JPH0356465A - ５Ｈ‐ジベンズ（ｂ；ｆ）アゼピンの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、通常、イミノスチルベンと呼ばれている式 で示される５Ｈ−ジベンズ（ｂ；ｆ）アゼピンの製造方
法に関する． 式（１）で示される化合物は、いくつかの薬剤の中間体
である．例えば、抗てんかん作用を発揮するカルバマゼ
ピンの中間体である． （従来の技術） 触媒脱水素化の段階において，イミノジベンジルをイミ
ノスチルベンに変換する方法が、いくつか知られている
． 米国特許第３，０７４，９３１号及び同第３，４４９，
３２４号明細書，西ドイツ国特許公告公報第１，５４５
，７３６号、並びに特願昭５５−１７，３３０号（特開
昭５６−１１３９２８号公報）によれば，金属または酸
化金属の触媒の共存下で，３５０〜６００℃におけるガ
ス相中にて脱水素化を行ない，それにより，出発材料の
部分転化を行なう方法が開示されている． ヨーロッパ特許公開公報第２３７，９５２号には、液相
中で、イミノジベンジルの触媒脱水素化を行ない，イミ
ノスチルベンにする方法が記載されている．触媒として
新規な金属または酸化金属を、溶媒としてジフェニルエ
ーテル，ジメチルアニリンを用い、また水素受容体とし
てニトロトルエン，マレイン酸ジエチル、テトラクロロ
ベンゾキノンを用いている．前記公報によれば、反応は
，２１０〜２５０℃にて、３〜５時間で完了するように
なっている． 前記ヨーロッパ特許公開公報に記載の実施例を再現して
みたところ，上で述べた条件の下では，転化は、せいぜ
い６０〜６５％にすぎず、仮りに、反応時間を長くして
も、その転化率を上げることは無理である． 本願発明者の経験によれば、反応時間が２時間を超える
と、分解が生じ，収率を大幅に低下させるとともに、生
成物の品質に悪い影響を与える．転化率がこのように低
いと、分離される生成物は，収率が低くなるばかりでな
く、品質まで悪くなる．長い反応時間の間に分離が生じ
たり、水素受容体の量が多過ぎたり，また溶媒の選択の
余地がないために，触媒は、その力を失い，再生利用で
きない． そのため、前記ヨーロッパ特許公開公報に記載の方法は
，イミノスチルベンを工業的規模で経済的に生産するの
に向いていない． （発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、上で述べた問題点を克服したイミノス
チルベンの製造方法を提供することである． （課題を解決するための手段） 本発明によれば、上で述べた目的を達成するため、式 で示される１０．１１−ジヒドロー５Ｈ−ジベンズ（ｂ
ａｆ）アゼビン（通常、イミノジベンジルと称せられる
．）を，新規の金属触媒，および水素受容体の共存下で
触媒脱水素化し、式 で示される５Ｈ−ジベンズ（ｂ：ｆ）アゼビンを製造す
る方法が提供される． 反応は，３００℃を超えない温度にて、高沸度の極性プ
ロトン性溶媒と，この極性プロトン性溶媒よりも高い沸
点を有する選択使用の無極性溶媒との混合物中で，溶融
状態か、あるいは液体状態で行なわれる．その際、式（
■）で示される化合物に対して算出された０．３５〜２
モル当量の水素受容体を用いる． 本発明は、転化率を上げ、生或物の収率及び純度をよく
シ，反応時間を短くし、触媒の減力化を抑え，しかも経
済的にできる方法を提供するという認識に基づいている
． 驚くべきことに，我々は，次のようなことを見出した． 生成物の分解は、昇温によるというよりも、むしろ存在
する水素受容体の量によって影響を受ける．また、分解
は、水素受容体の量が減少しても，３００℃を超えない
温度にて溶融状態か或いは特別の液相で反応させれば起
きない． 溶融状態で溶媒を用いずに反応を行なわせるか，特に高
沸点の溶媒中で反応を行なわせれば，水素受容体の量を
，相当に少なくすることができるので，触媒の減力化は
抑えられ、転化率は相当に向上し、反応時間が著しく短
縮される．従って、生成物を，よい収率と優れた品質で
分離することができる． 本発明による触媒脱水素反応は、次のような条件で行な
われる． （ａ）　３００℃を超えない温度にて、新規の金属触媒
と．　０．３５〜２モル当量の水素受容体との共存下で
， （ｂ）溶媒を用いずに溶融状態で行なうか、（ｃ）高沸
点の極性プロトン性溶媒（例えば、エチレングリコール
、オリゴグリコール、ポリエチレングリコール，または
それらの誘導体）を，極性プロトン性溶媒よりも高い沸
点を有する選択使用の無極性溶媒（例えば．ジフイル、
または多塩素化ベンゼン）で希釈したものを用い、液相
中にて行なう． 高沸点の極性プロトン性溶媒は、触媒脱水素反応に対し
て有利な２つの作用を有している．溶媒は、触媒の表面
に生じる反応物（イミノジベンジル、イミノスチルベン
、水素受容体、およびそれらの還元生成物）の吸着／脱
離に有利に作用する．ヨーロッパ特許公開公報第２３７
，９５２号に記載の方法と比べ，前記溶媒は、イミノス
チルベン及び水素受容体の脱離を容易にさせるので、水
素受容体の量は、式（ＩＩ）で示される化合物に対して
算出された０．３５〜２モル当量に減らすことができ、
従って、触媒の減力化が抑えられるために，反応速度及
び転化率は増大する． 更に，少量の水素受容体及び溶媒（場合により，この溶
媒は省くことができる．）を用いて、反応を行なわせる
ことができるため，反応混合物中での出発材料の濃度を
一層高くすることができる．反応は、１〜２時間以内で
完結し、生成物の分離は無視することができ，かつ，収
率よくしかも高純度の状態で、生或物を分離することが
できる．極性プロトン性溶媒を、少ない量の水素受容体
と一緒に用いれば，触媒の減力化が抑制され、触媒を数
回再生利用することができるようになる．極性プロトン
性溶媒の使用による別の利点は、反応終了後、水を加え
ることにより、反応混合物から全部の生或物を回収でき
る点である，極性プロトン性溶媒を．この溶媒よりも高
い沸点を有する無極性溶媒によって希釈すれば、反応時
間を更に短縮することができる． 本発明による方法の第１の好適実施例によれば、イミノ
ジベンジル融成物を，新規の金属触媒（担体に選択的に
担持させたパラジウムまたは白金）、および０．３５〜
２モル当量の水素受容体（高沸点の二トロ化合物または
不飽和化合物）の存在の下に、１５０〜３００℃、好ま
しくは２００〜２５０℃の温度にて、１〜２時間反応さ
せる． 反応が終結した時点で、高温の反応混合物を、極性有機
溶媒（例えばアセトン、クロロホルム、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド、アルコール）中に溶解
する．触媒を濾別し、生或物が難溶である溶媒（例えば
低級アルコール、炭化水素、水）を加えて，生成物を晶
出させる．本発明による方法の第２の好適実施例によれ
ば、イミノジベンジルを、新規の金属触媒（担体に選択
的に担持させたパラジウムまたは白金）、および０．３
５〜２モル当量の水素受容体（高沸点のニトロ化合物ま
たは不飽和化合物）の存在の下に、高沸点の極性プロト
ン性溶媒（例えばエチレングリコール、オリゴグリコー
ル、ポリエチレングリコール、およびそれらの誘導体）
中で．１８０〜３００℃，好ましくは２００〜２８０℃
の温度にて、１〜２時間反応させる． 反応終了後，触媒を濾別し、次に水、または生成物が難
溶である有機溶媒を用い、濾液から生或物を沈澱させる
。溶媒を蒸発させ、更に前述の方法に従って処理を行な
う。

本発明による方法の第３の好適実施例によれば、イミノ
ジベンジルを、前述の実施例に相当する条件の下で、高
沸点の極性プロトン性溶媒と、この溶媒よりも高い沸点
を有する無極性溶媒（例えばジフィル、多塩素化ベンゼ
ン）との混合物中で反応させる。上で述べた要領により
、生成物を分離する． （実施例） 以下、本発明による方法を、好適実施例に基づき詳細に
説明する．ただし、これらの実施例は，本発明を制約す
るものではない． 失見園よ イミノジベンジル６０　ｇ　（０．３０８モル）、２−
ニトロトノレエン３０ｍ１２（０．２５４モノレ）、お
よび１０％パラジウムー炭触媒３．６ｇを、１００℃以
上に加熱する．その混合物を撹拌し続ける．生或した融
或物を、還流させながら、２００〜２２０℃の温度にて
、１〜２時間煮沸する。

次に，融或物を、４００−のジエチレングリコールに溶
解する。その高温溶液から、触媒を濾・別し、溶液にメ
タノール２５０−を加える．その溶液を、０〜５℃の範
囲で一晩放置する。沈澱生成物を濾別し，少量のメタノ
ールで洗浄してから、乾燥させる。

収率：　４６．５ｇ　（７１．３％） 融点：１９４〜１９６℃ 去１０４４ イミノジベンジル６ｇ（０．０３モル）、２−ニトロト
ルエン３　ｍｇ（０．０２５モル），および白金黒触媒
０．２ｇを，２００〜２２０℃の温度にて，１〜２時間
煮沸する．融成物を冷却し、温アセトンｌ００一中に溶
解する。

触媒を濾別し、その濾液を濃縮する。冷却後，沈澱生成
物を濾別してから、乾燥させる。

収率：　５．０５　ｇ　（８５％） 融点：１９０〜１９２℃ 失Ｌ銖主 イミノジベンジル３０ｇ（０．１５４モル）、ジエチレ
ングリコール２００＋ａｆｉ、および２−ニトロトルエ
ン２０ｇ　（０．１４６モル）からなる混合物に対し、
１０％のパラジウムー炭触媒１．８ｇを加えてから、反
応混合物を、２２０〜２４０℃の温度で１．５時間還流
する．高温溶液から、触媒を濾別し、濾液を冷却してか
ら、水２００−を加えると、イミノスチルベンが沈澱す
る。生成物を濾別し、水で洗浄してから乾燥させる． 収率：　２８．１　ｇ　（９４．６％）融点：１９４〜
１９６℃ 失産量生 イミノジベンジル３０　ｇ　（０．　１５４モル）、ト
リエチレングリコール１５０ＷａＱ．および１，３−ジ
ニトロベンゼン１０　ｇ　（０．０６モル）からなる混
合物に対し、１０％のパラジウムー炭触媒１．９　ｇを
加えてから，反応混合物を、２４０〜２７０℃の温度に
て，１時間撹拌する．高温溶液から、触媒を濾別し、濾
液にメタノール１００ｍＱを加える。その溶液を冷却す
る。結晶化イミノスチルベンを濾別し、３０一のメタノ
ールで洗浄してから，乾燥させる。

収率：　２６．３　ｇ　（８８．６％）融点：１９８〜
１９９．５℃ 去１奥生艷 イミノジベンジル１２　ｇ　（０．０６モル）及びニト
ロベンゼン７．４　．　（０．０６モル）を．　ｉｏ％
のパラジウムー炭触媒０．７５ｇの存在の下に，ジフィ
ル３０ｍＭ及びジエチレングリコール３０−からなる混
合液中で、６０分間還流する．高温溶液から、触媒を濾
別し、高温濾液にメタノール６０−を加える． 沈澱生成物を濾別し、２０ｍｊｌのメタノールで洗浄し
てから乾燥させる。

収率：　９．９４　ｇ　（８５．０％）融点：１９６〜
１９８℃ 叉凰舊旦 イミノジベンジル１９．５　ｇ　（０．１モル）、１０
％パラジウムー炭触媒１ｇ、およびペンジリデンアセト
ン２１．９　ｇ　（０．１５モル）を、ジエチレングリ
コール５〇一及びジフィル５０ｍＱからなる混合液中で
，還流させながら２時間撹拌する。高温の反応混合物か
ら、触媒を濾別し、濾液に対して、メタノール１００ｍ
Ｑを加えてから、それを冷却する． 沈澱生成物を濾過し、メタノールで洗浄を行なってから
乾燥させる。

収率：　１４．５１　ｇ　（７５．２％）融点＝１９６
〜１９８℃。

Ｌｉｔ［Ｌｉχｎ ＠発 明 者 ラースロー テレベシ ノ＼ン： ユ ウツ゛ リ−国　４４４０ ウツツア がり一国　４４４０ ツア　６／ベー テイサヴアシュヴアーリ ４９ テイサヴアシュヴアーリ ドージャ キニジ 手続補正書坊式） 平或２年８月２４

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で示される１０，１１−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンズ（ｂ
   ；ｆ）アゼピンを、金属触媒及び水素受容体の共存下で
   脱水素化し、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される５Ｈ−ジベンズ（ｂ；ｆ）アゼピンを製造す
   る方法であって、 高沸点の極性プロトン性溶媒と、この極性プロトン性溶
   媒よりも高い沸点を有する選択使用の無極性溶媒との混
   合物中で、３００℃を超えない温度にて、溶融状態か、
   あるいは液体状態で反応を行ない、その際、式（II）で
   示される化合物に対して算出された０．３５〜２モル当
   量の水素受容体を用いることを特徴とする５Ｈ−ジベン
   ズ（ｂ；ｆ）アゼピンの製造方法。
2. （２）水素受容体として、高沸点のニトロ化合物、また
   は高沸点の不飽和化合物を用いる請求項（１）記載の製
   造方法。
3. （３）極性プロトン性溶媒として、エチレングリコール
   、オリゴグリコール、ポリエチレングリコール、または
   それらの誘導体を、また無極性溶媒として、ジフィルま
   たは多塩素化ベンゼンを用いる請求項（１）記載の製造
   方法。
4. （４）溶媒を加えてから、触媒を濾別し、次に、水、ま
   たは生成物が難溶である有機溶媒を加えて、生成物を晶
   出させる請求項（１）記載の製造方法。
5. （５）脱水素反応に使用される金属触媒を再生利用する
   請求項（１）記載の製造方法。