JPH0352141B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学式ビデオデイスク、デイジタルオ
ーデイオデイスク等の光学式情報記録担体及びそ
の製造方法に関する。

従来例えば光学式ビデオデイスクは第１図に示
す如きステツプにより製造されている。すなわち
先ず厚さ６〜８mmのガラス盤１を準備して洗浄
し、例えばヘキサメチルジシラザンを主成分とす
る材料（例えば東京応化社製OAP）により表面
を活性化する。その上にフオトレジスト等の感光
性樹脂２をスピンナ等で薄くコートし、プリベー
クした後冷却する。記録装置３において、記録す
べき信号により変調されたレーザビーム等を感光
性樹脂２上に照射し、信号を記録する。露光した
感光性樹脂２を現像し、水洗いし、水切りをして
さらにアフターベークした後冷却する。これによ
り表面に記録信号に対応したピツトが形成され
る。そしてさらにピツトが形成された記録表面上
に銀等の導電膜４をスパツタ等によりコートして
原盤５を得る。この導電膜４が形成された段階に
おいて始めて記録した信号の再生が可能となるの
で、この原盤５を検査用の原盤再生機（原盤５は
その質量、形状等が市場に供給される完成品とし
てのビデオデイスクより極めて大きいため、市場
に供給されている一般のビデオデイスクプレーヤ
ーにおいて再生することは不可能である）にて再
生し、ドロツプアウト等の検査をする。検査の結
果、不合格となつた場合は再度上記工程を始めか
らやり直す必要がある。

検査に合格した原盤５上にニツケル等を電鋳に
より被覆し、それを剥離してピツトが転写された
スタンパ６を得る。スタンパ６を母型としてイン
ジエクシヨン等により合成樹脂のレプリカ７を
得、乾燥させ、その信号転写面上にアルミニウム
等の反射膜８を蒸着、スパツタ等により形成した
後、さらにその上に合成樹脂の保護膜９を塗布す
る。これをさらに同様にして得られた他のレプリ
カ７′と接着剤１０により貼り合わせ、外径加工
等の処理をする。この段階で始めて一般のビデオ
デイスクプレーヤにて再生可能なビデオデイスク
１１が得られる。

このようにして一般のビデオデイスクプレーヤ
にて再生可能なビデオデイスク１１を得る迄には
実労働時間で約24時間（１日８時間の労働とする
と３目間）の工程を必要とする。斯かる製造方法
は、スタンパ６でレプリカ７を大量に製造し得る
ため、生産数量が多い場合はデイスク１枚当りの
製造時間、コストが下がり有利である。しかしな
がら生産数量が極端に少ない場合（例えば一般消
費者がビデオテープレコーダ等にて個人的に記録
した情報をビデオデイスクに記録しておくような
場合）は、そのコストが著しく高いものになつて
しまい、一般消費者が個人的な情報をビデオデイ
スクに記録して保存することは経済的理由から殆
んど不可能である。

これに対して一般にDRAW（Direct Read
After Write）デイスクと称され、ガラス等の基
板上に形成された情報記録層にレーザビーム等を
照射することにより局部的に情報記録層を除去し
たり変形させたり、あるいは変質させることによ
り実質的にピツトを形成する方法が近年盛んに研
究されている。斯かるデイスクはレーザビームを
照射して情報を記録した後、何等の処理を施さず
ともそのまま記録した情報を再生することができ
るので少量のデイスクを製造する場合には確かに
有利である。しかしながら情報記録層は情報記録
時エネルギーレベルが比較的大きいレーザビーム
が照射された場合は実質的にピツトが形成される
と共に、情報再生時比較的小さいレベルのレーザ
ビームが照射された場合は実質的にピツトが形成
されることなくレーザビームを充分反射させるも
のでなければならないところから、その材料は極
めて特殊なものとならざるを得ない。しかも１枚
のデイスクに使用されるその材料は極めて少量で
あるばかりでなく、個人情報用デイスクの生産量
もレプリカ型式によつて大量生産されるデイスク
の生産量に較べればごくわずかであるから、その
材料の消費量は然程大きいものとはならない。そ
の結果情報記録層の材料、しいては個人情報用デ
イスクのコストを充分低減させることは困難であ
る。

また斯かるDRAWデイスクの情報記録材料と
して、レプリカ型式によつて大量生産されたデイ
スクと同程度以上のＳ／Ｎを有するものは未だ開
発されていないのが実情である。従つて現在の
DRAWデイスクに個人情報を記録したとしても、
それはデイスクの製造メーカが依頼主であるその
個人に対して商品として販売できる品質のもので
はない（市販されているビデオデイスクプレーヤ
は記録機能（例えばレーザの変調装置等）を有し
ていないから、市販のビデオテープ等に記録した
個人情報の記録を、各個人がビデオデイスクの製
造メーカに依頼することになる）。

さらにまたデイスクの製造メーカは、レプリカ
型式によつて生産することが充分可能な程大量の
デイスクの注文を受けた場合であつても、大量生
産に入る前にテスト用として数枚のデイスクを注
文主に早急に納入しなければならないことがあ
る。斯かる場合において上記した大量生産する方
法と同じ方法で数枚のデイスクを製造したので
は、時間的にもコスト的にも見合わないことにな
るし、また上記したDRAWデイスクに記録した
のでは充分な品質を得ることができないことにな
る。

本発明は斯かる状況に鑑みなされたもので、少
量であつても商業上充分に引き合う程度に低コス
トで、短時間に製造でき、かつ商品として実用上
充分な品質を有する光学式情報記録担体及びその
製造方法を提供することを目的とする。

以下本発明を光学式ビデオデイスクに応用した
場合を例として説明する。第２図は本発明に係る
ビデオデイスクの製造過程を表わしている。本発
明においては先ずガラス、合成樹脂等よりなる透
明な基板２１を用意する。合成樹脂としてはアク
リル樹脂（PMMA（ポリメチルメタクリレート））
を用いることができる。アクリル樹脂はインジエ
クシヨンタイプのものでもよいが、より重合度の
高いキヤストタイプのものが好適である。

基板２１は第１図に示した大量生産する場合に
おいて途中製造されるピツトが一体的に形成され
たレプリカ７と略同一の外形寸法を有している。
すなわち例えば外径は300mmで、中心に直径35mm
の孔を有する平円盤状をしており、その厚さは
1.2〜1.3mmである。但しその上下面は高い平面性
を有している。次に基板２１をフオトレジスト塗
布装置２２内に配置し、例えばポジタイプのフオ
トレジストを感光樹脂層２３として例えば1400±
200Åの厚さに塗布する。一般に合成樹脂にフオ
トレジストを塗布した場合、膨潤が起きると言わ
れているが、基板２１のアクリルとして日東樹脂
社製のクラレツクスＳ、又はクラレツクスＷを用
い、フオトレジストとして東京応化社製のOFPR
等を使用した場合においては膨潤は殆んど起きな
かつた。また仮りに膨潤が起きたとしても本発明
に係るデイスクにおいては然程問題にはならな
い。本発明において重要なことは、基板２１と感
光樹脂層２３の読み出し用レーザビームに対する
屈折略が略等しい（近似している）ことである。
上記実施例においては基板２１の屈折率は略1.5
であり、感光樹脂層２３の屈折率は略1.6であつ
た。

次に感光樹脂層２３を形成した基板２１をクリ
ーンオーブン２４内に配置して例えば略80℃で30
分間プリベーキングを行つた後冷却する。さらに
記録装置２５により記録信号にて変調されたレー
ザビームを感光樹脂層２３上に照射して情報を記
録する。この時例えば波長4579Å、デイスク上で
の出力が10〜20ｍＷのレーザビームを使用するこ
とができる。

さらに現像装置２６において、露光された感光
樹脂層２３を現像液にて現像する。現像工程を必
要以上に長く継続すると感光樹脂層２３が基板２
１から剥離してしまう場合がある。これを防ぐの
に上述した様にフオトレジストを塗布する前に基
板２１を活性化するようにしてもよいのである
が、この活性化を行なわずとも、現像の進行程度
を観察しておけば剥離現像を防止することが可能
である。現像の進行程度を観察するには、現像液
が散布されながら回転するデイスクに対して比較
的弱いレーザビームを照射し、その０次光と１次
光との光量比をフオトデイテクタにより検出する
ようにする。現像開始直後においては未だピツト
が形成されていないため０次光のみであり１次光
の光量は０である。現像が進行しピツトが形成さ
れると回折が起こるため１次光が再生する。そし
て０次光のフオトデイテクタと１次光のフオトデ
イテクタとの出力から両者の比をとり、その比が
所定値に達したとき現像を中止するようにすれ
ば、フオトレジストが基板２１から剥離すること
は殆んどなくなる。その基準となるべき所定の光
量比は実験により容易に求めることができる。回
折光である１次光の光量を基準値と比較してもよ
いが、光源の出力変化、光路中の塵埃、現像液の
浮遊粒子等による光量変化等による悪影響が生じ
易い。そこでこれを防止するため回折光（１次
光）の光量と基準光（１次光）の光量とを除算し
て得た信号を基準値と比較するようにするのが好
ましい。

回折光の基準光に対する比が所定値に達した時
現像液の散布を停止し、水で洗浄する。この後ク
リーンオーブン２４において、例えば80℃で15分
間ポストベーキングを行つた後冷却する。

このポストベーキングは、現像したフオトレジ
ストを乾燥させ水分等を除去、さらに基板とフオ
トレジストの密着性を向上する為に行われる。そ
してこのポストベーキングによつて、レジスト層
のハク離、及び反射膜の腐食等を防止し、品質及
び信頼性向上する。

本発明においては、この後電鋳によりニツケル
を被覆するようなことはしない。ピツトが形成さ
れた感光樹脂層２３上に直接金属（例えばアルミ
ニウム）等よりなる反射膜２７を1000〜1500Åの
厚さに、蒸着、スパツタ等により形成して所定の
反射膜を得るようにする。

反射膜２７上にはさらに合成樹脂よりなる保護
膜２８を散布等により形成し、片面に信号が記録
されたデイスク２９を得る。そして同様の工程に
より得られた片面に信号が記録された別のデイス
ク２９′（勿論片面のみのデイスクでよい場合は
所定形状に形成された合成樹脂よりなるダミーデ
イスクでもよい）と接着剤３０を介して両デイス
ク２９，２９′の保護膜２８が対向するように接
着する。

このようにして得られたデイスクを検査してす
べての工程が終了するが、それ迄に要する時間は
約８時間（１労働日）である。すなわち、１枚の
デイスクを完成させるのに要する時間は従来の場
合の約1/3になる。

またこのようにして得られたデイスクは、スタ
ンパ６より大量生産のためインジエクシヨン等に
より形成されたレプリカ７と略同一の形状寸法を
有し、両面が平面で、透明な（レーザビームを充
分透過する）基板２１と、ピツト部分のみ基板２
１が露出するように基板２１上に形成された、基
板２１と略同一の屈折率を有する感光樹脂層２３
と、基板２１の露出した部分と感光樹脂層２３と
を被覆する反射膜２７と、反射膜２７上に形成さ
れた合成樹脂よりなる保護膜２８とを片面又は両
面に有している。従つて読み出し時にレーザビー
ムを基板２１側から反射膜２７上に照射すれば、
感光樹脂層２３は基板２１と略同一の屈折率を有
しているから光学的には基板２１と一体に形成さ
れた場合と略等価となり、大量生産されたデイス
クと略同一の構造となり、DRAWデイスクのよ
うに大量生産されたデイスクと基本的に異なる構
造となるものではないから、市販のビデオデイス
クプレーヤにて大量生産されたデイスクと同様に
再生することが可能となる。しかもこのデイスク
は大量生産されたデイスクのように信号面を転写
するものではないから、大量生産されたデイスク
よりＳ／Ｎは良好となる（DRAWデイスクより
良好となるのはもとよりである）。

また、このデイスクを製造するのに必要な材
料、装置は、大量生産されるデイスクのそれと殆
んど同一でよいから、コストもDRAWデイスク
のように高くなることはなく、極めて少量のデイ
スクを製造する場合においても商業上充分引き合
い、大量生産のための予備的デイスクとしてのテ
ストデイスクは勿論、商品としての個人的デイス
クが実現可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の、第２図は本発明の、各々、デ
イスクを製造する過程を説明する説明図である。 ２１……基板、２３……感光樹脂層、２７……
反射膜、２８……保護膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 透明な円板状の基板と、前記基板状に形成さ
   れ情報を担う凹凸部が有する感光樹脂層と、前記
   感光樹脂層上に形成された反射膜と、前記反射膜
   上に形成された保護膜を備えた光学式情報記録担
   体であつて、 前記基板は、1.2〜1.3mmの厚さを有すると共に
   前記感光樹脂層は前記基板と略等しい屈折率を有
   しかつ1200〜1600Åの厚さを有することを特徴と
   する光学式情報記録担体。 ２ 厚さが1.2〜1.3mmの透明な円板状の基板の表
   面に1200〜1600Åの厚さでかつ前記基板と略等し
   い屈折率を有する感光樹脂層を形成する工程と、
   前記感光樹脂層に記録すべき信号により調整され
   たビームを照射して露光する工程と、前記露光さ
   れた感光樹脂層を現像して凹部を形成する工程
   と、前記現像された感光樹脂層を加熱乾燥する工
   程と、前記加熱乾燥された感光樹脂層上に反射膜
   を形成する工程と、前記反射膜上に保護膜を形成
   する工程を含むことを特徴とする光学式情報記録
   担体の製造方法。