JPH035489A - アミノプロピルシラン化合物の製造方法 - Google Patents
アミノプロピルシラン化合物の製造方法Info
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- JPH035489A JPH035489A JP1138181A JP13818189A JPH035489A JP H035489 A JPH035489 A JP H035489A JP 1138181 A JP1138181 A JP 1138181A JP 13818189 A JP13818189 A JP 13818189A JP H035489 A JPH035489 A JP H035489A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、アミノプロピルアルコキシシランなどのアミ
ノプロピルシラン化合物の製造方法に関し、さらに詳し
くは、少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつ
ルテニウム化合物を触媒として用いたアミノプロピルシ
ラン化合物の製造方法に関する。
ノプロピルシラン化合物の製造方法に関し、さらに詳し
くは、少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつ
ルテニウム化合物を触媒として用いたアミノプロピルシ
ラン化合物の製造方法に関する。
従来の技術
シランカップリング剤は、分子内に有機官能性基と、無
機物と反応する加水分解性基とを持った化合物である。
機物と反応する加水分解性基とを持った化合物である。
このようなシランカップリング剤は、上記のような官能
性基を有するため、有機ポリマーとシリカ等の無機物と
を化学的に結合することができ、有機ポリマーの機械的
強度を飛躍的に向上させることができるので、先端複合
材料の開発に不可欠なものである。
性基を有するため、有機ポリマーとシリカ等の無機物と
を化学的に結合することができ、有機ポリマーの機械的
強度を飛躍的に向上させることができるので、先端複合
材料の開発に不可欠なものである。
上記のようなシランカップリング剤の１つとして、γ−
アミノプロピルアルコキシシランなどのアミノプロピル
シラン化合物が用（゛）られている。
アミノプロピルアルコキシシランなどのアミノプロピル
シラン化合物が用（゛）られている。
このアミノプロピルシラン化合物は、Ｎ−置換アリルア
ミンを含むアリルアミン類と、ヒドロシラン類とのヒド
ロシリル化反応１４よって製造しうることが知られてい
る。
ミンを含むアリルアミン類と、ヒドロシラン類とのヒド
ロシリル化反応１４よって製造しうることが知られてい
る。
たとえば特開昭６０−８１１８９号公報には、アリルア
ミン類とヒドロシラン類とを、塩化白金酸などの白金触
媒を用いて、無水炭酸ナトリウムなどの反応促進剤の存
在下に反応させることによるアミノプロピルアルコキシ
シラン類の製造方法が開示されている。しかしながら、
塩化白金酸などの白金触媒を用いて、アリルアミン類と
ヒドロシラン類とを反応させると、γ−アミノプロピル
シラン化合物（以下１．γ一体ということがある）に加
えて多量のβ−アミノプロピルシラン化合物（以下、β
一体ということがある）が生成し、γ一体とβ一体との
比は４〜６程度となり、目的化合物としてのγ一体の選
択率が低いという問題点があった。
ミン類とヒドロシラン類とを、塩化白金酸などの白金触
媒を用いて、無水炭酸ナトリウムなどの反応促進剤の存
在下に反応させることによるアミノプロピルアルコキシ
シラン類の製造方法が開示されている。しかしながら、
塩化白金酸などの白金触媒を用いて、アリルアミン類と
ヒドロシラン類とを反応させると、γ−アミノプロピル
シラン化合物（以下１．γ一体ということがある）に加
えて多量のβ−アミノプロピルシラン化合物（以下、β
一体ということがある）が生成し、γ一体とβ一体との
比は４〜６程度となり、目的化合物としてのγ一体の選
択率が低いという問題点があった。
また特開昭６１−２２９８８５号公報には、アリルアミ
ン類とヒドロシラン類とを、ロジウム−有機第３級ホス
フィン錯体そして必要によりトリフェニルホスフィンを
含んでなる触媒を用いて反応させることによるアミノプ
ロピルアルコキシシラン類の製造方法が開示されている
。この方法によれば、高い選択率でγ−アミノプロピル
アルコキシシランを得ることができるが、収率を高める
ためには反応に長時間を要するという問題点があった。
ン類とヒドロシラン類とを、ロジウム−有機第３級ホス
フィン錯体そして必要によりトリフェニルホスフィンを
含んでなる触媒を用いて反応させることによるアミノプ
ロピルアルコキシシラン類の製造方法が開示されている
。この方法によれば、高い選択率でγ−アミノプロピル
アルコキシシランを得ることができるが、収率を高める
ためには反応に長時間を要するという問題点があった。
しかもγ一体を高い選択率で得るためには、過剰のトリ
フェニルホスフィンを存在させなければならないという
問題点もあった。さらにロジウムは高価であるため、工
業的な規模で実施するためには、触媒を低濃度で使用す
るかあるいは、回収して繰り返し使用するなどの方法を
採用せねばならない。
フェニルホスフィンを存在させなければならないという
問題点もあった。さらにロジウムは高価であるため、工
業的な規模で実施するためには、触媒を低濃度で使用す
るかあるいは、回収して繰り返し使用するなどの方法を
採用せねばならない。
また１Ｊ、 ｏｒｇａｎｏｍｅｔ、ｃｈｅｍ、、 １
４９．２９〜３Ｂ（１９７８）では、コバルトカルボニ
ル、ロジウムカルボニル、イリジウムカルボニル、鉄カ
ルボニルなどの金属カルボニル触媒存在下でのオレフィ
ンのヒドロシリル化反応が検討されている。そしてこの
論文では、Ｎ、Ｎ−ジメチルアリルアミンとトリエトキ
シシランとから、高収率でＮ、Ｎ−ジメチルアミノプロ
ピルトリエトキシシランが得られることが報告されてい
る。そして同論文では、Ｎ−非置換アリルアミン類を用
いた場合には、アミンの窒素原子にシリル化反応が優先
的に起こると報告されており、このことはト非置換アリ
ルアミン類とヒドロシラン類とからはアミノプロピルア
ルコキシシラン類を得ることができないことを専味して
いる。
４９．２９〜３Ｂ（１９７８）では、コバルトカルボニ
ル、ロジウムカルボニル、イリジウムカルボニル、鉄カ
ルボニルなどの金属カルボニル触媒存在下でのオレフィ
ンのヒドロシリル化反応が検討されている。そしてこの
論文では、Ｎ、Ｎ−ジメチルアリルアミンとトリエトキ
シシランとから、高収率でＮ、Ｎ−ジメチルアミノプロ
ピルトリエトキシシランが得られることが報告されてい
る。そして同論文では、Ｎ−非置換アリルアミン類を用
いた場合には、アミンの窒素原子にシリル化反応が優先
的に起こると報告されており、このことはト非置換アリ
ルアミン類とヒドロシラン類とからはアミノプロピルア
ルコキシシラン類を得ることができないことを専味して
いる。
発明が解決しようとする課題
本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題点を解決
しようとするものであって、アリルアミン類とヒドロシ
ラン類とから高い選択率でγ−アミノプロピルシラン化
合物を製造しうるような、アミノプロピルシラン化合物
の製造方法を提供することを目的としている。
しようとするものであって、アリルアミン類とヒドロシ
ラン類とから高い選択率でγ−アミノプロピルシラン化
合物を製造しうるような、アミノプロピルシラン化合物
の製造方法を提供することを目的としている。
課題を解決するための手段
発明の要旨
本発明者らは、アミノプロピルシラン化合物の製造方法
を種々検討する中で、アリルアミン類とヒドロシラン類
を少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテ
ニウム化合物触媒の存在下に反応させると、γ一体を高
選択率がっ高収率で短時間にて製造しうろことを見出し
、本発明を完成するに至った。
を種々検討する中で、アリルアミン類とヒドロシラン類
を少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテ
ニウム化合物触媒の存在下に反応させると、γ一体を高
選択率がっ高収率で短時間にて製造しうろことを見出し
、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明に係るアミノプロピルシラン化合物の
製造方法は、 式 ［Ｉコ ２ ［式中、ＲおよびＲは水素、炭素数１〜１゜のアルキル
基、炭素数２〜１ｏのアルケニル基、フェニル基または
置換フェニル基、−ＣＨ２〜６のアルキル基である。］
で示されるアリルアミン類とヒドロシラン類とを、少な
くとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテニウム
化合物物触媒の存在下に反応させることを特徴としてい
る。
製造方法は、 式 ［Ｉコ ２ ［式中、ＲおよびＲは水素、炭素数１〜１゜のアルキル
基、炭素数２〜１ｏのアルケニル基、フェニル基または
置換フェニル基、−ＣＨ２〜６のアルキル基である。］
で示されるアリルアミン類とヒドロシラン類とを、少な
くとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテニウム
化合物物触媒の存在下に反応させることを特徴としてい
る。
発明の詳細な説明
以下本発明に係るアミノプロピルシラン化合物の製造方
法について具体的に説明する。
法について具体的に説明する。
アリルアミン類
本発明ではアミノプロピルシラン化合物を製造する際の
原料の１つとして、上記式［Ｉ］で示されるようなアリ
ルアミン類が用いられる。このようなアリルアミン類と
しては、ＲおよびＲ２が■ 両方とも水素、あるいはいずれか一方が水素、あるいは
両方とも水素でないもののうち、いずれでもよい。
原料の１つとして、上記式［Ｉ］で示されるようなアリ
ルアミン類が用いられる。このようなアリルアミン類と
しては、ＲおよびＲ２が■ 両方とも水素、あるいはいずれか一方が水素、あるいは
両方とも水素でないもののうち、いずれでもよい。
このようなアリルアミン類としては、具体的には、アリ
ルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−エ
チルアリルアミン、２−メチルアリルアミン、ジアリル
アミン、アリルエチレンジアミン、Ｎ−アリルアニリン
などが挙げられる。
ルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−エ
チルアリルアミン、２−メチルアリルアミン、ジアリル
アミン、アリルエチレンジアミン、Ｎ−アリルアニリン
などが挙げられる。
ヒドロシラン類
本発明では、上記のようなアリルアミン類と、ヒドロシ
ラン類とを反応させてアミノプロピルシラン化合物を製
造するが、ここで言うヒドロシラン類とは、Ｓ Ｉ−Ｈ
結合を少なくとも１つ有する化合物を意味し、下記式［
ｎ］ ［ＩＩＩ］あるいは［ＩＶ］で示される化合
物である。
ラン類とを反応させてアミノプロピルシラン化合物を製
造するが、ここで言うヒドロシラン類とは、Ｓ Ｉ−Ｈ
結合を少なくとも１つ有する化合物を意味し、下記式［
ｎ］ ［ＩＩＩ］あるいは［ＩＶ］で示される化合
物である。
４
６
４ ５ ６
［式中、ＲＲおよびＲは、それぞれ同一であっても異な
っていてもよく、アルキル基またはアルコキシ基である
。］ ［式中、Ｒは水素またはメチル基であり、Ｒ７の少なく
とも１つは水素であり、ｎは０〜３００［式中、ｍは３
〜１ｏの整数である。コ上記式［Ｉ１］、［ＩＩ［］ま
たは［ＩＶ］で示されるヒドロシラン類としては、具体
的には、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、ト
リメチルシラン、トリエチルシラン、トリプロポキシシ
ラン、トリブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、
エチルジメトキシシラン、メチルシェドキシンラン、ジ
メチルメトキシシラン、トリオクチロキシシラン、メチ
ルジメトキシシラン、ジメチルオクチロキシシラン、１
，１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ペンタメチ
ルジシロキサン、α、ω−ジヒドロポリシロキサン、分
子鎖中間に３１−Ｈ結合を有するポリシロキサン、１，
３．５．７−チトラメチルシクロテトラシロキサン、１
，３．５．７．９−ペンタメチルシクロペンタシロキサ
ンなどが挙げられる。
っていてもよく、アルキル基またはアルコキシ基である
。］ ［式中、Ｒは水素またはメチル基であり、Ｒ７の少なく
とも１つは水素であり、ｎは０〜３００［式中、ｍは３
〜１ｏの整数である。コ上記式［Ｉ１］、［ＩＩ［］ま
たは［ＩＶ］で示されるヒドロシラン類としては、具体
的には、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、ト
リメチルシラン、トリエチルシラン、トリプロポキシシ
ラン、トリブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、
エチルジメトキシシラン、メチルシェドキシンラン、ジ
メチルメトキシシラン、トリオクチロキシシラン、メチ
ルジメトキシシラン、ジメチルオクチロキシシラン、１
，１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ペンタメチ
ルジシロキサン、α、ω−ジヒドロポリシロキサン、分
子鎖中間に３１−Ｈ結合を有するポリシロキサン、１，
３．５．７−チトラメチルシクロテトラシロキサン、１
，３．５．７．９−ペンタメチルシクロペンタシロキサ
ンなどが挙げられる。
触 媒
本発明では、上記のようなアリルアミン類とヒドロシラ
ン類とを反応させる際に、触媒として少なくとも１つの
第３級ホスフィン配位子をもつルテニウム化合物が用い
られる。
ン類とを反応させる際に、触媒として少なくとも１つの
第３級ホスフィン配位子をもつルテニウム化合物が用い
られる。
ここで第３級ホスフィン配位子のもつ３つの置換基は、
アルキル基でもアリール基でもアルコキシ基でもよくま
た、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
アルキル基でもアリール基でもアルコキシ基でもよくま
た、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテニ
ウム化合物としては、第３級ホスフィン配位子以外の配
位子として無機、あるいは有機配位子、たとえばカルボ
ニル、ハロゲン、水素、オレフィンなどを持っていても
よい。これらの化合物として具体的には、 トリカルボニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニ
ウム、Ｒｕ （Ｃｏ） ３ （ＰＰｈ３） ２、ジクロ
ロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、Ｒｕ
ＣｆＩ２ （ＰＰｈ３）３、ヒドリドクロロトリス（ト
リフェニルホスフィン）ルテニウム、ＲｕＨＣｇ （Ｐ
Ｐｈ３） ３、ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホ
スフィン）ルテニウム、ＲｕＨ２（ＰＰｈ３）４、エチ
レントリス（トリフェニルホスフッイン）ルテニウム、
Ｒｕ （ＣＨ２−ＣＨ２）（ＰＰｈ３）３などが例示さ
れる。
ウム化合物としては、第３級ホスフィン配位子以外の配
位子として無機、あるいは有機配位子、たとえばカルボ
ニル、ハロゲン、水素、オレフィンなどを持っていても
よい。これらの化合物として具体的には、 トリカルボニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニ
ウム、Ｒｕ （Ｃｏ） ３ （ＰＰｈ３） ２、ジクロ
ロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、Ｒｕ
ＣｆＩ２ （ＰＰｈ３）３、ヒドリドクロロトリス（ト
リフェニルホスフィン）ルテニウム、ＲｕＨＣｇ （Ｐ
Ｐｈ３） ３、ジヒドリドテトラキス（トリフェニルホ
スフィン）ルテニウム、ＲｕＨ２（ＰＰｈ３）４、エチ
レントリス（トリフェニルホスフッイン）ルテニウム、
Ｒｕ （ＣＨ２−ＣＨ２）（ＰＰｈ３）３などが例示さ
れる。
反応条件
上記のようなアリルアミン類とヒドロシラン類とを反応
させるに際しては、アリルアミン類：ヒドロシラン類と
のモル比が１．３：１〜１：１．３の範囲で用いられる
ことが好ましい。
させるに際しては、アリルアミン類：ヒドロシラン類と
のモル比が１．３：１〜１：１．３の範囲で用いられる
ことが好ましい。
なお、アリルアミン類およびヒドロシラン類に含有され
るハロゲン、硫黄、リンなどの不純物はなるべく除去し
て用いることが好ましい。
るハロゲン、硫黄、リンなどの不純物はなるべく除去し
て用いることが好ましい。
反応は、常圧下で行なってもよく、また加圧下で行なっ
てもよい。また反応温度は５０℃以上、好ましくは１０
０〜２００℃であることが望ましい。反応温度が５０℃
未満では、γ−アミノプロピルシラン化合物の生成速度
が小さいため反応時間を長くせねばならず、一方反応温
度が２００℃を超えると、目的とするγ−アミノプロピ
ルシラン化合物への選択率の低下を引き起こす。
てもよい。また反応温度は５０℃以上、好ましくは１０
０〜２００℃であることが望ましい。反応温度が５０℃
未満では、γ−アミノプロピルシラン化合物の生成速度
が小さいため反応時間を長くせねばならず、一方反応温
度が２００℃を超えると、目的とするγ−アミノプロピ
ルシラン化合物への選択率の低下を引き起こす。
触媒として用いるルテニウム錯体は、必要に応じて多量
に用いることもできるが、アリルアミン類１モル対して
、ルテニウム原子換算で１０−６〜１０−３モル程度存
在しておれば充分である。
に用いることもできるが、アリルアミン類１モル対して
、ルテニウム原子換算で１０−６〜１０−３モル程度存
在しておれば充分である。
反応は、溶媒の存在下に行なってもよく、また非存在下
に行なってもよい。溶媒を用いる場合には、トルエン、
キシレン、ヘプタン、ドデカン、などの炭化水素類ある
いはテトラヒドロフラン、１．４−ジオキサンなどのエ
ーテル類が好ましく用いられる。これらの溶媒は必要に
応じて単独あるいは混合して用いてもよい。
に行なってもよい。溶媒を用いる場合には、トルエン、
キシレン、ヘプタン、ドデカン、などの炭化水素類ある
いはテトラヒドロフラン、１．４−ジオキサンなどのエ
ーテル類が好ましく用いられる。これらの溶媒は必要に
応じて単独あるいは混合して用いてもよい。
また反応を行なうに際して、ルテニウム触媒に配位して
いる中性の配位子と同じ配位子または異なる配位子を反
応系へ過剰に加えてもよい。たとえば過剰のトリフェニ
ルホスフィンを存在させると若干、γ一体／β一体比向
上する傾向が見られる。
いる中性の配位子と同じ配位子または異なる配位子を反
応系へ過剰に加えてもよい。たとえば過剰のトリフェニ
ルホスフィンを存在させると若干、γ一体／β一体比向
上する傾向が見られる。
反応時間は、反応条件、特に反応温度によって太き（変
化するが、通常３〜５時間程度で充分である。
化するが、通常３〜５時間程度で充分である。
アリルアミン類とヒドロシラン類との反応を、触媒とし
て少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテ
ニウム化合物を用いて行なうと、γ−アミノプロピルシ
ラン化合物が、高い選択率で得られ、β一体はほとんど
生成せず、非常に高いγ一体／β一体比でγ−体が得ら
れる。しかもアリルアミン類とヒドロシラン類との反応
が迅速に進行し、過剰のホスフィン配位子を存在させる
ことなく６０％以上にも達する高い収率でγ−アミノプ
ロピルシラン化合物が得られ、しかも１００以上のγ一
体／β一体比が得られる。
て少なくとも１つの第３級ホスフィン配位子をもつルテ
ニウム化合物を用いて行なうと、γ−アミノプロピルシ
ラン化合物が、高い選択率で得られ、β一体はほとんど
生成せず、非常に高いγ一体／β一体比でγ−体が得ら
れる。しかもアリルアミン類とヒドロシラン類との反応
が迅速に進行し、過剰のホスフィン配位子を存在させる
ことなく６０％以上にも達する高い収率でγ−アミノプ
ロピルシラン化合物が得られ、しかも１００以上のγ一
体／β一体比が得られる。
これに対して、アリルアミン類とヒドロシラン類との反
応を、塩化白金酸触媒を用いて行なうと、γ一体の収率
は４０〜５０％程度であり、しかもγ一体／β一体の比
は４程度にしか達しない。またアリルアミン類とヒドロ
シラン類との反応を、ロジウムヒドリドカルボニルトリ
ス（トリフェニルホスフィン）錯体のみを用いて行なう
と、６０程度のγ一体／β一体比でγ−体が得られるが
、反応速度が遅いため、たとえば、ヒドロシラン類に対
して０．１モル％のロジウム錯体を使用した場合、反応
に６時間以上もの長時間を必要としてしまう。
応を、塩化白金酸触媒を用いて行なうと、γ一体の収率
は４０〜５０％程度であり、しかもγ一体／β一体の比
は４程度にしか達しない。またアリルアミン類とヒドロ
シラン類との反応を、ロジウムヒドリドカルボニルトリ
ス（トリフェニルホスフィン）錯体のみを用いて行なう
と、６０程度のγ一体／β一体比でγ−体が得られるが
、反応速度が遅いため、たとえば、ヒドロシラン類に対
して０．１モル％のロジウム錯体を使用した場合、反応
に６時間以上もの長時間を必要としてしまう。
発明の効果
本発明に係るアミノプロピルシラン化合物の製造方法で
は、アリルアミン類とヒドロシラン類とを反応させるに
際して、触媒として少なくとも１つの第３級ホスフィン
配位子をもつルテニウム化合物を用いているので、γ−
アミノプロピルシラン化合物を高選択率、高収率かつ短
時間で得ることができる。
は、アリルアミン類とヒドロシラン類とを反応させるに
際して、触媒として少なくとも１つの第３級ホスフィン
配位子をもつルテニウム化合物を用いているので、γ−
アミノプロピルシラン化合物を高選択率、高収率かつ短
時間で得ることができる。
以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
実施例１
還流冷却管、撹拌棒、温度計および滴下ロートを備えた
４つロフラスコに、トリエトキシシラン４１ｇ （０，
２５モル）、溶媒として用いるパラキシレン２０ｍ１お
よび、トリエトキシシランに対して０．１モル％に相当
する量のトリカルボニルビス（トリフェニルホスフィン
）ルテニウム触媒を加え、得られた混合物を１１０℃の
恒温油槽で加熱した。混合物がほぼ一定温度になった後
、アリルアミン１４ｇ （０，２５モル）を約１時間か
けて滴下し、さらに３時間、加熱操作を行なった。
４つロフラスコに、トリエトキシシラン４１ｇ （０，
２５モル）、溶媒として用いるパラキシレン２０ｍ１お
よび、トリエトキシシランに対して０．１モル％に相当
する量のトリカルボニルビス（トリフェニルホスフィン
）ルテニウム触媒を加え、得られた混合物を１１０℃の
恒温油槽で加熱した。混合物がほぼ一定温度になった後
、アリルアミン１４ｇ （０，２５モル）を約１時間か
けて滴下し、さらに３時間、加熱操作を行なった。
反応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーにより分析した結果、゛γ−アミノプロピルトリエ
トキシシランの収率が６２％であり、またβ−アミノプ
ロピルトリエトキシシランが０．５２％の収率で生成し
ていた（いずれもトリエトキシシラン基準）。
ィーにより分析した結果、゛γ−アミノプロピルトリエ
トキシシランの収率が６２％であり、またβ−アミノプ
ロピルトリエトキシシランが０．５２％の収率で生成し
ていた（いずれもトリエトキシシラン基準）。
実施例２
トリエトキシシランの代わりにトリメトキシシラン３０
．６ｇ （０，２５モル）を使用し、溶媒としてトルエ
ンを用いた以外は、実施例１と同様の条件下で反応を行
ない、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーに
より分析した。
．６ｇ （０，２５モル）を使用し、溶媒としてトルエ
ンを用いた以外は、実施例１と同様の条件下で反応を行
ない、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーに
より分析した。
この結果、γ−アミノプロピルトリメトキシシランの収
率は７０％であり、β−アミノプロピルトリメトキシシ
ランの収率は０．７０％であった（いずれもトリメトキ
シシラン基準）。
率は７０％であり、β−アミノプロピルトリメトキシシ
ランの収率は０．７０％であった（いずれもトリメトキ
シシラン基準）。
実施例３
アリルアミンの代わりにアリルエチレンジアミン２５．
０ｇ （０，２５モル）を使用し、溶媒としてｎ−デカ
ンを用い、１５０℃の恒温油槽で加熱した以外は、実施
例１と同様にして反応を行なった。
０ｇ （０，２５モル）を使用し、溶媒としてｎ−デカ
ンを用い、１５０℃の恒温油槽で加熱した以外は、実施
例１と同様にして反応を行なった。
反応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーにより分析したところ、Ｎ−（２−アミノエチル）
３−アミノプロピルトリエトキシシラン（γ一体）の収
率は６０％であった。（いずれもアリルエチレンジアミ
ン基準）。
ィーにより分析したところ、Ｎ−（２−アミノエチル）
３−アミノプロピルトリエトキシシラン（γ一体）の収
率は６０％であった。（いずれもアリルエチレンジアミ
ン基準）。
実施例４
触媒を、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ル
テニウムに変更し、またアリルアミンの代わりにＮ、Ｎ
−ジメチルアリルアミンを用いた以外は、実施例１と同
様の条件下で反応を行なった。
テニウムに変更し、またアリルアミンの代わりにＮ、Ｎ
−ジメチルアリルアミンを用いた以外は、実施例１と同
様の条件下で反応を行なった。
反応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーにより分析したところ、Ｎ、Ｎ−ジメチル−γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（γ一体）の収率は８
１％であり、Ｎ、Ｎ−ジメチル−１−メチル−β−アミ
ノエチルトリエトキシシラン（β一体）の収率は０１７
％であった（いずれもトリエトキシシラン基準）。
ィーにより分析したところ、Ｎ、Ｎ−ジメチル−γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（γ一体）の収率は８
１％であり、Ｎ、Ｎ−ジメチル−１−メチル−β−アミ
ノエチルトリエトキシシラン（β一体）の収率は０１７
％であった（いずれもトリエトキシシラン基準）。
実施例５
トリエトキシシランを、１．１．３．３−テトラメチル
ジシロキサンに変更し、アリルアミンを実施例１の２倍
量用いた以外は、実施例１と同様の条件下で１時間、反
応を行なった。
ジシロキサンに変更し、アリルアミンを実施例１の２倍
量用いた以外は、実施例１と同様の条件下で１時間、反
応を行なった。
反応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーにより分析したところ、１，３−ビス（γ−アミノ
プロピル）テトラメチルジシロキサンの収率は６５％（
１，］］１，３，３−テトラメチルジシロキサン基準で
あった。
ィーにより分析したところ、１，３−ビス（γ−アミノ
プロピル）テトラメチルジシロキサンの収率は６５％（
１，］］１，３，３−テトラメチルジシロキサン基準で
あった。
比較例１
触媒をトリルテニウムドデカカルボニルに変更した以外
は、実施例１と同様の条件下で反応を行った。反応終了
後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーによ
り分析を行なった結果、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランの収率は９％（アリルアミン基準）であった。
は、実施例１と同様の条件下で反応を行った。反応終了
後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィーによ
り分析を行なった結果、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランの収率は９％（アリルアミン基準）であった。
手続補正書
平成元年１０月 ５日
１、事件の表示
平成１年 特
許 願 第１３８．１８１号
２、発明の名称
アミノプロピルシラン化合物の製造方法３、補正をする
者 事件との関係 名 称
者 事件との関係 名 称
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・［ I ］ ［式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は水素、炭素数１〜１０の
アルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、フェニル
基または置換フェニル基、−ＣＨ ＣＨ＿２ＮＨＣＨ＿２ＣＨ＿２ＮＨ＿２、または−ＣＨ
＿２ＣＨ＿２ＮＨ＿２であり、Ｒ＾３は水素または炭素
数１〜６のアルキル基である。］で示されるアリルアミ
ン類とヒドロシラン類とを、少なくとも１つの第３級ホ
スフィン配位子をもつルテニウム化合物触媒の存在下に
反応させることを特徴とするアミノプロピルシラン化合
物の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1138181A JP2606924B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | アミノプロピルシラン化合物の製造方法 |
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| EP19890309370 EP0403706A3 (en) | 1989-05-31 | 1989-09-14 | Process for preparing amino-propyl silanes |
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|---|---|---|---|
| JP1138181A JP2606924B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | アミノプロピルシラン化合物の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035489A true JPH035489A (ja) | 1991-01-11 |
| JP2606924B2 JP2606924B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=15215948
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP1138181A Expired - Fee Related JP2606924B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | アミノプロピルシラン化合物の製造方法 |
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| DE102015225879A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
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| DE102016215259A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Mono- und Oligo-(alkoxysilylalkyl)aminen enthaltenden Zusammensetzungen |
| DE102016215257A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Mono- und Bis(organosilyl)amine enthaltende Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
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- 1989-05-31 JP JP1138181A patent/JP2606924B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-11 US US07/404,964 patent/US4927953A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-14 EP EP19890309370 patent/EP0403706A3/en not_active Withdrawn
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Also Published As
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|---|---|
| EP0403706A3 (en) | 1991-04-10 |
| JP2606924B2 (ja) | 1997-05-07 |
| US4927953A (en) | 1990-05-22 |
| EP0403706A2 (en) | 1990-12-27 |
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