JPH0348901B2 - - Google Patents
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- JPH0348901B2 JPH0348901B2 JP4607284A JP4607284A JPH0348901B2 JP H0348901 B2 JPH0348901 B2 JP H0348901B2 JP 4607284 A JP4607284 A JP 4607284A JP 4607284 A JP4607284 A JP 4607284A JP H0348901 B2 JPH0348901 B2 JP H0348901B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- formula
- proton
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は新規なＮ置換含弗素カルボアミド化合
物およびその製造方法に関する。 パーフルオロアルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基は疏水性であると同時に疎油性でもあ
るので、両基を有する界面活性剤は、水のみなら
ず有機溶媒中でも表面活性を示すことはよく知ら
れている。また、上記弗素含有化合物は固体液体
であるプラスチツクに添加して、その表面エネル
ギーを下げることができ、プラスチツク表面に弗
素樹脂と同じ様な特性を与えることも知られてい
る。 従つて、多くの含弗素化合物が開発され、種々
の目的に応用されている。 しかしながら、一般に含弗素化合物は樹脂類、
油類、溶媒類に対する溶解性や混和性が悪く、特
にプラスチツクの表面改質に用いられる場合に均
一な混和性が得られず、成形品の美感、性能が悪
くなる。 かかる樹脂に対する溶解性および混和性を高め
るために、化合物内に親油性基を導入することが
考えられるが、化合物全体の熱分解温度が低下
し、プラスチツク成形時に分解、発煙し、その作
業性および成品の美感、性能を著しく損なうこと
が多い。 本発明者等はプラスチツク樹脂との混和、溶融
性が高く、汎用樹脂の中でもとりわけ成形温度の
高いポリカーボネート（340〜380℃）、ポリエス
テル（260〜300℃）より高い耐熱性を有する含弗
素化合物を得るべく研究の結果、本発明を成すに
到つた。 即ち、本発明は式： 〔式中、Ｑは
物およびその製造方法に関する。 パーフルオロアルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基は疏水性であると同時に疎油性でもあ
るので、両基を有する界面活性剤は、水のみなら
ず有機溶媒中でも表面活性を示すことはよく知ら
れている。また、上記弗素含有化合物は固体液体
であるプラスチツクに添加して、その表面エネル
ギーを下げることができ、プラスチツク表面に弗
素樹脂と同じ様な特性を与えることも知られてい
る。 従つて、多くの含弗素化合物が開発され、種々
の目的に応用されている。 しかしながら、一般に含弗素化合物は樹脂類、
油類、溶媒類に対する溶解性や混和性が悪く、特
にプラスチツクの表面改質に用いられる場合に均
一な混和性が得られず、成形品の美感、性能が悪
くなる。 かかる樹脂に対する溶解性および混和性を高め
るために、化合物内に親油性基を導入することが
考えられるが、化合物全体の熱分解温度が低下
し、プラスチツク成形時に分解、発煙し、その作
業性および成品の美感、性能を著しく損なうこと
が多い。 本発明者等はプラスチツク樹脂との混和、溶融
性が高く、汎用樹脂の中でもとりわけ成形温度の
高いポリカーボネート（340〜380℃）、ポリエス
テル（260〜300℃）より高い耐熱性を有する含弗
素化合物を得るべく研究の結果、本発明を成すに
到つた。 即ち、本発明は式： 〔式中、Ｑは
【式】または
【式】であつて、Rf
および
R′fは同一または異なる炭素数２〜20のパーフル
オロアルケニル基、Ｘはアルキル基、アリール
基、ジフエニルエーテル基を示す〕で表わされる
新規なＮ置換含弗素カルボアミド化合物に関す
る。 また、本発明はパーフルオロアルケニルオキシ
ベンゾイルハライドとアミノ基およびヒドロキシ
ル基を有する芳香族化合物またはジアミン類を非
水溶媒中、塩基性触媒の存在下に脱ハロゲン化水
素反応させることを特徴とするＮ置換含弗素カル
ボアミド化合物の製造方法を提供する。 反応に用いるパーフルオロアルケニルオキシベ
ンゾイルハライドは、例えば特開昭51−11084号
公報に記載する方法により容易に得ることができ
る。 ジアミン類はポリアミドの製造に用いられるも
のであればいずれを用いてもよく、例えばエチレ
ンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサ
メチレンジアミン、１，７−ジアミノヘプタン、
１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノ
ナン、１，10−ジアミノデカン、Ｏ−，ｍ−また
はｐ−フエニレンジアミン、４，4′−ジアミノジ
フエニルエーテル等が例示される。アミノ基およ
びヒドロキシル基を有する芳香族化合物の例とし
てはアミノナフトール、４−アミノ−4′−ヒドロ
キシビフエニル等があげられる。 非水溶媒は反応物を溶解し得るものであつて、
例としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジグ
リム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、テ
トラヒドロピラン、ジメチルカルビトール、また
はジエチルエーテル等が挙げられる。 反応に用いる塩基性触媒は反応の脱塩化水素を
促進し、生じた塩化水素を吸収する水溶性のもの
であつて、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミン、トリメチルアミン等が
例示される。塩基性触媒は上記酸ハライドと同当
量用いるのが好ましい。 反応は室温〜60℃の温度で行なわれる。反応物
にジアミン類を用いて、RfとR′fが同一のものを
得る場合にはジアミン類のモル数の２倍以上のモ
ル数のパーフルオロアルケニルオキシベンゾイル
ハライドを用いればよい。RfとR′fとが異なる場
合には反応を２段階に分け、最初にジアミン類と
等モルの含弗素化合物と反応し、反応終了後別の
パーフルオロアルケニル基を有する化合物と反応
すればよい。 ジアミン類を用いない場合、本発明化合物は上
述のように最初に適当な溶媒中でパーフルオロア
ルケニルオキシベンゾイルハライドとアミン基お
よびヒドロキシル基を有する芳香族化合物を反応
した後、生成物を特開昭51−11084号公報に記載
する方法でヘキサフルオロプロペンまたはそのオ
リゴマーと反応することにより得てもよい。 本発明化合物の骨格をなすカルボキシアミド
は、耐熱性に優れ、またその極性基の構造から、
エステル結合、他のアミド結合と水素結合を作り
易く、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド
樹脂等の殆んどの樹脂への溶融、混合性に優れて
いる。特に本発明の化合物は極めて耐熱性に優れ
ている。 本発明化合物は潤滑油添加剤、離型剤、樹脂内
添加離型剤、樹脂表面改質剤等の多くの用途に使
用し得る。 本発明を実施例により更に詳細に説明する。 実施例 １ 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロート
を備えた300mlフランコ、４，4′−ジアミノジフ
エニルエーテル0.05モル、トリエチルアミン0.11
モルおよびテトラヒドロフラン100mlを仕込んだ。
還流下に特開昭51−11084号公報の実施例４(1)で
得たｐ−パーフルオロノネニルオキシベンゾイル
クロリド0.11モルとテトラヒドロフラン50mlの混
合物を徐々に滴下した。滴下終了後約３時間撹拌
を続け、反応混合物を水にあけ、固形分を過、
洗浄後アセトンで再結晶し、４，4′−ビス〔ｐ−
（パーフルオロノネニルオキシ）ベンズアミド〕
ビフエニルエーテルを得た。収率はほぼ100％で
あつた。生成物の物性は以下の通りであつた。 外観：白色固体 融点：163〜164℃ 熱分析：TG（10％重量減少温度）376℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3280cm-1 芳香族Ｃ−Ｈ基に基づく吸収 …3140cm-1 3070cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1650cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1603cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS、溶
媒アセトンD6、CF2ClCFCl2） 8.05（Doublet、4H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 7.65（Doublet、4H、ベンゼン環イミノ基オル
ト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 6.96（Doublet、4H、パーフルオロノネニルオ
キシ基オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 6.82（Doublet、4H、ジフエニルエーテルのエ
ーテル基オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 9.36（Singlet、2H、＞Ｎ−Ｈプロトン） 実施例 ２ ４，4′−ジアミノジフエニルエーテルに代えて
ｐ−フエニレンジアミンを用いる以外は実施例１
と同様にしてＮ，N′−ビス（ｐ−パーフルオロ
ノネニルオキシベンゾイルノフエニレンジアミン
を得た。この化合物の精製はアセトンで洗浄して
行つた。物性は以下の通りであつた。 外観：白色結晶 融点：300℃以上 熱分析：TG（10％重量減少温度）334℃ 質量分析：ｍ／ｅ＝1208（分子イオンピーク、
C38H14O4N2F34＝1208） 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3325cm-1 芳香族Ｃ−Ｈ基に基づく吸収 …3100cm-1 脂肪族Ｃ−Ｈ基に基づく吸収 …2960cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1660cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1606cm-1 1508cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標物質TMS、溶媒
アセトンD6、CF2ClCFCl2） 8.3（Broad、2H、Ｎ−Ｈプロトン） 8.09（Doublet、4H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 7.02（Doublet、4H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 3.6（Multiplet、4H、エチレンプロトン） 実施例 ３ ４，4′−ジアミノジフエニルエーテルに代えて
エチレンジアミンを用いる以外は実施例１と同様
にしてＮ，N′−ビス（ｐ−パーフルオロノネニ
ルオキシベンゾイル）フエニレンジアミンを得た
（収量93％）。再結晶はアルコールで行つた。生成
物の物性は以下の通りであつた。 外観：白色結晶 融点：225〜226℃ 昇華性有り 熱分析：TG（10％重量減少）334℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3325cm-1 芳香族Ｃ−Ｈに基づく吸収 …3100cm-1 脂肪族Ｃ−Ｈに基づく吸収 …2960cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1660cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1606cm-1 1508cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS、溶
媒アセトンD6、CF2ClCFCl2） 8.3（Broad、2H、Ｎ−Ｈプロトン） 8.09（Doublet、4H、ベンゼン環カルボニルオ
ルト位プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 7.02（Doublet、ベンゼン環エーテル基オルト位
プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 3.6（Multiplet、4H、エチレンプロトン） 実施例 ４ (1) 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロー
トを備えた300mlフランコに、ｐ−アミノフエ
ノール0.21モルおよびエチルエーテル100mlを
仕込んだ。還流下に特開昭51−11084号公報の
実施例４(1)で得たｐ−パーフルオロノネニルオ
キシベンゾクロリド0.1モルとエーテル50mlの
混合物を徐々に滴下する。滴下終了後約３時間
還流撹拌を続け、反応混合物を過、固形分と
液より溶媒を除いた残渣を合わせて、水洗、
希塩酸洗浄、水洗し、乾燥後アルコール結晶し
Ｎ−（Ｐ−パーフルオロノネニルオキシベンゾ
イル）アミノフエノールを得た（収率96％）。
生成物の物性は以下の通りである。 外観：白色結晶 融点：264〜265℃ 赤外吸収スペクトル OHおよびNHに基づく吸収 …3400cm-1 3330cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1650cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1600cm-1 1520cm-1 1482cm-1 1439cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS溶
媒アセトンD6 CFCl3） 9.21（Singlet、1H、NHプロトン） 8.02（Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル
基オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 7.18（Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基
オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 7.46（Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オ
ルト位プロトン、Ｊ＝8.8Hz） 6.69（Doublet、2H、ベンゼン環OH基オルト
位プロトン、Ｊ＝8.8Hz） 7.94（Singlet、1H、OHプロトン） 19F−NMR分析（δppm、内部標準CCl3F、溶
媒アセトンD6） ＋56(a)（Doublet、Ｊ＝56.4Hz(b)） ＋72(a)（Triplet、Ｊ＝37.4Hz(b)） (a)CCl3Fの吸収線より高磁場側を正の符号で
示した。 (b)みかけ上の結合定数 (2) 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロー
トを備えた500mlフラスコに、実施例４(1)で得
たＮ−（ｐ−パーフルオロノネニルオキシベン
ゾイル）アミノフエノール0.05モル、トリエチ
ルアミン0.06モルおよびDMF100mlを入れる。
反応系の温度を20〜30℃に保持しながら、撹拌
下ヘキサフルオロプロペン三量体0.055モルを
徐々に滴下する。滴下終了後約３時間反応を続
け、反応物を水にあけ、固形分を過、水で洗
浄し、乾燥後アルコール再結晶して４，4′−ビ
ス（パーフルオロノネニルオキシ）ベンズアミ
ドを得た（収率91％）。生成物の物性は以下の
通りであつた。 外観：白色結晶 融点：199〜200℃ 昇華性有り 熱分析：TG（10％重量減少量）298℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3300cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1650cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1607cm-1 1514cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS、
溶媒CDCl3、アセトンD6） 9.4（Broad、1H、Ｎ−Ｈプロトン） 7.94（Doublet、2H、ベンゼン環カボニル基
オルト位プロトン、Ｊ＝8.6Hz） 6.95（Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル
基メタ位プロトン、Ｊ＝8.6Hz） 7.75（Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オ
ルト位プロトン、Ｊ＝8.8Hz） 6.85（Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基メ
タ位プロトン、Ｊ＝8.8Hz）
オロアルケニル基、Ｘはアルキル基、アリール
基、ジフエニルエーテル基を示す〕で表わされる
新規なＮ置換含弗素カルボアミド化合物に関す
る。 また、本発明はパーフルオロアルケニルオキシ
ベンゾイルハライドとアミノ基およびヒドロキシ
ル基を有する芳香族化合物またはジアミン類を非
水溶媒中、塩基性触媒の存在下に脱ハロゲン化水
素反応させることを特徴とするＮ置換含弗素カル
ボアミド化合物の製造方法を提供する。 反応に用いるパーフルオロアルケニルオキシベ
ンゾイルハライドは、例えば特開昭51−11084号
公報に記載する方法により容易に得ることができ
る。 ジアミン類はポリアミドの製造に用いられるも
のであればいずれを用いてもよく、例えばエチレ
ンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサ
メチレンジアミン、１，７−ジアミノヘプタン、
１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノ
ナン、１，10−ジアミノデカン、Ｏ−，ｍ−また
はｐ−フエニレンジアミン、４，4′−ジアミノジ
フエニルエーテル等が例示される。アミノ基およ
びヒドロキシル基を有する芳香族化合物の例とし
てはアミノナフトール、４−アミノ−4′−ヒドロ
キシビフエニル等があげられる。 非水溶媒は反応物を溶解し得るものであつて、
例としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジグ
リム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、テ
トラヒドロピラン、ジメチルカルビトール、また
はジエチルエーテル等が挙げられる。 反応に用いる塩基性触媒は反応の脱塩化水素を
促進し、生じた塩化水素を吸収する水溶性のもの
であつて、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミン、トリメチルアミン等が
例示される。塩基性触媒は上記酸ハライドと同当
量用いるのが好ましい。 反応は室温〜60℃の温度で行なわれる。反応物
にジアミン類を用いて、RfとR′fが同一のものを
得る場合にはジアミン類のモル数の２倍以上のモ
ル数のパーフルオロアルケニルオキシベンゾイル
ハライドを用いればよい。RfとR′fとが異なる場
合には反応を２段階に分け、最初にジアミン類と
等モルの含弗素化合物と反応し、反応終了後別の
パーフルオロアルケニル基を有する化合物と反応
すればよい。 ジアミン類を用いない場合、本発明化合物は上
述のように最初に適当な溶媒中でパーフルオロア
ルケニルオキシベンゾイルハライドとアミン基お
よびヒドロキシル基を有する芳香族化合物を反応
した後、生成物を特開昭51−11084号公報に記載
する方法でヘキサフルオロプロペンまたはそのオ
リゴマーと反応することにより得てもよい。 本発明化合物の骨格をなすカルボキシアミド
は、耐熱性に優れ、またその極性基の構造から、
エステル結合、他のアミド結合と水素結合を作り
易く、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド
樹脂等の殆んどの樹脂への溶融、混合性に優れて
いる。特に本発明の化合物は極めて耐熱性に優れ
ている。 本発明化合物は潤滑油添加剤、離型剤、樹脂内
添加離型剤、樹脂表面改質剤等の多くの用途に使
用し得る。 本発明を実施例により更に詳細に説明する。 実施例 １ 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロート
を備えた300mlフランコ、４，4′−ジアミノジフ
エニルエーテル0.05モル、トリエチルアミン0.11
モルおよびテトラヒドロフラン100mlを仕込んだ。
還流下に特開昭51−11084号公報の実施例４(1)で
得たｐ−パーフルオロノネニルオキシベンゾイル
クロリド0.11モルとテトラヒドロフラン50mlの混
合物を徐々に滴下した。滴下終了後約３時間撹拌
を続け、反応混合物を水にあけ、固形分を過、
洗浄後アセトンで再結晶し、４，4′−ビス〔ｐ−
（パーフルオロノネニルオキシ）ベンズアミド〕
ビフエニルエーテルを得た。収率はほぼ100％で
あつた。生成物の物性は以下の通りであつた。 外観：白色固体 融点：163〜164℃ 熱分析：TG（10％重量減少温度）376℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3280cm-1 芳香族Ｃ−Ｈ基に基づく吸収 …3140cm-1 3070cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1650cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1603cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS、溶
媒アセトンD6、CF2ClCFCl2） 8.05（Doublet、4H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 7.65（Doublet、4H、ベンゼン環イミノ基オル
ト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 6.96（Doublet、4H、パーフルオロノネニルオ
キシ基オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 6.82（Doublet、4H、ジフエニルエーテルのエ
ーテル基オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 9.36（Singlet、2H、＞Ｎ−Ｈプロトン） 実施例 ２ ４，4′−ジアミノジフエニルエーテルに代えて
ｐ−フエニレンジアミンを用いる以外は実施例１
と同様にしてＮ，N′−ビス（ｐ−パーフルオロ
ノネニルオキシベンゾイルノフエニレンジアミン
を得た。この化合物の精製はアセトンで洗浄して
行つた。物性は以下の通りであつた。 外観：白色結晶 融点：300℃以上 熱分析：TG（10％重量減少温度）334℃ 質量分析：ｍ／ｅ＝1208（分子イオンピーク、
C38H14O4N2F34＝1208） 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3325cm-1 芳香族Ｃ−Ｈ基に基づく吸収 …3100cm-1 脂肪族Ｃ−Ｈ基に基づく吸収 …2960cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1660cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1606cm-1 1508cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標物質TMS、溶媒
アセトンD6、CF2ClCFCl2） 8.3（Broad、2H、Ｎ−Ｈプロトン） 8.09（Doublet、4H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 7.02（Doublet、4H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 3.6（Multiplet、4H、エチレンプロトン） 実施例 ３ ４，4′−ジアミノジフエニルエーテルに代えて
エチレンジアミンを用いる以外は実施例１と同様
にしてＮ，N′−ビス（ｐ−パーフルオロノネニ
ルオキシベンゾイル）フエニレンジアミンを得た
（収量93％）。再結晶はアルコールで行つた。生成
物の物性は以下の通りであつた。 外観：白色結晶 融点：225〜226℃ 昇華性有り 熱分析：TG（10％重量減少）334℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3325cm-1 芳香族Ｃ−Ｈに基づく吸収 …3100cm-1 脂肪族Ｃ−Ｈに基づく吸収 …2960cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1660cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1606cm-1 1508cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS、溶
媒アセトンD6、CF2ClCFCl2） 8.3（Broad、2H、Ｎ−Ｈプロトン） 8.09（Doublet、4H、ベンゼン環カルボニルオ
ルト位プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 7.02（Doublet、ベンゼン環エーテル基オルト位
プロトン、Ｊ＝9.6Hz） 3.6（Multiplet、4H、エチレンプロトン） 実施例 ４ (1) 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロー
トを備えた300mlフランコに、ｐ−アミノフエ
ノール0.21モルおよびエチルエーテル100mlを
仕込んだ。還流下に特開昭51−11084号公報の
実施例４(1)で得たｐ−パーフルオロノネニルオ
キシベンゾクロリド0.1モルとエーテル50mlの
混合物を徐々に滴下する。滴下終了後約３時間
還流撹拌を続け、反応混合物を過、固形分と
液より溶媒を除いた残渣を合わせて、水洗、
希塩酸洗浄、水洗し、乾燥後アルコール結晶し
Ｎ−（Ｐ−パーフルオロノネニルオキシベンゾ
イル）アミノフエノールを得た（収率96％）。
生成物の物性は以下の通りである。 外観：白色結晶 融点：264〜265℃ 赤外吸収スペクトル OHおよびNHに基づく吸収 …3400cm-1 3330cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1650cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1600cm-1 1520cm-1 1482cm-1 1439cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS溶
媒アセトンD6 CFCl3） 9.21（Singlet、1H、NHプロトン） 8.02（Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル
基オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 7.18（Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基
オルト位プロトン、Ｊ＝9.0Hz） 7.46（Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オ
ルト位プロトン、Ｊ＝8.8Hz） 6.69（Doublet、2H、ベンゼン環OH基オルト
位プロトン、Ｊ＝8.8Hz） 7.94（Singlet、1H、OHプロトン） 19F−NMR分析（δppm、内部標準CCl3F、溶
媒アセトンD6） ＋56(a)（Doublet、Ｊ＝56.4Hz(b)） ＋72(a)（Triplet、Ｊ＝37.4Hz(b)） (a)CCl3Fの吸収線より高磁場側を正の符号で
示した。 (b)みかけ上の結合定数 (2) 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロー
トを備えた500mlフラスコに、実施例４(1)で得
たＮ−（ｐ−パーフルオロノネニルオキシベン
ゾイル）アミノフエノール0.05モル、トリエチ
ルアミン0.06モルおよびDMF100mlを入れる。
反応系の温度を20〜30℃に保持しながら、撹拌
下ヘキサフルオロプロペン三量体0.055モルを
徐々に滴下する。滴下終了後約３時間反応を続
け、反応物を水にあけ、固形分を過、水で洗
浄し、乾燥後アルコール再結晶して４，4′−ビ
ス（パーフルオロノネニルオキシ）ベンズアミ
ドを得た（収率91％）。生成物の物性は以下の
通りであつた。 外観：白色結晶 融点：199〜200℃ 昇華性有り 熱分析：TG（10％重量減少量）298℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 …3300cm-1 カルボニル基に基づく吸収 …1650cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 …1607cm-1 1514cm-1 Ｃ−Ｆに基づく吸収 …1100〜1400cm-1 1H−NMR分析（δppm内部標準物質TMS、
溶媒CDCl3、アセトンD6） 9.4（Broad、1H、Ｎ−Ｈプロトン） 7.94（Doublet、2H、ベンゼン環カボニル基
オルト位プロトン、Ｊ＝8.6Hz） 6.95（Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル
基メタ位プロトン、Ｊ＝8.6Hz） 7.75（Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オ
ルト位プロトン、Ｊ＝8.8Hz） 6.85（Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基メ
タ位プロトン、Ｊ＝8.8Hz）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式： 〔式中、【式】または 【式】であつてRfお よびR′fは同一または異なる炭素数２〜20のパー
フルオロアルケニル基、Ｘはアルキル基、アリー
ル基、ジフエニルエーテル基を示す〕で表わされ
る新規なＮ置換含弗素カルボアミド化合物。 ２ RfおよびR′fがそれぞれヘキサフルオロプロ
ペン二量体または三量体残基である第１項記載の
化合物。 ３ パーフルオロアルケニルオキシベンゾイルハ
ライドとアミノ基およびヒドロキシル基を有する
芳香族化合物またはジアミン類を非水溶媒中、塩
基性触媒の存在下に脱ハロゲン化水素反応させる
ことを特徴とするＮ置換含弗素カルボアミド化合
物の製造方法。 ４ 非水溶媒がジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドまたはジメチルカルビトールである第３
項記載の製法。 ５ 塩基性触媒がトリエチルアミン、トリメチル
アミン、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムであ
る第３項記載の製法。 ６ 反応が20〜50℃で行われる第３項記載の製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4607284A JPS60190748A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 新規な含弗素カルボアミド化合物およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4607284A JPS60190748A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 新規な含弗素カルボアミド化合物およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60190748A JPS60190748A (ja) | 1985-09-28 |
| JPH0348901B2 true JPH0348901B2 (ja) | 1991-07-25 |
Family
ID=12736787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4607284A Granted JPS60190748A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 新規な含弗素カルボアミド化合物およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60190748A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3173027B2 (ja) * | 1991-03-19 | 2001-06-04 | 株式会社日立製作所 | 物体の表面処理法，表面処理剤，表面処理された物品，部品及びそれらを備えた装置 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP4607284A patent/JPS60190748A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60190748A (ja) | 1985-09-28 |
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