
マ状態の活性化ガスとなる。
を経て上記プラズマ発生炉１１に供給された酸素
ガスは、当該プラズマ発生炉１１内で上記マイク
ロ波発振器１６より供給される所定パワーかつ所
定周波数のマイクロ波の照射を受けて高温ガスと
なり、次にプラズマ発生管７に供給されてプラズ
マ状態の活性化ガスとなる。
そして、この活性化された酸素ガスが、上記石
英管６、連結部５、ガス導入管４を介して上記活
性化ガス噴出部３に所定の圧力で供給され、当該
噴出部３の放射方向に開口された複数の噴出口よ
り上記反応室２内に放射状に噴射される。
英管６、連結部５、ガス導入管４を介して上記活
性化ガス噴出部３に所定の圧力で供給され、当該
噴出部３の放射方向に開口された複数の噴出口よ
り上記反応室２内に放射状に噴射される。
一方、符号２０は、上記反応室２内に上記活性
化ガス噴出部３を中心として、その各活性化ガス
噴出口部から放射方向等距離位置に一定周方向間
隔で設置された例えば自動車用車体外板などの複
数のワークであり、これら各ワーク２０は例えば
第３図に示すような治具２１を用いて上述のよう
に反応室２内に納入される。
化ガス噴出部３を中心として、その各活性化ガス
噴出口部から放射方向等距離位置に一定周方向間
隔で設置された例えば自動車用車体外板などの複
数のワークであり、これら各ワーク２０は例えば
第３図に示すような治具２１を用いて上述のよう
に反応室２内に納入される。
すなわち、治具２１は、放射方向に複数の切欠
部２２を形成した一対の略８角形状の側板２３，
２３とこれら一対の側板２３，２３をその各コー
ナ部分で相互に連結する複数の連結部材２４とか
ら構成されている。そして、上記一対の側板２
３，２３の切欠部２２の対向位置にある一対の切
欠部２２，２２が上記各ワーク２０の嵌装係止部
となるようになつており、それらの内のひとつの
もの（上端位置のもの）は他のものよりも大きく
切り欠かれて側板２３中央部の円形孔部２５に連
続するスリツト２６となつている。そして、この
スリツト２６，２６間に長手方向に延びる円筒状
の上記活性化ガス噴出部３が嵌装固定されるよう
になつている。
部２２を形成した一対の略８角形状の側板２３，
２３とこれら一対の側板２３，２３をその各コー
ナ部分で相互に連結する複数の連結部材２４とか
ら構成されている。そして、上記一対の側板２
３，２３の切欠部２２の対向位置にある一対の切
欠部２２，２２が上記各ワーク２０の嵌装係止部
となるようになつており、それらの内のひとつの
もの（上端位置のもの）は他のものよりも大きく
切り欠かれて側板２３中央部の円形孔部２５に連
続するスリツト２６となつている。そして、この
スリツト２６，２６間に長手方向に延びる円筒状
の上記活性化ガス噴出部３が嵌装固定されるよう
になつている。
一方、以上のようにして上記反応室２内に設置
された各ワーク２０の背後には、それぞれ反応室
本体１を貫通して外部に開放された減圧用の活性
化ガス排出口２７が設けられている。
された各ワーク２０の背後には、それぞれ反応室
本体１を貫通して外部に開放された減圧用の活性
化ガス排出口２７が設けられている。
従つて、上記活性化ガス噴出部３より放射方向
に噴出される活性化ガスは、先ず各ワーク２０表
面を均一に撫でて流れて行き最終的に活性化ガス
排出口２７より排出されることになる。そのため
反応室２内の全体としての活性化ガスの流れは第
１図に図示のように各ワーク２０ごとに対向して
流れ排出口２７方向に収束する複数の流れを形成
することになつて活性化ガスが各ワーク２０に対
して無駄なく高密度で有効に作用するとともに処
理速度も速くなる。そして、各ワーク２０は、そ
れぞれが上記噴出部３より等距離に位置している
から活性化ガスによる処理作用も全てが均一にな
る。
に噴出される活性化ガスは、先ず各ワーク２０表
面を均一に撫でて流れて行き最終的に活性化ガス
排出口２７より排出されることになる。そのため
反応室２内の全体としての活性化ガスの流れは第
１図に図示のように各ワーク２０ごとに対向して
流れ排出口２７方向に収束する複数の流れを形成
することになつて活性化ガスが各ワーク２０に対
して無駄なく高密度で有効に作用するとともに処
理速度も速くなる。そして、各ワーク２０は、そ
れぞれが上記噴出部３より等距離に位置している
から活性化ガスによる処理作用も全てが均一にな
る。
（考案の効果）
本考案は、以上に説明したように、反応室内略
中央部に活性化ガス噴出部を設け、該活性化ガス
噴出部の周囲等距離位置に複数のワーク設置部を
備えたワーク保持治具を配置するとともに該ワー
ク保持治具の上記ワーク設置部に表面側を上記活
性化ガス噴出部に対向させた状態でワークを設置
し、さらに上記各ワーク設置部のガス噴出方向後
方に活性化ガス排出口を設けたことを特徴とする
ものである。
中央部に活性化ガス噴出部を設け、該活性化ガス
噴出部の周囲等距離位置に複数のワーク設置部を
備えたワーク保持治具を配置するとともに該ワー
ク保持治具の上記ワーク設置部に表面側を上記活
性化ガス噴出部に対向させた状態でワークを設置
し、さらに上記各ワーク設置部のガス噴出方向後
方に活性化ガス排出口を設けたことを特徴とする
ものである。
従つて、本考案によると、活性化ガス噴出部の
各噴出口と対応する複数のワーク設置部の各々
は、全て放射方向等距離に対置されることになる
ので、各ワークに対する活性化ガスの被曝状態は
全て均一になる。
各噴出口と対応する複数のワーク設置部の各々
は、全て放射方向等距離に対置されることになる
ので、各ワークに対する活性化ガスの被曝状態は
全て均一になる。
しかも、上記ワーク設置部に設置されるワーク
は、表面側を上記活性化ガス噴出部に対向させて
全てが正確な位置に保持されるようになつてお
り、処理すべき各ワークの表面側を全く同一の品
質状態で高精度に仕上げることができるようにな
る。
は、表面側を上記活性化ガス噴出部に対向させて
全てが正確な位置に保持されるようになつてお
り、処理すべき各ワークの表面側を全く同一の品
質状態で高精度に仕上げることができるようにな
る。
そして、さらに上記各ワーク設置部の背後に位
置して活性化ガスの排出口が設けられているので
上記噴出部の噴出口から噴出された活性化ガスは
各ワークごとに各ワークを介して直線方向に収束
して流れて行く放射状の複数の流れを形成するの
で無駄な流れの分散（拡散）がなく高密度状態で
各ワークの表面に作用するので処理効率も高くな
る。
置して活性化ガスの排出口が設けられているので
上記噴出部の噴出口から噴出された活性化ガスは
各ワークごとに各ワークを介して直線方向に収束
して流れて行く放射状の複数の流れを形成するの
で無駄な流れの分散（拡散）がなく高密度状態で
各ワークの表面に作用するので処理効率も高くな
る。
しかも、ワークを全く回動する必要がないので
処理に要する時間は活性化ガスの単位時間当たり
の噴射量を大きくすれば従来の単一ワークについ
て処理するのと同じ程度にまでアツプすることも
可能となる。
処理に要する時間は活性化ガスの単位時間当たり
の噴射量を大きくすれば従来の単一ワークについ
て処理するのと同じ程度にまでアツプすることも
可能となる。
第１図は、本考案の実施例に係る活性化ガスに
よる処理装置のシステム全体の構造を示す一部切
欠側面図、第２図は、同装置の反応室本体部の構
造を示す正面図、第３図は同装置におけるワーク
等固定用治具の斜視図である。 ２……反応室、３……活性化ガス噴出部、２０
……ワーク、２７……活性化ガス排出口。
よる処理装置のシステム全体の構造を示す一部切
欠側面図、第２図は、同装置の反応室本体部の構
造を示す正面図、第３図は同装置におけるワーク
等固定用治具の斜視図である。 ２……反応室、３……活性化ガス噴出部、２０
……ワーク、２７……活性化ガス排出口。
Claims (1)
- 反応室内略中央部に活性化ガス噴出部を設け、
該活性化ガス噴出部の周囲等距離位置に複数のワ
ーク設置部を備えたワーク保持治具を配置すると
ともに該ワーク保持治具の上記ワーク設置部に表
面側を上記活性化ガス噴出部に対向させた状態で
ワークを設置し、さらに上記各ワーク設置部のガ
ス噴出方向後方に活性化ガス排出口を設けたこと
を特徴とする活性化ガスによる処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985037767U JPH0348193Y2 (ja) | 1985-03-16 | 1985-03-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985037767U JPH0348193Y2 (ja) | 1985-03-16 | 1985-03-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61155342U JPS61155342U (ja) | 1986-09-26 |
| JPH0348193Y2 true JPH0348193Y2 (ja) | 1991-10-15 |
Family
ID=30544151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985037767U Expired JPH0348193Y2 (ja) | 1985-03-16 | 1985-03-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0348193Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59155442A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-04 | Toyota Motor Corp | プラズマ処理装置 |
| JPS59155440A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-04 | Toyota Motor Corp | プラズマ処理装置 |
-
1985
- 1985-03-16 JP JP1985037767U patent/JPH0348193Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61155342U (ja) | 1986-09-26 |
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