JPH0351833U - - Google Patents

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JPH0351833U
JPH0351833U JP11203589U JP11203589U JPH0351833U JP H0351833 U JPH0351833 U JP H0351833U JP 11203589 U JP11203589 U JP 11203589U JP 11203589 U JP11203589 U JP 11203589U JP H0351833 U JPH0351833 U JP H0351833U
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vapor phase
phase growth
exhaust hole
coil
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JP11203589U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る縦型気相成長装置の一実
施例を概略的に示す断面図、第2図は同じくガス
滞留状態を概略的に示す説明図、第3図は従来の
縦型気相成長装置を概略的に示す断面図、第4図
は同じく排気孔開口状態を示すベースプレートの
平面図、第5図は同じく従来のガス滞留状態を概
略的に示す説明図である。 1……反応炉、2……ベースプレート、3……
コイルカバー、3a……周側面、31……高周波
加熱コイル、4……石英ベルジヤ、4a……内周
側壁面、7……サセプタ、8……ノズル、9……
排気孔、10……凹溝、10a……内底面、W…
…半導体基板、G……反応ガス。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ベースプレート上の中央部に高周波加熱コ
    イルが内蔵されたコイルカバーを設置し、このコ
    イルカバーの周面を覆うように石英ベルジヤを前
    記ベースプレート上に配置して反応炉を形成し、
    かつこの反応炉内のサセプタ上に載置された半導
    体基板を前記高周波加熱コイルにより誘導加熱す
    るとともに、前記ベースプレートに設けた排気孔
    から前記反応炉内にノズルを介して噴出され分解
    された反応ガスを外部に排出しながらエピタキシ
    ヤル気相成長させる縦型気相成長装置において、
    前記ベースプレートに設けられる排気孔の形成部
    位に、前記コイルカバー及び石英ベルジヤの下端
    に沿う環状の凹溝を形成し、この凹溝の内底面に
    排気孔を開口させたことを特徴とする縦型気相成
    長装置。 (2) 凹溝の深さlを、コイルカバーの周側面と
    石英ベルジヤの内周側壁面との間隔dよりも大き
    くなる(l≧d)ようにしたことを特徴とする請
    求項1記載の縦型気相成長装置。
JP11203589U 1989-09-27 1989-09-27 Pending JPH0351833U (ja)

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