JPH0355878A - 電気制御素子およびその応用装置 - Google Patents

電気制御素子およびその応用装置

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JPH0355878A
JPH0355878A JP1192961A JP19296189A JPH0355878A JP H0355878 A JPH0355878 A JP H0355878A JP 1192961 A JP1192961 A JP 1192961A JP 19296189 A JP19296189 A JP 19296189A JP H0355878 A JPH0355878 A JP H0355878A
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Japan
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conjugated polymer
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polymer semiconductor
dopant
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Yoshio Kishimoto
岸本 良雄
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明《よ 半導体装置 メモリー装置に用いられる電
子共役性高分子半導体層を有する新規な電気制御素子と
その応用装置に関する。
従来の技術 導電性高分子はポリアセチレン、ポリピローノkポリチ
オフェン、ポリアニリン、ポリアセンなどの大きく広が
った共役π電子系をもつ高分子よりなり、、電子供与体
(金属イオンなど)または電子受容体(ルイス蛛 プロ
トン酸などのア二オン)をドーパントとして含有して高
導電性を示すことが広く知られていも 発明が解決しようとする課題 ドーパントは高分子マトリクス中を電場により拡散し導
電率を変化させてしまうという大きな欠点を有していt
も 本発明はこの欠点を逆に利用した新規な電気制御素子お
よびその応用装置を提供することを目的とすも 課題を解決するための手段 本発明(よ 一対の電極間に電子共役性高分子半導体層
と易動性ドーパント保持層とを重ねて形成レ 前記一対
の電極間に前記電子共役性高分子半導体層に沿って絶縁
層を介して少なくとも一個の制御電極を設{ナ、前記易
動性ドーパント保持層のドーパント分布を前記制御電極
によって制御し前記電子共役性高分子半導体層の導電率
を制御してなる電気制御素子により、目的を達或した作
用 本発明(よ 易動性ドーパント保持層のドーパント分布
を制御電極によって制御し 電子共役性高分子半導体層
の導電率を制御するものであもそれ故 一対の電極(F
ETのソ一入 ドレインに相当)間の電流を大きく増幅
してスイッチすることができも 電子共役性高分子半導体層と易動性ドーパント保持層と
の間のドーパント透過性分離層はドーパントの分布を精
密に制御して一対の電極間のスイッチング電流制御特性
を安定化させるものであa実施例 第l図に本発明の電気制御素子の一実施例を説明する断
面概念図を示も 一対の電極1、 2間に電子共役性高分子半導体層3と
易動性ドーパント保持層4とを重ねて形成レ 前記一対
の電極間に前記電子共役性高分子半導体層3に沿って絶
縁層6を介して少なくとも一個の制御電極5を設{ナ、
前記易動性ドーパント保持層4のドーパント分布を前記
制御電極5によって制御し 前記電子共役性高分子半導
体層3の導電率を制御してなる電気制御素子であもまた
この電気制御素子の構成は第3図に示したように 電子
共役性高分子半導体層3と易動性ドーパント保持層4と
の間にドーパント透過性分離層8を形成してもよし1 
この場合ドーパント透過性分離層8を設けることにより
、制御特性の安定性が向上すも 電子共役性高分子半導体層3の材料としてGet..ポ
リアセチレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリp
−フェニレンおよびこれらの共重合体 誘導体などが用
いられも この電子共役性高分子は化学重合、または電解重合(陽
極酸化重合、陰極還元重合)によって合戒されも 陽極酸化重合ζよ 電子共役性モノマーの溶液中にドー
パントを溶解させ、少なくとも一対の電極による電場に
より、前記電子共役性モノマーを陽極上に電解重合する
もので、前記ドーパントが分散されてなる導電性高分子
が得られも 易動性ドーパント保持層4と(よ ドーパントが易動す
るように構或された層で、主に電子供与体(金属イオン
など)または電子受容体(ルイス魚プロトン酸などのア
ニオン)よりなるドーパントを親イオン性高分子中に溶
解した層よりなもまた ドーパント透過性分離層8には
イオン易透過性の多孔質膜などがもちいられも 本発明の電気制御素子は3端子だけでなく、第2@ 第
3図のように4端子素子としても構或できも この場合には制御特性がより精度よく、かつ双安定にな
ん 本発明のこれらの電気制御素子は複数個用いると半導体
集積回路プロセスと同様の手法によって集積回路素子を
構或できも また この電気制御素子は双安定素子であるた△ 記憶
素子としても利用でき、記憶装置を構戒できる。
また ドーパントの時間的易動性を設計すれ(渋時間や
電流量の関与したスイッチング素子即ち可塑性素子とし
ても利用でき、生体機能素子の一つともなん 次に実施例を用いて本発明を説明すも 実施例1 制御電極を兼ねたシリコンウエハ7上に第3図のように
SI02よりなる絶縁層6・−1を設けその上に一対の
電極l、 2とそれを挟んご電子共役性高分子半導体層
3とを設けた その電子共役性高分子半導体層3上番ヘ
  ドーバン1・透過性分離層8、易動性ドーパント保
持層4とを重ねて形成j一 さらに絶縁層6を介して制
御電極5を設けf.,,こうして得た電気制御素子を動
作させたとこム双安定の顕著なスイッチング特性を示し
怠実施例2 基板上に易動性ドーパント保持層4および電子共役性高
分子半導体層3を重ねて形成し その上に一対の電極1
、 2と絶縁層6とを第1図のように形成し丸 さらに
その上に一個の制御電極5を設け電気制御素子としtも この素子を動作させたとこム 第4図のようなスイッチ
ング特性および、第5図に示すようなソースドレイン電
流の時間特性が得られf,発明の効果 このように本発明(ヨ一対の電極間に電子共役性高分子
半導体層と易動性ドーパント保持層と制御電極とよりな
る電気制御素子を提供するもので、導電性高分子物性の
特徴を大いに生かした電気デバイスであも 本発明の素子は数多くの導電性高分子に共通する電界に
よるドーバ/トの易動性を利用I7たものでデバイスと
して大きな価値を有するものである。
本発明は4端子素子としても構或でき、この場合には制
御特性がより精度よく、かつ双安定になん 本発明のこれらの電気制御素子は複数個用いると半導体
集積回路プロセスと同様の手法によって集積回路素子に
も構或できも また この電気制御素子は双安定素子であるた幽 記憶
素子としても利用でき、記憶装置を構或できるものであ
も また ドーパントの時間的易勅性を設計すれ{L時間や
電流量の関与したスイッチング素子即ち可塑性素子とし
ても利用でき、生体機能素子の一つともなるものであも このように 本発明は工業的価値の犬なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は それぞれ本発明における電気制御素
子の構或の一例を示す断面概念は 第4図は本発明の実
施例2における電気制御素子のスイッチング特性を示す
は 第5図は実施例2におけるソースドレイン電流の時
間特性を示す図である。 1、2・・・一対の電楓 3・・・電子共役性高分子半
導体# 4・・・易動性ドーパント保持# 5・・・制
御電極 6.6−1・・・絶縁凰7・・・半導体基板よ
りなる制御電販 8・ドーパント透過性分離層

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一対の電極間に電子共役性高分子半導体層と易動
    性ドーパント保持層とを重ねて形成し、前記一対の電極
    間に前記電子共役性高分子半導体層に沿って絶縁層を介
    して少なくとも一個の制御電極を設け、前記易動性ドー
    パント保持層のドーパント分布を前記制御電極によって
    制御し、前記電子共役性高分子半導体層の導電率を制御
    してなる電気制御素子。
  2. (2)電子共役性高分子半導体層と易動性ドーパント保
    持層との間にドーパント透過性分離層が形成されてなる
    請求項1に記載の電気制御素子。
  3. (3)電子共役性高分子半導体層が、ポリアセチレン、
    ポリチオフェン、ポリピロール、ポリp−フェニレンお
    よびこれらの共重合体、誘導体より選ばれた少なくとも
    1種である請求項1に記載の電気制御素子。
  4. (4)一対の電極間に電子共役性高分子半導体層と易動
    性ドーパント保持層とを重ねて形成し、前記一対の電極
    間に前記電子共役性高分子半導体層に沿って絶縁層を介
    して少なくとも一個の制御電極を設け、前記易動性ドー
    パント保持層のドーパント分布を前記制御電極によって
    制御し、前記電子共役性高分子半導体層の導電率を制御
    してなる複数個の電気制御素子よりなる集積回路。
  5. (5)一対の電極間に電子共役性高分子半導体層と易動
    性ドーパント保持層とを重ねて形成し、前記一対の電極
    間に前記電子共役性高分子半導体層に沿って絶縁層を介
    して少なくとも一個の制御電極を設け、前記易動性ドー
    パント保持層のドーパント分布を前記制御電極によって
    制御し、前記電子共役性高分子半導体層の導電率を制御
    してなる電気制御素子を利用してなる記憶装置。
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DE69018348T DE69018348T2 (de) 1989-07-25 1990-07-24 Speicherbauelement aus organischem Halbleiter mit einer MISFET-Struktur und sein Kontrollverfahren.
US07/836,556 US5153681A (en) 1989-07-25 1992-02-18 Electrcally plastic device and its control method

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JPH03238873A (ja) * 1990-02-15 1991-10-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd ニューラルネットワーク用電気可塑性素子およびその制御方法
US5315131A (en) * 1990-11-22 1994-05-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electrically reprogrammable nonvolatile memory device

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