JPH0356874A - バーンイン装置 - Google Patents
バーンイン装置Info
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- JPH0356874A JPH0356874A JP1193020A JP19302089A JPH0356874A JP H0356874 A JPH0356874 A JP H0356874A JP 1193020 A JP1193020 A JP 1193020A JP 19302089 A JP19302089 A JP 19302089A JP H0356874 A JPH0356874 A JP H0356874A
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- burn
- chip
- metal block
- lsi
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
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- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
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Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は集積回路のバーンイン装置に関し、特に高消費
電力のTAB方式LSIのバーンイン装置に間する. 〔従来の技術〕 従来、この種のバーンイン装置は、第4図の断面図に示
すように、TAB実装された集積回路を樹脂等で作られ
たバーンイン用ソケット10に入れ、ソケット固定用ね
じ11で固定し、そのソケットをスプリングビン6等を
介して複数個プリント基板5上に実装し、バーンイン用
の炉に入れ送風により炉内を一定の温度に制御するとに
より、LSIチップ2の温度を所望の値に設定する構造
となっていた.また、集積回路の消費電力が特に大きい
場合には、炉内を不活性な液体で充満し、液をかく拌す
ることによりチップ温度を制御していた. 〔発明が解決しようとする課題〕 上述した従来のTABLSI用バーンイン装置は、高消
費電力のLSIチップを送風あるいは液体により温度制
御しようとするものであるが、TABLSIにおいては
、LSIチップ2はTABリード3により支えられてい
るのみであり、チップ自身はむき出しとなっている。従
ってその放熱性(熱抵抗)は、ビングリッドアレイ(P
GA)パッケージと比較しても極端に悪い(熱抵抗値が
大きい)。
電力のTAB方式LSIのバーンイン装置に間する. 〔従来の技術〕 従来、この種のバーンイン装置は、第4図の断面図に示
すように、TAB実装された集積回路を樹脂等で作られ
たバーンイン用ソケット10に入れ、ソケット固定用ね
じ11で固定し、そのソケットをスプリングビン6等を
介して複数個プリント基板5上に実装し、バーンイン用
の炉に入れ送風により炉内を一定の温度に制御するとに
より、LSIチップ2の温度を所望の値に設定する構造
となっていた.また、集積回路の消費電力が特に大きい
場合には、炉内を不活性な液体で充満し、液をかく拌す
ることによりチップ温度を制御していた. 〔発明が解決しようとする課題〕 上述した従来のTABLSI用バーンイン装置は、高消
費電力のLSIチップを送風あるいは液体により温度制
御しようとするものであるが、TABLSIにおいては
、LSIチップ2はTABリード3により支えられてい
るのみであり、チップ自身はむき出しとなっている。従
ってその放熱性(熱抵抗)は、ビングリッドアレイ(P
GA)パッケージと比較しても極端に悪い(熱抵抗値が
大きい)。
例えば20Wを超えるようなLSIチップの場合、その
チップ温度を150℃前後に保とうとした場合、送風で
は以下に示すように技術的に不可能である。仮に送風時
の熱抵抗値を10″C/Wとすると、この時にチップ温
度は送風温度+20W×10゜C/Wとなり、チップ温
度を150゜Cとするには送風温度を−50℃程度まで
下げなければならない.また仮に−50゜Cの送風が可
能となったとしても、この場合チップの結露によりLS
I端子間にリーク電流が発生し正常なバーンインができ
ない。
チップ温度を150℃前後に保とうとした場合、送風で
は以下に示すように技術的に不可能である。仮に送風時
の熱抵抗値を10″C/Wとすると、この時にチップ温
度は送風温度+20W×10゜C/Wとなり、チップ温
度を150゜Cとするには送風温度を−50℃程度まで
下げなければならない.また仮に−50゜Cの送風が可
能となったとしても、この場合チップの結露によりLS
I端子間にリーク電流が発生し正常なバーンインができ
ない。
また熱抵抗値は液体の循環を行なえば減少するが、この
場合その値は液体の流速に大きく依存するため、炉内で
均一な流速を作る必要がある.しかし、このためには炉
の構造が非常に複雑となる。また液体を用いたバーンイ
ンを行なったとしても、その熱抵抗は使用する液体の粘
性を考慮するとせいぜい4゜C/W前後であり、ゲート
アレイLSIのようにその消費電力が品種により大きく
異なるものに関しては、その都度液体の温度を変更する
必要があるため、バーンイン炉の使用効率が極端に低下
する。また送風あるいは液体によるバーンイン、いずれ
の場合もその流速を大きくすると、TABのリード部に
かかる荷重が大きくなり、リードの変形を招くというよ
うな多くの欠点がある. 〔課題を解決するための手段〕 本発明のバーンイン装置は、TAB実装LSIのチップ
裏面に接触させる金属ブロックと、その金属ブロックの
周囲に貼り付けられたベルチェ素子からなるサーモモジ
ュールを有している。
場合その値は液体の流速に大きく依存するため、炉内で
均一な流速を作る必要がある.しかし、このためには炉
の構造が非常に複雑となる。また液体を用いたバーンイ
ンを行なったとしても、その熱抵抗は使用する液体の粘
性を考慮するとせいぜい4゜C/W前後であり、ゲート
アレイLSIのようにその消費電力が品種により大きく
異なるものに関しては、その都度液体の温度を変更する
必要があるため、バーンイン炉の使用効率が極端に低下
する。また送風あるいは液体によるバーンイン、いずれ
の場合もその流速を大きくすると、TABのリード部に
かかる荷重が大きくなり、リードの変形を招くというよ
うな多くの欠点がある. 〔課題を解決するための手段〕 本発明のバーンイン装置は、TAB実装LSIのチップ
裏面に接触させる金属ブロックと、その金属ブロックの
周囲に貼り付けられたベルチェ素子からなるサーモモジ
ュールを有している。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例の縦断面図である。lは
銅,鉄などの熱伝導性の良い金属プロックであり、その
中央部はTAB方式で組立てられたLSIチップ2の裏
面(素子形成面とは逆の面)と接触するように加工され
ている.3はTABテープのリードで、LSIパッドと
TABテープ上に設置された信号又は電源用パッドとを
接続している。5はプリント基板で、スプリングビン6
、TABテープ上に設置されたパッド及びTABテープ
のりード3を介してLSIチップ2へ電源を供給したり
、LSIの入力端子の状態を設定あるいは出力端子のバ
ーンイン時の負荷条件を決めるためのパターン配線及び
抵抗等の素子が配置されている。また金属ブロック1の
中央部には、LSIチップ2を吸着するための穴7が作
られている.4はTAB実装されたLSIを収納するた
めのサンプルキャリアである。
銅,鉄などの熱伝導性の良い金属プロックであり、その
中央部はTAB方式で組立てられたLSIチップ2の裏
面(素子形成面とは逆の面)と接触するように加工され
ている.3はTABテープのリードで、LSIパッドと
TABテープ上に設置された信号又は電源用パッドとを
接続している。5はプリント基板で、スプリングビン6
、TABテープ上に設置されたパッド及びTABテープ
のりード3を介してLSIチップ2へ電源を供給したり
、LSIの入力端子の状態を設定あるいは出力端子のバ
ーンイン時の負荷条件を決めるためのパターン配線及び
抵抗等の素子が配置されている。また金属ブロック1の
中央部には、LSIチップ2を吸着するための穴7が作
られている.4はTAB実装されたLSIを収納するた
めのサンプルキャリアである。
第2図は金属ブロック1の斜視図である.金属ブロック
1の周辺には、ベルチェ素子で構戒されるサーモモジュ
ール8が貼り付けられている。
1の周辺には、ベルチェ素子で構戒されるサーモモジュ
ール8が貼り付けられている。
9はそのサーモモジュールの電源供給用端子である.ま
た金属ブロック1のLSIチップ2との接触面は、充分
に低い熱抵抗を得るために鏡面仕上げがされている. このようなバーンイン装置の動作は次のようである。ま
ずプリント基板5にTABLSIサンプルをセットする
.その後金属ブロック1をLSIチップ2の裏面と接触
する直前まで下げ、中央に設置された吸着穴7を通して
LSIチップ2を吸着し、金属ブロック1をLSIチッ
プ2の裏面と密着させる.ここでサーモモジュール8に
電流を流し、金属ブロック1を所望の温度に設定する.
一定時間後、金属ブロック1が所定温度範囲内に到達し
た時点でプリント基板5を介してLSIチップ2へ電流
を供給し、バーンインがスタートする.実験によれば、
本方式により、0.8゜C/Wの熱抵抗が得られた。従
ってこの場合消費電力30WのLSIを、チップ温度1
50℃でバーンインするためには、金属ブロックの設定
温度は150”C−30WX0.8 (’C/W)=1
26℃とすればよい. 第3図は本発明の第2の実施例の縦断面図である。この
実施例では、金属ブロック1はTABLSI1つに対し
て1個の楕或ではなく、複数のTABLSIに対して一
体となった金属ブロック1を使用しているため、サーモ
モジュールの特性の差による金属ブロック1の温度差を
平均化できる.従って、複数のL S Iを少ない温度
差でバーンインすることが可能となるという利点がある
。
た金属ブロック1のLSIチップ2との接触面は、充分
に低い熱抵抗を得るために鏡面仕上げがされている. このようなバーンイン装置の動作は次のようである。ま
ずプリント基板5にTABLSIサンプルをセットする
.その後金属ブロック1をLSIチップ2の裏面と接触
する直前まで下げ、中央に設置された吸着穴7を通して
LSIチップ2を吸着し、金属ブロック1をLSIチッ
プ2の裏面と密着させる.ここでサーモモジュール8に
電流を流し、金属ブロック1を所望の温度に設定する.
一定時間後、金属ブロック1が所定温度範囲内に到達し
た時点でプリント基板5を介してLSIチップ2へ電流
を供給し、バーンインがスタートする.実験によれば、
本方式により、0.8゜C/Wの熱抵抗が得られた。従
ってこの場合消費電力30WのLSIを、チップ温度1
50℃でバーンインするためには、金属ブロックの設定
温度は150”C−30WX0.8 (’C/W)=1
26℃とすればよい. 第3図は本発明の第2の実施例の縦断面図である。この
実施例では、金属ブロック1はTABLSI1つに対し
て1個の楕或ではなく、複数のTABLSIに対して一
体となった金属ブロック1を使用しているため、サーモ
モジュールの特性の差による金属ブロック1の温度差を
平均化できる.従って、複数のL S Iを少ない温度
差でバーンインすることが可能となるという利点がある
。
以上説明したように本発明は、ペルチェ素子で構成され
たサーモモジェールを周囲に貼り付けた金属ブロックの
一部を、TAB実装LSIのチップ裏面に接触させ、そ
のサーモモジュールに印加する電流を制御しLSIのチ
ップ温度をコントロールすることにより、低熱抵抗のバ
ーンイン装置が実現できる。
たサーモモジェールを周囲に貼り付けた金属ブロックの
一部を、TAB実装LSIのチップ裏面に接触させ、そ
のサーモモジュールに印加する電流を制御しLSIのチ
ップ温度をコントロールすることにより、低熱抵抗のバ
ーンイン装置が実現できる。
その結果高消費電力のTABLSIのバーンインが可能
となり、さらに低熱抵抗のために、ゲートアレイのよう
に品種毎にその消費電力が異なる場合にも、所定のチッ
プ温度の範囲内ですべての品種のバーンインが可能とな
るため、バーンイン装置の使用効率が向上する。さらに
液体や風をLSIチップの周囲に流す場合と異なり、リ
ードに与える負荷もないためリード変形等が発生しない
、等の効果がある。
となり、さらに低熱抵抗のために、ゲートアレイのよう
に品種毎にその消費電力が異なる場合にも、所定のチッ
プ温度の範囲内ですべての品種のバーンインが可能とな
るため、バーンイン装置の使用効率が向上する。さらに
液体や風をLSIチップの周囲に流す場合と異なり、リ
ードに与える負荷もないためリード変形等が発生しない
、等の効果がある。
第1図は本発明の第1の実施例の縦断面図、第2図は第
1図の一部を示す斜視図、第3図は本発明の第2の実施
例の縦断面図、第4図は従来のバーンイン装置の断面図
である。 ■・・・金属ブロック、2・・・LSIチップ、3・・
・TABリード、4・・・TABサンプルキャリア、5
・・・プリント基板、6・・・スプリングピン、7・・
・LSIチップ吸着穴、8・・・サーモモジュール、9
・・・サーモモジュール電源供給端子、10・・・バー
ンイン用ソケット、11・・・ソケット固定用ねじ。
1図の一部を示す斜視図、第3図は本発明の第2の実施
例の縦断面図、第4図は従来のバーンイン装置の断面図
である。 ■・・・金属ブロック、2・・・LSIチップ、3・・
・TABリード、4・・・TABサンプルキャリア、5
・・・プリント基板、6・・・スプリングピン、7・・
・LSIチップ吸着穴、8・・・サーモモジュール、9
・・・サーモモジュール電源供給端子、10・・・バー
ンイン用ソケット、11・・・ソケット固定用ねじ。
Claims (2)
- (1)TAB方式を用いた集積回路のバーンイン装置に
おいて、前記装置へLSIチップを装着する際このチッ
プの裏面を接触させる金属ブロックを有し、この金属ブ
ロックには前記チップへのバイアス印加時にチップ温度
を制御するサーモモジュールが取り付けられていること
を特徴とするバーンイン装置。 - (2)金属ブロックにはLSIチップを吸着する吸着穴
が設けられている請求項(1)記載のバーンイン装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193020A JPH0356874A (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | バーンイン装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193020A JPH0356874A (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | バーンイン装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0356874A true JPH0356874A (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=16300841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1193020A Pending JPH0356874A (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | バーンイン装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0356874A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH052050A (ja) * | 1991-06-25 | 1993-01-08 | Nec Corp | 高電力半導体集積回路冷却試験治具 |
| JPH0685006A (ja) * | 1992-09-07 | 1994-03-25 | Nec Corp | インナーリードボンダ |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP1193020A patent/JPH0356874A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH052050A (ja) * | 1991-06-25 | 1993-01-08 | Nec Corp | 高電力半導体集積回路冷却試験治具 |
| JPH0685006A (ja) * | 1992-09-07 | 1994-03-25 | Nec Corp | インナーリードボンダ |
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