JPH035676B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH035676B2 JPH035676B2 JP57070176A JP7017682A JPH035676B2 JP H035676 B2 JPH035676 B2 JP H035676B2 JP 57070176 A JP57070176 A JP 57070176A JP 7017682 A JP7017682 A JP 7017682A JP H035676 B2 JPH035676 B2 JP H035676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive
- gold
- conductive layer
- high frequency
- ultra
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
- H05K3/4053—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
- H05K3/4061—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in inorganic insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
- H10W70/095—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers of vias therein
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/611—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers for connecting multiple chips together
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/62—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their interconnections
- H10W70/63—Vias, e.g. via plugs
- H10W70/635—Through-vias
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0237—High frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/035—Paste overlayer, i.e. conductive paste or solder paste over conductive layer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0388—Other aspects of conductors
- H05K2201/0391—Using different types of conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/07—Electric details
- H05K2201/0707—Shielding
- H05K2201/0715—Shielding provided by an outer layer of PCB
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09818—Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809
- H05K2201/09981—Metallised walls
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1572—Processing both sides of a PCB by the same process; Providing a similar arrangement of components on both sides; Making interlayer connections from two sides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing of the conductive pattern
- H05K3/245—Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques
- H05K3/247—Finish coating of conductors by using conductive pastes, inks or powders
- H05K3/248—Finish coating of conductors by using conductive pastes, inks or powders fired compositions for inorganic substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/901—Printed circuit
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Waveguide Connection Structure (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Contacts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、互いに反対の側に第1表面と第2表
面とを有する絶縁板を有し、かつこの絶縁板を貫
通する孔で、前記両表面間に延長されている側壁
で画成される孔を有し、さらに前記第1表面上に
導電接続トラツクが設けてあり、前記第2表面上
には該導電接続トラツクの材料に対しては金属学
的に不安定な界面(インタフエイス)を形成する
材料の導電層が設けてある超高周波回路に関する
ものである。
面とを有する絶縁板を有し、かつこの絶縁板を貫
通する孔で、前記両表面間に延長されている側壁
で画成される孔を有し、さらに前記第1表面上に
導電接続トラツクが設けてあり、前記第2表面上
には該導電接続トラツクの材料に対しては金属学
的に不安定な界面(インタフエイス)を形成する
材料の導電層が設けてある超高周波回路に関する
ものである。
従来技術
従来の“ハイブリツド”技術において回路の導
電接続トラツクと、孔の金属化、および基体の接
地表面の導電層の金属化は一般にシルクスクリー
ンプリント技術による金の被着によつて行つてき
た。このような製造工程は極めて面倒なものであ
る。もし回路に抵抗を設ける必要があるときは、
かかる抵抗も同じくシルクスクリーンプリント技
術で設けるを要した。他の回路部品は回路上に
“ハイブリツド技術”により装着する。
電接続トラツクと、孔の金属化、および基体の接
地表面の導電層の金属化は一般にシルクスクリー
ンプリント技術による金の被着によつて行つてき
た。このような製造工程は極めて面倒なものであ
る。もし回路に抵抗を設ける必要があるときは、
かかる抵抗も同じくシルクスクリーンプリント技
術で設けるを要した。他の回路部品は回路上に
“ハイブリツド技術”により装着する。
発明の開示
本発明の目的は、上述の技術によつて製造した
超高周波回路において、接地表面上の導電層の金
を銀を基本とする合金に置換えることにより一層
経済的な方法でこれを製造しようとするにある。
しかしながら接地表面の導電層と回路表面の導電
接続トラツクとを接続しようとする場合、銀が金
内に拡散することにより上述の2つの金属間の界
面接続が金属学的に見て不安定となることに困難
があつた。
超高周波回路において、接地表面上の導電層の金
を銀を基本とする合金に置換えることにより一層
経済的な方法でこれを製造しようとするにある。
しかしながら接地表面の導電層と回路表面の導電
接続トラツクとを接続しようとする場合、銀が金
内に拡散することにより上述の2つの金属間の界
面接続が金属学的に見て不安定となることに困難
があつた。
このような難点を解決するため、本発明による
超高周波回路は銀を基体とする合金を被着するこ
とにより接地表面の導電層を形成し、この接地表
面への接続回路は絶縁板内の各孔に金属化した被
着部を設け、これを前記導電接続トラツクの金と
接地表面の銀を基体とする合金の導電層両方に対
し良好に接触するものとすることを特徴とする。
超高周波回路は銀を基体とする合金を被着するこ
とにより接地表面の導電層を形成し、この接地表
面への接続回路は絶縁板内の各孔に金属化した被
着部を設け、これを前記導電接続トラツクの金と
接地表面の銀を基体とする合金の導電層両方に対
し良好に接触するものとすることを特徴とする。
前記接地表面の導電層を銀パラジウムの合金で
構成し、この導電層への接続回路を金−プラチナ
合金で形成するときは、金−プラチナ合金が金内
に対する拡散の障壁となるので、完成された装置
は金属学的に見て極めて安定なものとなる。
構成し、この導電層への接続回路を金−プラチナ
合金で形成するときは、金−プラチナ合金が金内
に対する拡散の障壁となるので、完成された装置
は金属学的に見て極めて安定なものとなる。
実施例
以下図面により本発明を説明する。
第1a,1b図ないし第4図は本発明による超
高周波回路の順次の製造工程を示す。
高周波回路の順次の製造工程を示す。
第1a図および第1b図は酸化アルミニウム板
3に設けた孔4の箇所を示す断面図および平面図
である。
3に設けた孔4の箇所を示す断面図および平面図
である。
この孔4の金による金属化部分5は、酸化アル
ミニウム板3の第1面1よりシルクスクリーン印
刷による被着工程により孔4と同心をなす周辺部
6より始め、孔4内に金の被着を行い、次でこれ
を乾燥させ焼成して形成する。
ミニウム板3の第1面1よりシルクスクリーン印
刷による被着工程により孔4と同心をなす周辺部
6より始め、孔4内に金の被着を行い、次でこれ
を乾燥させ焼成して形成する。
第2図に示すこれに続く工程においては、前回
の金による金属化部分5の上に重疊させて孔4に
金−プラチナによる金属化部分を設け、導電層7
を形成する。これは板3の反対側の第2面2上よ
りシルクスクリーンプリント技術により、孔4と
同心の周辺部8より被着を開始して行い、金−プ
ラチナの堆積による最適の金属化部分の導電層7
を形成し、次でこれを乾燥させ、かつ焼成する。
の金による金属化部分5の上に重疊させて孔4に
金−プラチナによる金属化部分を設け、導電層7
を形成する。これは板3の反対側の第2面2上よ
りシルクスクリーンプリント技術により、孔4と
同心の周辺部8より被着を開始して行い、金−プ
ラチナの堆積による最適の金属化部分の導電層7
を形成し、次でこれを乾燥させ、かつ焼成する。
次で第3図に示すように、酸化アルミニウム板
3の面2の全面にわたり銀−パラジウムのシルク
スクリーンプリントにより導電層9の被着を行
う。この被着工程においては、各孔4のレベルで
見て金−プラチナ導電層7の孔4の外側に少し突
出している金属化の部分を僅かに被覆する程度に
これを行う。銀−パラジウムの導電層9の被着
後、これを乾燥させ焼成する。
3の面2の全面にわたり銀−パラジウムのシルク
スクリーンプリントにより導電層9の被着を行
う。この被着工程においては、各孔4のレベルで
見て金−プラチナ導電層7の孔4の外側に少し突
出している金属化の部分を僅かに被覆する程度に
これを行う。銀−パラジウムの導電層9の被着
後、これを乾燥させ焼成する。
第4図は製造の最終工程において、酸化アルミ
ニウム板3の面1に金をシルクスクリーン印刷技
術により被着させ、導電接続トラツク10を形成
して装置を製造する工程を示す。孔4のレベルに
おいて前記導電接続トラツク10は孔4の外側に
まで突出している金による金属化部分5の部分を
完全に覆うようにし、また孔4の内側の金−プラ
チナによる導電層7を部分的に覆う如くにする。
必要に応じ回路の抵抗11をシルクスクリーン印
刷技術により被着し、この回路は他の装着素子を
取付けうるように完成する。導電接続トラツクの
金の被着部分および抵抗ペーストの部分は、同じ
く被着後乾燥させ焼成する。
ニウム板3の面1に金をシルクスクリーン印刷技
術により被着させ、導電接続トラツク10を形成
して装置を製造する工程を示す。孔4のレベルに
おいて前記導電接続トラツク10は孔4の外側に
まで突出している金による金属化部分5の部分を
完全に覆うようにし、また孔4の内側の金−プラ
チナによる導電層7を部分的に覆う如くにする。
必要に応じ回路の抵抗11をシルクスクリーン印
刷技術により被着し、この回路は他の装着素子を
取付けうるように完成する。導電接続トラツクの
金の被着部分および抵抗ペーストの部分は、同じ
く被着後乾燥させ焼成する。
第1a図、第1b図、第2図、第3図および第
4図は本発明による超高周波回路を製造する順次
の工程を示す図であり、第1b図のみが平面図
で、他は全て断面図である。 1……第1表面、2……第2表面、3……板
(絶縁基板)、4……孔、5……金による金属化部
分、7……金プラチナによる導電層、9……銀パ
ラジウムの導電層、10……金の導電接続トラツ
ク。
4図は本発明による超高周波回路を製造する順次
の工程を示す図であり、第1b図のみが平面図
で、他は全て断面図である。 1……第1表面、2……第2表面、3……板
(絶縁基板)、4……孔、5……金による金属化部
分、7……金プラチナによる導電層、9……銀パ
ラジウムの導電層、10……金の導電接続トラツ
ク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 互いに反対の側に第1表面と第2表面とを有
する絶縁板を有し、かつこの絶縁板を貫通する孔
で、前記両表面間に延長されている側壁で画成さ
れる孔を有し、さらに前記第1表面上に導電接続
トラツクが設けてあり、前記第2表面上には該導
電接続トラツクの材料に対しては金属学的に不安
定な界面を形成する材料の導電層が設けてある超
高周波回路において、 前記側壁上の被着部が前記導電接続トラツクと
導電層とに接触する接続層を含んでなり、この接
続層は、導電接続トラツクの金及び導電層の銀を
基体とする合金の双方に対して金属学的に安定な
界面を形成する導電性の合金により主として構成
されていることを特徴とする超高周波回路。 2 導電層が銀パラジウム合金よりなり、接続層
が主として金−プラチナよりなる特許請求の範囲
第1項記載の超高周波回路。 3 前記側壁の第1表面側に金による金属化部分
5を設け、側壁上の被着部の接続層7はこの金属
化部分に導電接続を形成する如くしたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の
超高周波回路。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8108548A FR2505094A1 (fr) | 1981-04-29 | 1981-04-29 | Procede de realisation des circuits hyperfrequences |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57186395A JPS57186395A (en) | 1982-11-16 |
| JPH035676B2 true JPH035676B2 (ja) | 1991-01-28 |
Family
ID=9257905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57070176A Granted JPS57186395A (en) | 1981-04-29 | 1982-04-26 | Ultrahigh frequency circuit |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4563543A (ja) |
| EP (1) | EP0063843B1 (ja) |
| JP (1) | JPS57186395A (ja) |
| CA (1) | CA1184317A (ja) |
| DE (1) | DE3265756D1 (ja) |
| FR (1) | FR2505094A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2156593B (en) * | 1984-03-28 | 1987-06-17 | Plessey Co Plc | Through hole interconnections |
| US5631447A (en) * | 1988-02-05 | 1997-05-20 | Raychem Limited | Uses of uniaxially electrically conductive articles |
| US5245751A (en) * | 1990-04-27 | 1993-09-21 | Circuit Components, Incorporated | Array connector |
| US5071359A (en) * | 1990-04-27 | 1991-12-10 | Rogers Corporation | Array connector |
| DE69233684D1 (de) * | 1991-02-22 | 2007-04-12 | Canon Kk | Elektrischer Verbindungskörper und Herstellungsverfahren dafür |
| US5227588A (en) * | 1991-03-25 | 1993-07-13 | Hughes Aircraft Company | Interconnection of opposite sides of a circuit board |
| WO1992017994A1 (fr) * | 1991-04-01 | 1992-10-15 | Filial Vsesojuznogo Nauchno-Issledovatelskogo Instituta Elektromekhaniki | Carte de circuits imprimes multicouche et procede de fabrication |
| JPH0567869A (ja) * | 1991-09-05 | 1993-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電装部品接合方法並びにモジユール及び多層基板 |
| US5307237A (en) * | 1992-08-31 | 1994-04-26 | Hewlett-Packard Company | Integrated circuit packaging with improved heat transfer and reduced signal degradation |
| US5565262A (en) * | 1995-01-27 | 1996-10-15 | David Sarnoff Research Center, Inc. | Electrical feedthroughs for ceramic circuit board support substrates |
| FR2735910B1 (fr) * | 1995-06-20 | 1997-07-18 | Thomson Csf | Systeme d'interconnexion et procede de realisation |
| FR2740935B1 (fr) * | 1995-11-03 | 1997-12-05 | Schlumberger Ind Sa | Procede de fabrication d'un ensemble de modules electroniques pour cartes a memoire electronique |
| US6103992A (en) * | 1996-11-08 | 2000-08-15 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Multiple frequency processing to minimize manufacturing variability of high aspect ratio micro through-vias |
| DE19910078A1 (de) * | 1999-03-08 | 2000-09-28 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Erhöung der Fertigungssicherheit von Lötverbindungen |
| JP3790433B2 (ja) * | 2001-02-28 | 2006-06-28 | 日本無線株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
| EP1814447A2 (de) * | 2004-11-23 | 2007-08-08 | Nessler Medizintechnik GmbH | Verfahren zur durchkontaktierung eines elektrisch isolierenden trigermaterials |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3374110A (en) * | 1964-05-27 | 1968-03-19 | Ibm | Conductive element, composition and method |
| US3799802A (en) * | 1966-06-28 | 1974-03-26 | F Schneble | Plated through hole printed circuit boards |
| US3981724A (en) * | 1974-11-06 | 1976-09-21 | Consolidated Refining Company, Inc. | Electrically conductive alloy |
| US4001146A (en) * | 1975-02-26 | 1977-01-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Novel silver compositions |
| US4131516A (en) * | 1977-07-21 | 1978-12-26 | International Business Machines Corporation | Method of making metal filled via holes in ceramic circuit boards |
| JPS5453267A (en) * | 1977-10-05 | 1979-04-26 | Hitachi Ltd | Method of manufacturing thick film multilayer wiring board |
| IT8048031A0 (it) * | 1979-04-09 | 1980-02-28 | Raytheon Co | Perfezionamento nei dispositivi a semiconduttore ad effetto di campo |
-
1981
- 1981-04-29 FR FR8108548A patent/FR2505094A1/fr active Granted
-
1982
- 1982-04-14 DE DE8282200455T patent/DE3265756D1/de not_active Expired
- 1982-04-14 EP EP82200455A patent/EP0063843B1/fr not_active Expired
- 1982-04-22 CA CA000401423A patent/CA1184317A/en not_active Expired
- 1982-04-26 JP JP57070176A patent/JPS57186395A/ja active Granted
-
1984
- 1984-02-02 US US06/576,173 patent/US4563543A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2505094B1 (ja) | 1984-10-19 |
| US4563543A (en) | 1986-01-07 |
| EP0063843A1 (fr) | 1982-11-03 |
| FR2505094A1 (fr) | 1982-11-05 |
| JPS57186395A (en) | 1982-11-16 |
| DE3265756D1 (en) | 1985-10-03 |
| CA1184317A (en) | 1985-03-19 |
| EP0063843B1 (fr) | 1985-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH035676B2 (ja) | ||
| US5084323A (en) | Ceramic multi-layer wiring substrate and process for preparation thereof | |
| JPH08316002A (ja) | 電子部品及び複合電子部品 | |
| JPH03101234A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JP2788656B2 (ja) | 集積回路用パッケージの製造方法 | |
| JP4671511B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
| JP2786921B2 (ja) | 可変抵抗器 | |
| JP2839262B2 (ja) | チップ抵抗器とその製造方法 | |
| JPH03101233A (ja) | 電極構造及びその製造方法 | |
| US4097685A (en) | Discrete crossover chips for individual conductor track crossovers in hybrid circuits and method for constructing same | |
| US4821015A (en) | Variable resistor | |
| JPH0789574B2 (ja) | ペレット取付基板の製造方法 | |
| JPS598373Y2 (ja) | プリント配線板 | |
| JPS641077B2 (ja) | ||
| JPH0727610Y2 (ja) | 可変抵抗器の電極構造 | |
| JP2000174423A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
| JPS6311744Y2 (ja) | ||
| JPH0824215B2 (ja) | 厚膜回路装置の製造方法 | |
| JPH02148796A (ja) | プリント基板 | |
| JPH02231735A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0744084B2 (ja) | 電子部品の電極構造 | |
| JPH0225276B2 (ja) | ||
| JPH11144903A (ja) | チップ電子部品 | |
| JPH11150205A (ja) | チップ型cr素子 | |
| JPH031834B2 (ja) |