JPH0356961A - 照射重合性混合物およびそれを含む記録材料 - Google Patents
照射重合性混合物およびそれを含む記録材料Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、重合体結合剤、フリーラジカルにより重合可
能な化合物、および化学反応光線照射の作用により重合
性化合物の重合を開始させることができる化合物から成
る照射重合性混合物、およびこの照射感応性混合物を含
む記録材料に関する。
能な化合物、および化学反応光線照射の作用により重合
性化合物の重合を開始させることができる化合物から成
る照射重合性混合物、およびこの照射感応性混合物を含
む記録材料に関する。
印刷版製作用の光重合性混合物、感光性樹脂および他の
感光性材料は、フリーラジカルにより重合可能であり、
光反応開始剤の存在下で露光することにより重合し、架
橋した不溶背物質を与える化合物を含んでいる。この種
の化合物は、以前はほとんど、不飽和カルボン酸、特に
アクリル酸およびメタクリル酸と、必要に応じてウレタ
ンまたはエーテル基を含んでいても良い多価脂肪族また
は脂環式アルコールとのエステルだけであった。
感光性材料は、フリーラジカルにより重合可能であり、
光反応開始剤の存在下で露光することにより重合し、架
橋した不溶背物質を与える化合物を含んでいる。この種
の化合物は、以前はほとんど、不飽和カルボン酸、特に
アクリル酸およびメタクリル酸と、必要に応じてウレタ
ンまたはエーテル基を含んでいても良い多価脂肪族また
は脂環式アルコールとのエステルだけであった。
以前の文献、例えば米国特許第US−A2,892.7
16号には、重合性化合物として、芳香族または脂肪族
ジスルホン酸のジビニルエステルも記載されている。し
かし、これらの化合物は実用化されていない。
16号には、重合性化合物として、芳香族または脂肪族
ジスルホン酸のジビニルエステルも記載されている。し
かし、これらの化合物は実用化されていない。
以前好まれた多価アルコールの(メタ)アクリル酸エス
テルには、少なくとも幾つかの用途において、特定の欠
点がある。これらのエステルは、高温、例えば150℃
以上で不安定であり、低分子量成分の多くは揮発性が高
く、長期の貯蔵および高温における処理の際に、層中で
目立つように威る。その上、それらの好まれた成分の大
部分は水に不溶性なので、水溶性または親水性の結合剤
と組合わせるのが困難である。さらに、ほとんどの(メ
タ)アクリル酸エステルは皮膚刺激の問題を引き起こす
。
テルには、少なくとも幾つかの用途において、特定の欠
点がある。これらのエステルは、高温、例えば150℃
以上で不安定であり、低分子量成分の多くは揮発性が高
く、長期の貯蔵および高温における処理の際に、層中で
目立つように威る。その上、それらの好まれた成分の大
部分は水に不溶性なので、水溶性または親水性の結合剤
と組合わせるのが困難である。さらに、ほとんどの(メ
タ)アクリル酸エステルは皮膚刺激の問題を引き起こす
。
アルケニルスルホン酸およびアルケニルホスフィン酸と
、主として一価のアルコールとのエステルおよび他の誘
導体が公知であり、重合体、例えばポリビニルスルホン
酸およびその誘導体の調製用に大量に使用されている。
、主として一価のアルコールとのエステルおよび他の誘
導体が公知であり、重合体、例えばポリビニルスルホン
酸およびその誘導体の調製用に大量に使用されている。
これまで、上記の不飽和化合物は、重合体の調製を除い
て、直接、少量使用されているだけであるが、そこでは
アルケニル基の重合能力を使用せずに、事実上七ノマー
の酸としての特性だけを利用していた。このことは、恐
らく、公知のアルケニルスルホン酸またはそれらの誘導
体の重合傾向が比較的低いことから説明できるであろう
(西独特許第DE−81,106,963/1,135
,176号一米国特許第US−A3,297.663号
)。
て、直接、少量使用されているだけであるが、そこでは
アルケニル基の重合能力を使用せずに、事実上七ノマー
の酸としての特性だけを利用していた。このことは、恐
らく、公知のアルケニルスルホン酸またはそれらの誘導
体の重合傾向が比較的低いことから説明できるであろう
(西独特許第DE−81,106,963/1,135
,176号一米国特許第US−A3,297.663号
)。
それでも、以前の独国特許出願P3,817,424.
8号は、1,1.1−}リス(ヒドロキシメチル)アル
カンおよび2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1.3
−プロパンジオールの、アルケニルスルホン酸およびア
ルケニルスルフィン酸エステルをモノマーとして含む照
射硬化性混合物を記載している。
8号は、1,1.1−}リス(ヒドロキシメチル)アル
カンおよび2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1.3
−プロパンジオールの、アルケニルスルホン酸およびア
ルケニルスルフィン酸エステルをモノマーとして含む照
射硬化性混合物を記載している。
本発明の目的は、照射により活性化し得る重合開始剤、
特に光反応開始剤の存在下で、照射により重合能力が、
これまで工業的に使用されてきt;アクリル酸およびメ
タクリル酸エステルの重合能力と同じ位高く、水溶性で
、低揮発性で、皮膚刺激が少ない重合性化合物を含む、
照射重合性混合物を提供すること、である。
特に光反応開始剤の存在下で、照射により重合能力が、
これまで工業的に使用されてきt;アクリル酸およびメ
タクリル酸エステルの重合能力と同じ位高く、水溶性で
、低揮発性で、皮膚刺激が少ない重合性化合物を含む、
照射重合性混合物を提供すること、である。
本発明により、必須成分として、
(a)重合体結合剤、
(b)フリーラジカルにより重合し得る化合物、および
(c)化学反応光線照射の作用により化合物(b)の重
合を開始させることができる化合物または化合物の組合
わせ を含み、 フリーラジカルにより重合し得る化合物が一般式(I)
で表わされるアルケニルホスホン酸エステルおよび/ま
たはアルケニルホスフィン酸エステルであり、 R1およびRl’が、それぞれ独立して、水素または(
C,−C4) 一アルキルであり、R2がCC −
C > −アルキルであり、l4 nがOまたは1であり、 Aが直鎖または枝分れの(C2−C12) 一アルキ
レン、 または式(II)で表わされ、mが0または1である基 − (C H2) , −C}− (C H2) .(
n) または(m)で表わされ、R3およびR4が、それぞれ
独立して、(C1−C4) 一アルキルであり、 pが0または1である基 (III) または式(IV)で表わされ、Xが1〜12である基 一〇H CH (OCR CH ) −
(IV)2 2 2 2x または式(V)で表わされ、yが1〜12である基 −C }1 (QC3H6), (V)3
6 または式(VT)で表わされ、Bが直鎖または枝分れ(
C3−C12) 一アルキレンであり、Rlビ 2 R ,R およびnが上記の意味を持つ基である
照射重合性混合物を提供する。
合を開始させることができる化合物または化合物の組合
わせ を含み、 フリーラジカルにより重合し得る化合物が一般式(I)
で表わされるアルケニルホスホン酸エステルおよび/ま
たはアルケニルホスフィン酸エステルであり、 R1およびRl’が、それぞれ独立して、水素または(
C,−C4) 一アルキルであり、R2がCC −
C > −アルキルであり、l4 nがOまたは1であり、 Aが直鎖または枝分れの(C2−C12) 一アルキ
レン、 または式(II)で表わされ、mが0または1である基 − (C H2) , −C}− (C H2) .(
n) または(m)で表わされ、R3およびR4が、それぞれ
独立して、(C1−C4) 一アルキルであり、 pが0または1である基 (III) または式(IV)で表わされ、Xが1〜12である基 一〇H CH (OCR CH ) −
(IV)2 2 2 2x または式(V)で表わされ、yが1〜12である基 −C }1 (QC3H6), (V)3
6 または式(VT)で表わされ、Bが直鎖または枝分れ(
C3−C12) 一アルキレンであり、Rlビ 2 R ,R およびnが上記の意味を持つ基である
照射重合性混合物を提供する。
R1およびR1′は、好ましくは水素またはメチル、
特に水素であり、
R2は、好ましくはメチル、エチルまたはプロビル、特
にメチルまたはエチルである。
にメチルまたはエチルである。
アルキレン基AまたはBは、好ましくは3〜8個の炭素
原子を持つ。
原子を持つ。
3
式(III)の基の中で、R およびR4は、好ましく
はメチルおよびエチルである。
はメチルおよびエチルである。
式(IV)および(V)の基の中で、XおよびYは、好
ましくは1〜4である。
ましくは1〜4である。
Aは、好ましくは、mがOである式(n)の化合物、ま
たはXが1〜3、特にある式(IV)の化合物、または
yが1〜3、特に2である式(V)の化合物、またはB
が直鎖(C3−C6)一アルキレン、C 一またはC4
−アルキレンである式3 (Vl)の化合物である。
たはXが1〜3、特にある式(IV)の化合物、または
yが1〜3、特に2である式(V)の化合物、またはB
が直鎖(C3−C6)一アルキレン、C 一またはC4
−アルキレンである式3 (Vl)の化合物である。
Aは、゛特に好ましくは、1,3−プロピレン、1,4
−ブチレン、1,6−ヘキシレン、2,5ーヘキシレン
、2,2−ジメチル1.3−プロピレン、1.4−シク
ロヘキシレン、2−メチル−2,4−ベンチレンであり
、また、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルおよびジブロピレングリコールに由来する基を表わす
。
−ブチレン、1,6−ヘキシレン、2,5ーヘキシレン
、2,2−ジメチル1.3−プロピレン、1.4−シク
ロヘキシレン、2−メチル−2,4−ベンチレンであり
、また、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルおよびジブロピレングリコールに由来する基を表わす
。
その様な化合物およびそれらの調製方法は、独国特許出
願第P・・ ・・ ・・・・ (int. No. 5
51)に記載されている。その調製は、RI,R1′お
よびR2が上記の意味を持つ、一般式(■)のアルケニ
ルクロロホスホン酸エステル または一般式 (■) の塩化アルケニルホスフィニ ル と、AおよびBが上記の意味を持つ、 のアルコール HO−A−OH または一般式(X)のアルコール 一般式 (IX) (IX) υn との反応に基づいている。
願第P・・ ・・ ・・・・ (int. No. 5
51)に記載されている。その調製は、RI,R1′お
よびR2が上記の意味を持つ、一般式(■)のアルケニ
ルクロロホスホン酸エステル または一般式 (■) の塩化アルケニルホスフィニ ル と、AおよびBが上記の意味を持つ、 のアルコール HO−A−OH または一般式(X)のアルコール 一般式 (IX) (IX) υn との反応に基づいている。
反応中に放出される塩化水素を固定するために好ましく
は適当な第三アミンを酸捕集剤として使用する。
は適当な第三アミンを酸捕集剤として使用する。
適当な第三アミンの例としては、アルキル基1個当たり
1〜4個の炭素原子を持つトリアルキルアミン、例えば
トリエチルアミン、アルキル基中に1〜4個の炭素原子
を持つジアルキルアニリン、例えばN,N’ −ジメ
チルアニリンおよびビリジンがある。
1〜4個の炭素原子を持つトリアルキルアミン、例えば
トリエチルアミン、アルキル基中に1〜4個の炭素原子
を持つジアルキルアニリン、例えばN,N’ −ジメ
チルアニリンおよびビリジンがある。
好ましくは、反応は、有機リン化合物:酸捕集剤二一般
式(IX)のアルコールのモル比が2:2:1、または
有機リン化合物:酸捕集剤二一般式(X)のアルコール
のモル比が3:3:1で行なう。
式(IX)のアルコールのモル比が2:2:1、または
有機リン化合物:酸捕集剤二一般式(X)のアルコール
のモル比が3:3:1で行なう。
反応は、適当な不活性溶剤中で−10℃〜+40℃に冷
却しながら行なうのが好ましい。
却しながら行なうのが好ましい。
適当な不活性溶剤の例としては、塩化メチレンのような
ハロゲン化炭化水素類、トルエンのような芳香族炭化水
素類、テトラヒドロフランのようなエーテル類、あるい
はアセトニトリルのような脂肪族二トリル類がある。
ハロゲン化炭化水素類、トルエンのような芳香族炭化水
素類、テトラヒドロフランのようなエーテル類、あるい
はアセトニトリルのような脂肪族二トリル類がある。
上記の方法で生じた生成物は、場合により、蒸留、特に
高真空中で薄膜蒸発器を使用して精製することができる
。
高真空中で薄膜蒸発器を使用して精製することができる
。
一般式(IX)および(X)のアルコールは公知であり
、市販されている、または公知の方法で調製できる。一
般式(IX)の二価アルコールの例としては、1.3−
プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1.6−
ヘキサンジオール、2.5−ヘキサンジオール、2.2
−ジメチル−1.3−プロパンジオール、2−メチル−
2,4−ペンタンジオール、1.4−シクロヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルおよびジプロピレングリコールがある。
、市販されている、または公知の方法で調製できる。一
般式(IX)の二価アルコールの例としては、1.3−
プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1.6−
ヘキサンジオール、2.5−ヘキサンジオール、2.2
−ジメチル−1.3−プロパンジオール、2−メチル−
2,4−ペンタンジオール、1.4−シクロヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルおよびジプロピレングリコールがある。
一般式(X)の三価アルコールの例としては、グリセロ
ールおよび1,2.6−ヘキサントリオールがある。
ールおよび1,2.6−ヘキサントリオールがある。
一般式(■)および(■)の有機リン化合物は市販され
ているか、または通常の方法で得ることができる(例え
ば、ホウベンーワイル著、「有機化学の方法」、ゲオル
クティーメ出版社、シュツットガルト、12/1巻、1
963年、217頁以降、および338頁以降)。
ているか、または通常の方法で得ることができる(例え
ば、ホウベンーワイル著、「有機化学の方法」、ゲオル
クティーメ出版社、シュツットガルト、12/1巻、1
963年、217頁以降、および338頁以降)。
一般式(■)の好ましい化合物は、ビニルクロロホスホ
ン酸エチルであり、一般式(■)の好ましい化合物は、
塩化メチルビニルホスホニルである。
ン酸エチルであり、一般式(■)の好ましい化合物は、
塩化メチルビニルホスホニルである。
本発明に係わる、照射一重合性混合物に含まれる式(I
)の化合物の本質的な利点は、極性のみならず非極性溶
剤においても溶解性が非常に高いことである。そのため
、これらのモノマーは、トリアクリル酸トリメチロール
ブロバンまたはトリメタクリル酸トリメチロールプロパ
ンと対称的に、水と混合し得る。上記のモノマーは、非
揮発性で、ほとんど無色の物質である。また、このこと
から、光重合層から拡散または蒸発する傾向が著しく少
なくなる。その上、これらの化合物は、通常のアクリル
酸およびメタクリル酸のエステルよりも、熱安定性が非
常に高い。
)の化合物の本質的な利点は、極性のみならず非極性溶
剤においても溶解性が非常に高いことである。そのため
、これらのモノマーは、トリアクリル酸トリメチロール
ブロバンまたはトリメタクリル酸トリメチロールプロパ
ンと対称的に、水と混合し得る。上記のモノマーは、非
揮発性で、ほとんど無色の物質である。また、このこと
から、光重合層から拡散または蒸発する傾向が著しく少
なくなる。その上、これらの化合物は、通常のアクリル
酸およびメタクリル酸のエステルよりも、熱安定性が非
常に高い。
照射重合性層中にある一般式(I)のモノマーの相対量
は、その層の非揮発性或分に対して、般に約5〜80、
好ましくは8〜60重量%である。
は、その層の非揮発性或分に対して、般に約5〜80、
好ましくは8〜60重量%である。
本発明に係わる、照射一重合性混合物に含まれる結合剤
として、多くの溶解性有機重合体を使用できる。それら
の例としては、ボリアミド、ポリビニルエステル、ポリ
ビニルアセタール、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、アル
キル樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、イソプレ
ン/スチレンブロック共重合体および他のエラストマー
および上記の単独重合体を形或するモノマーの混合重合
体もある。
として、多くの溶解性有機重合体を使用できる。それら
の例としては、ボリアミド、ポリビニルエステル、ポリ
ビニルアセタール、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、アル
キル樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、イソプレ
ン/スチレンブロック共重合体および他のエラストマー
および上記の単独重合体を形或するモノマーの混合重合
体もある。
同様に、水には不溶性であるが、アルカリ水溶液には可
溶、または少なくとも膨潤性である結合剤も、これらの
種類の結合剤を含む層は水性アルカリ現像剤で現像でき
るので、使用可能である。
溶、または少なくとも膨潤性である結合剤も、これらの
種類の結合剤を含む層は水性アルカリ現像剤で現像でき
るので、使用可能である。
その様な結合剤は、例えば一COOH,PO3Hz,−
S02NH−;−So2NH− ;−So −NH−
So2−および 2 −So2−NH−Co一の基を含む。
S02NH−;−So2NH− ;−So −NH−
So2−および 2 −So2−NH−Co一の基を含む。
これらの化合物の例としては、マレイン酸エステル樹脂
、カルバミン酸β− (メタクリロイルオキシ)エチル
N−(p−トリルスルホニル)に重合体、およびこれら
および類似のモノマーと他の七ノマー、酢酸ビニル/ク
ロトン酸、スチレン/無水マレイン酸、メタクリル酸ア
ルキル/メタクリル酸、高級アルキルのメタクリル酸エ
ステルとメタクリル酸エチルおよび/またはスチレンま
たはアクリロニトリルとの混合重合体がある。
、カルバミン酸β− (メタクリロイルオキシ)エチル
N−(p−トリルスルホニル)に重合体、およびこれら
および類似のモノマーと他の七ノマー、酢酸ビニル/ク
ロトン酸、スチレン/無水マレイン酸、メタクリル酸ア
ルキル/メタクリル酸、高級アルキルのメタクリル酸エ
ステルとメタクリル酸エチルおよび/またはスチレンま
たはアクリロニトリルとの混合重合体がある。
本発明に係わる水溶性の重合性化合物は、水溶性結合剤
系の混合物と特に容易に組み合わせることができ、水溶
液から効果的に、環境上安全な塗膜を造ることができる
ので、これらの水溶性結合剤を原料とする混合物を使用
するのが特に有利である。これらの結合剤の例としては
、ポリビニルアルコール、部分的に加水分解したポリビ
ニルアセタールおよび酢酸ビニル混合重合体、ボリビニ
ルエーテル、ポリビニルビロリドン、ポリアクリルアミ
ド、ボリジメチルアクリルアミド、ポリエチレンオキシ
ド、ポリビニルメチルホルムアミド、ポリビニルメチル
アセトアミド、および水溶性天然重合体がある。
系の混合物と特に容易に組み合わせることができ、水溶
液から効果的に、環境上安全な塗膜を造ることができる
ので、これらの水溶性結合剤を原料とする混合物を使用
するのが特に有利である。これらの結合剤の例としては
、ポリビニルアルコール、部分的に加水分解したポリビ
ニルアセタールおよび酢酸ビニル混合重合体、ボリビニ
ルエーテル、ポリビニルビロリドン、ポリアクリルアミ
ド、ボリジメチルアクリルアミド、ポリエチレンオキシ
ド、ポリビニルメチルホルムアミド、ポリビニルメチル
アセトアミド、および水溶性天然重合体がある。
結合剤の量は、その層の非揮発性成分に対して、一般に
20〜95重量%、好ましくは40〜90ffi量%で
ある。
20〜95重量%、好ましくは40〜90ffi量%で
ある。
使用目的および必要とする特性に応じて、本発明に係わ
る照射重合性混合物は、添加剤として各種の物質、例え
ば重合防止剤、水素供与体、染料、着色または無色顔料
および可塑剤を含むことができる。
る照射重合性混合物は、添加剤として各種の物質、例え
ば重合防止剤、水素供与体、染料、着色または無色顔料
および可塑剤を含むことができる。
本説明文では、活性線照射(actlnic radj
a−tlon)とは、そのエネルギーが少なくとも可視
光線のエネルギーに匹敵するようなすべての照射を意味
する。適当な照射形態としては、とりわけ、可視光線、
長波および短波UV照射、レーザー照射、電子線および
X一線照射がある。
a−tlon)とは、そのエネルギーが少なくとも可視
光線のエネルギーに匹敵するようなすべての照射を意味
する。適当な照射形態としては、とりわけ、可視光線、
長波および短波UV照射、レーザー照射、電子線および
X一線照射がある。
本発明に関わる混合物には、光反応開始剤として多くの
物質を使用することができる。それらの例としては、ペ
ンゾフエノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンジル
、ペンジルモノケタールフルオレノン、チオキサントン
、多核キノン、アクリジンおよびキノキサリンの基本構
造に由来するもの、さらにトリクロロメチルーs−トリ
アジン、2−ハロゲノメチル基で置換したハロゲノオキ
サゾール、西独特許第DE−A3,333.450号に
よるトリハロゲノメチル基を含むカルボニルメチレン複
素環化合物、あるいは例えば西独特許第DE−A3,1
33,419号に記載するようなアシルホスフィンオキ
シド化合物がある。
物質を使用することができる。それらの例としては、ペ
ンゾフエノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンジル
、ペンジルモノケタールフルオレノン、チオキサントン
、多核キノン、アクリジンおよびキノキサリンの基本構
造に由来するもの、さらにトリクロロメチルーs−トリ
アジン、2−ハロゲノメチル基で置換したハロゲノオキ
サゾール、西独特許第DE−A3,333.450号に
よるトリハロゲノメチル基を含むカルボニルメチレン複
素環化合物、あるいは例えば西独特許第DE−A3,1
33,419号に記載するようなアシルホスフィンオキ
シド化合物がある。
開始剤は、混合物の不揮発成分に対して、一般に0.0
1〜10重量%、好ましくは0.05〜4重量%の量で
使用する。
1〜10重量%、好ましくは0.05〜4重量%の量で
使用する。
画像形成をX一線または電子線で行なう場合、可視光線
および近UV光線に感応する公知の光反応開始剤に加え
て、その吸収体が電磁スペクトルの短波域にあり、従っ
て日光にはあまり感度が高くない光反応開始剤が好まし
い。これには、記録材料を光りを遮らずに取り扱うこと
ができ、材料の貯蔵寿命を長くすることができる、とい
う利点がある。これらの開始剤の例としては、トリブロ
モメチルフエニルスルホン、2.2’.,4.4’6,
6′ 一へキサブ口モジフエニルアミン、ペンタブロモ
エタン、2.3,4.5−テトラク口ロアニリン、テト
ラブ口モベンタエリトリトール、クロロターフエニル樹
脂、または塩素化バラフィンがある。
および近UV光線に感応する公知の光反応開始剤に加え
て、その吸収体が電磁スペクトルの短波域にあり、従っ
て日光にはあまり感度が高くない光反応開始剤が好まし
い。これには、記録材料を光りを遮らずに取り扱うこと
ができ、材料の貯蔵寿命を長くすることができる、とい
う利点がある。これらの開始剤の例としては、トリブロ
モメチルフエニルスルホン、2.2’.,4.4’6,
6′ 一へキサブ口モジフエニルアミン、ペンタブロモ
エタン、2.3,4.5−テトラク口ロアニリン、テト
ラブ口モベンタエリトリトール、クロロターフエニル樹
脂、または塩素化バラフィンがある。
この光重合性混合物は、広範囲の用途、例えば光で硬化
させるワニスの調製、歯の充填または代替材料、および
特に複写分野における感光性記録材料に使用できる。本
発明の詳細な説明は、この用途についてのみ行なうが、
本発明はそれに限定するものではない。
させるワニスの調製、歯の充填または代替材料、および
特に複写分野における感光性記録材料に使用できる。本
発明の詳細な説明は、この用途についてのみ行なうが、
本発明はそれに限定するものではない。
複写分野において可能な用途としては、特に凸版印刷、
フレキソ印刷、平版印刷、グラビア印刷、スクリーン印
刷用の印刷版、レリーフ複写、例えばブライユ点字本の
作製、個別複写、染料画像、顔料画像、等の光学機械的
製作に使用する記録層がある。さらにこの混合物は、エ
ッチレジストの光学機械的製作、例えば名札、複写回路
の製作、および成形品のエッチングに使用できる。
フレキソ印刷、平版印刷、グラビア印刷、スクリーン印
刷用の印刷版、レリーフ複写、例えばブライユ点字本の
作製、個別複写、染料画像、顔料画像、等の光学機械的
製作に使用する記録層がある。さらにこの混合物は、エ
ッチレジストの光学機械的製作、例えば名札、複写回路
の製作、および成形品のエッチングに使用できる。
本発明に係わる混合物は、印刷版の光学機械的製作およ
び感光性樹脂技術用の複写層として特に重要である。
び感光性樹脂技術用の複写層として特に重要である。
上記の用途には、本発明に係わる混合物を溶液または分
散液の形で、例えば成形品のエッチング、複写回路の製
作、スクリーン印刷ステンシル等に適用する、例えば感
光性樹脂溶液として、商業的に使用することができる。
散液の形で、例えば成形品のエッチング、複写回路の製
作、スクリーン印刷ステンシル等に適用する、例えば感
光性樹脂溶液として、商業的に使用することができる。
また、本発明に係わる混合物は、例えば印刷版制作用の
安定性を与えるために、適当な基板上に一様な感光性の
層として予め塗布した、感光性複写材料の形で使用する
こともできる。同様に、ドライレジストの製造にも適用
している。
安定性を与えるために、適当な基板上に一様な感光性の
層として予め塗布した、感光性複写材料の形で使用する
こともできる。同様に、ドライレジストの製造にも適用
している。
従って、本発明により、上記の詳細な説明により、基板
上に塗布した照射重合性混合物を含む照射重合性記録材
料をも提供する。
上に塗布した照射重合性混合物を含む照射重合性記録材
料をも提供する。
一般に、本発明に係わる記録材料を、映像露光の際に、
空気中の酸素の影響から十分保護するのが有利である。
空気中の酸素の影響から十分保護するのが有利である。
非常に薄い記録材料の形で使用する場合は、照射に感応
する層を、酸素の透過性が低く、機械的に剥離できる、
または現像剤に溶解し得る適当な表面フィルムと共に塗
布するのが有利である。
する層を、酸素の透過性が低く、機械的に剥離できる、
または現像剤に溶解し得る適当な表面フィルムと共に塗
布するのが有利である。
本発明に係わる記録材料に適した基板としてはアルミニ
ウム、鋼、亜鉛、銅、および例えばポリエチレンテレフ
タレートまたは酢酸セルロース製のプラスチックシ一ト
があり、またパーロンガーゼのようなスクリーン印刷基
板もある。多くの場合、層の密着性を適切に調節するた
め、あるいは複写層の活性線に当たる区域における基板
の反対を少なくするために(ハレーション防止層)、基
板表面を(化学的または機械的に)前処理するのが有利
である。
ウム、鋼、亜鉛、銅、および例えばポリエチレンテレフ
タレートまたは酢酸セルロース製のプラスチックシ一ト
があり、またパーロンガーゼのようなスクリーン印刷基
板もある。多くの場合、層の密着性を適切に調節するた
め、あるいは複写層の活性線に当たる区域における基板
の反対を少なくするために(ハレーション防止層)、基
板表面を(化学的または機械的に)前処理するのが有利
である。
本発明に係わる混合物を使用する、照射一光重合性記録
材料は、公知の方法で製造する。即ち、この混合物を用
材中に入れ、その溶液または分散液を、意図する基板上
に、流し塗り、吹き付け、浸し塗り、ロール塗り、等に
より塗布し、乾燥させる。厚い,鳴(例えば250μm
以上)は、押出しまたはプレスにより自己支持型のシー
トに形成し、それを必要であれば、基板上に張りきせる
のが効果的である。ドライレジストの場合は、混合物の
溶液を透明な基板に塗布し、乾燥させる。厚さが10〜
100μmの感光層は、同様にまず一時的な支持体と共
に望ましい基板に張り合せる。
材料は、公知の方法で製造する。即ち、この混合物を用
材中に入れ、その溶液または分散液を、意図する基板上
に、流し塗り、吹き付け、浸し塗り、ロール塗り、等に
より塗布し、乾燥させる。厚い,鳴(例えば250μm
以上)は、押出しまたはプレスにより自己支持型のシー
トに形成し、それを必要であれば、基板上に張りきせる
のが効果的である。ドライレジストの場合は、混合物の
溶液を透明な基板に塗布し、乾燥させる。厚さが10〜
100μmの感光層は、同様にまず一時的な支持体と共
に望ましい基板に張り合せる。
この照射感応型一重合性記録材料は、公知の方法で処理
する。照射感応層の架橋を効果的に行なうには、照射後
に加熱すれば良い。次いで、適当な現像液、例えば有機
溶剤、弱アルカリ水溶液、または水だけでも効果的に処
理して現像することができ、層の非照射部分を除去し、
その後に基板上に複写層の露光した区域が残る。
する。照射感応層の架橋を効果的に行なうには、照射後
に加熱すれば良い。次いで、適当な現像液、例えば有機
溶剤、弱アルカリ水溶液、または水だけでも効果的に処
理して現像することができ、層の非照射部分を除去し、
その後に基板上に複写層の露光した区域が残る。
以下に、本発明に関する調製および処理の実施例を説明
する。これらの実施例では、他に指示が無い限り、百分
率と相対量は、重量で表わす。本発明に係わる照削重合
性混合物に含まれる式(I)のモノマーは、第1表に挙
げてある。
する。これらの実施例では、他に指示が無い限り、百分
率と相対量は、重量で表わす。本発明に係わる照削重合
性混合物に含まれる式(I)のモノマーは、第1表に挙
げてある。
調製実施例1
塩化メチルビニルスルホニルと1,4−ブタンジオール
との反応 36g (0.4モル)の1.4−ブタンジオールおよ
び81g(0.8モル)のトリエチルアミンを270m
lのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却しながら、9
9. 6g (0. 8モル)の塩化メチルビニル
スルホニルを20〜25℃で滴下した。次いで、20時
間撹伴し続けた後、形成されたトリエチルアミン塩酸塩
を吸引冫戸別した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、冫
戸液を真空中で蒸留によりトルエンから分離した。残留
物を0.093kPaおよび浴温190℃で薄膜蒸発器
を通して蒸留し、92g, 20, n o − 1 − 4 8 0 5の生成物を得た
。収量は理論値の87%であった。
との反応 36g (0.4モル)の1.4−ブタンジオールおよ
び81g(0.8モル)のトリエチルアミンを270m
lのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却しながら、9
9. 6g (0. 8モル)の塩化メチルビニル
スルホニルを20〜25℃で滴下した。次いで、20時
間撹伴し続けた後、形成されたトリエチルアミン塩酸塩
を吸引冫戸別した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、冫
戸液を真空中で蒸留によりトルエンから分離した。残留
物を0.093kPaおよび浴温190℃で薄膜蒸発器
を通して蒸留し、92g, 20, n o − 1 − 4 8 0 5の生成物を得た
。収量は理論値の87%であった。
C1oH2oO4P2 (266)
計算値: 45.11%C 7.52%H 23.
31%P実測値: 45.1 %C 7.4%H
22.9 %P調製実施例2 塩化メチルビニルスルホニルと1.6−ヘキサンジオー
ルとの反応 59. 1g (0.5モル)の1.6−ヘキサンジ
オールおよび101sr(Iモル)のトリエチルアミン
を200mlのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却し
ながら、124.5g (Iモル)の塩化メチルビニル
スルホニルを20℃で滴下した。
31%P実測値: 45.1 %C 7.4%H
22.9 %P調製実施例2 塩化メチルビニルスルホニルと1.6−ヘキサンジオー
ルとの反応 59. 1g (0.5モル)の1.6−ヘキサンジ
オールおよび101sr(Iモル)のトリエチルアミン
を200mlのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却し
ながら、124.5g (Iモル)の塩化メチルビニル
スルホニルを20℃で滴下した。
次いで、18時間撹伴し続けた後、形成されたトリエチ
ルアミン塩酸塩を吸引枦別した。この沈殿物をトルエン
で洗浄し、枦液を真空中で蒸留によりトルエンから分離
した。残留物を 0.067kPaおよび浴温205℃で薄膜蒸発器を通
して蒸留し、135g, nD2°二1.4819の生成物を得た。収量は理論値
の92%であった。
ルアミン塩酸塩を吸引枦別した。この沈殿物をトルエン
で洗浄し、枦液を真空中で蒸留によりトルエンから分離
した。残留物を 0.067kPaおよび浴温205℃で薄膜蒸発器を通
して蒸留し、135g, nD2°二1.4819の生成物を得た。収量は理論値
の92%であった。
C1。H2404P2 (294)
計算値: 48.98%C 8.16%H 21.
09%P実測値: 48.9 %C 8.3%H
21.0 %P調製実施例3 塩化メチルビニルスルホニルと2,5−ヘキサンジオー
ルとの反応 59.1g (0.5モル)の2,5−ヘキサンジオー
ルおよび101g(Iモル)のトリエチルアミンを20
0mlのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却しながら
、124.5g (Iモル)の塩化メチルビニルスルホ
ニルを20℃で滴下した。
09%P実測値: 48.9 %C 8.3%H
21.0 %P調製実施例3 塩化メチルビニルスルホニルと2,5−ヘキサンジオー
ルとの反応 59.1g (0.5モル)の2,5−ヘキサンジオー
ルおよび101g(Iモル)のトリエチルアミンを20
0mlのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却しながら
、124.5g (Iモル)の塩化メチルビニルスルホ
ニルを20℃で滴下した。
次いで、18時間撹伴し続けた後、形成されたトリエチ
ルアミン塩酸塩を吸引枦別した。この沈殿物をトルエン
で洗浄し、枦液を真空中で蒸留によりトルエンから分離
した。残留物を 0.2kPaおよび浴温200℃で薄膜蒸発器を通して
蒸留し、130gの粗製物を臀た。生成物の酸価は44
であった。収量は理論値の9296であった。
ルアミン塩酸塩を吸引枦別した。この沈殿物をトルエン
で洗浄し、枦液を真空中で蒸留によりトルエンから分離
した。残留物を 0.2kPaおよび浴温200℃で薄膜蒸発器を通して
蒸留し、130gの粗製物を臀た。生成物の酸価は44
であった。収量は理論値の9296であった。
C12H2404P2 (294)
調製実施例4
塩化メチルビニルスルホニルと2.2−ジメチル−1,
3−ブロバンジオールとの反応15.6g (0.15
モル)の2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール
および30.4g(0.3モル)のトリエチルアミンを
75mlのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却しなが
ら、37. 3’zr (0. 3モル)の塩化メ
チルビニルスルホニルを20〜25℃で滴下した。撹伴
を続け、形成されたトリエチルアミン塩酸塩を吸引枦別
した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、枦液を真空中で
蒸留によりトルエンから分離した。残留物は40gであ
った。生成物の酸価は49で粗製物であった。収量は理
論値の97%であった。
3−ブロバンジオールとの反応15.6g (0.15
モル)の2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール
および30.4g(0.3モル)のトリエチルアミンを
75mlのトルエンに加えた。強く撹伴し、冷却しなが
ら、37. 3’zr (0. 3モル)の塩化メ
チルビニルスルホニルを20〜25℃で滴下した。撹伴
を続け、形成されたトリエチルアミン塩酸塩を吸引枦別
した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、枦液を真空中で
蒸留によりトルエンから分離した。残留物は40gであ
った。生成物の酸価は49で粗製物であった。収量は理
論値の97%であった。
CllH1604P2 (274)
調製実施例5
塩化メチルビニルスルホニルと1.4−シクロヘキサン
ジオールとの反応 23. 2r (0. 4モル)の1.4−シクロヘキ
サンおよび40. 5g (0.’ 4モル)のトリ
エチルアミンを90mlのトルエンに加えた。強く撹伴
し、冷却しながら、49.8g (0.4モル)の塩化
メチルビニルスルホニルを20゜Cで滴下した。撹伴を
続け、形成されたトリエチルアミン塩酸塩を吸引炉別し
た。この沈殿物をトルエンで洗浄し、枦液を真空中で蒸
留によりトルエンから分離した。残留物は結晶化した。
ジオールとの反応 23. 2r (0. 4モル)の1.4−シクロヘキ
サンおよび40. 5g (0.’ 4モル)のトリ
エチルアミンを90mlのトルエンに加えた。強く撹伴
し、冷却しながら、49.8g (0.4モル)の塩化
メチルビニルスルホニルを20゜Cで滴下した。撹伴を
続け、形成されたトリエチルアミン塩酸塩を吸引炉別し
た。この沈殿物をトルエンで洗浄し、枦液を真空中で蒸
留によりトルエンから分離した。残留物は結晶化した。
生戊物は、エチルメチルケトン中で撹伴して回収した。
融点:80〜82℃。
Cl2H2204P2 (292)
計算値:49J2%C 7.53%H 21.23
%P実測値: 4g.52%C 8.02%H 2
1.0 %P調製実施例6 塩化メチルビニルスルホニルとトリエチレングリコール
との反応 37.6g (0.25モル)のトリエチレングリコー
ルおよび50. 6g (0. 5モル)のトリエ
チルアミンを100mlのトルエンに加えた。強く撹伴
し、冷却しながら、62. 25g (0. 5モ
ル)の塩化メチルビニルスルホニルを20℃で滴下した
。撹伴を続け、形成されたトリエチルアミン塩酸塩を吸
引冫戸別した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、枦液を
真空中で蒸留によりトルエンから分離した。残留物を0
.027kPaおよび浴温240〜245℃で薄膜蒸発
器を通して蒸留20. し、65gSn .1.4843の生或物を得D た。収量は理論値の80%であった。
%P実測値: 4g.52%C 8.02%H 2
1.0 %P調製実施例6 塩化メチルビニルスルホニルとトリエチレングリコール
との反応 37.6g (0.25モル)のトリエチレングリコー
ルおよび50. 6g (0. 5モル)のトリエ
チルアミンを100mlのトルエンに加えた。強く撹伴
し、冷却しながら、62. 25g (0. 5モ
ル)の塩化メチルビニルスルホニルを20℃で滴下した
。撹伴を続け、形成されたトリエチルアミン塩酸塩を吸
引冫戸別した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、枦液を
真空中で蒸留によりトルエンから分離した。残留物を0
.027kPaおよび浴温240〜245℃で薄膜蒸発
器を通して蒸留20. し、65gSn .1.4843の生或物を得D た。収量は理論値の80%であった。
C12H2406P2 (326)
計算値:44。17%C 7.36%H 19.0
2%P実測値: 44.4 %C 7.4%H 1
8.8 %P調製実施例7 塩化メチルビニルスルホニルとジプロピレングリコール
(異性体混合物)との反応 33.6g (0.25モル)のジプロピレングリコー
ル(異性体混合物)および50.6.(0.5モル)の
トリエチルアミンを100mlのトルエンに加えた。強
く撹伴し、冷却しながら、62.25g (0.5モル
)の塩化メチルビニルスルホニルを20℃で1.5時間
かけて滴下した。
2%P実測値: 44.4 %C 7.4%H 1
8.8 %P調製実施例7 塩化メチルビニルスルホニルとジプロピレングリコール
(異性体混合物)との反応 33.6g (0.25モル)のジプロピレングリコー
ル(異性体混合物)および50.6.(0.5モル)の
トリエチルアミンを100mlのトルエンに加えた。強
く撹伴し、冷却しながら、62.25g (0.5モル
)の塩化メチルビニルスルホニルを20℃で1.5時間
かけて滴下した。
撹伴を18時間続け、形或されたトリエチルアミン塩酸
塩を吸引枦別した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、i
戸液を真空中で蒸留によりトルエンから分離し、77.
5gの粗製物、 no 20: 1.4768を得た。0.27kPaお
よび浴温220℃で薄膜蒸発器を通して精製することが
できた。収量は理論値の100%であった。
塩を吸引枦別した。この沈殿物をトルエンで洗浄し、i
戸液を真空中で蒸留によりトルエンから分離し、77.
5gの粗製物、 no 20: 1.4768を得た。0.27kPaお
よび浴温220℃で薄膜蒸発器を通して精製することが
できた。収量は理論値の100%であった。
C12H2405P2 (310)
計算値: 48.45%C 7.74%H 20.
00%P実測値: 4G.4 %C 7,7%H
L9.8 %P調製実施例8 ビニルクロロリン酸エチルと1.6−ヘキサンジオール
との反応 28.6g (0.242モル)の1.6−ヘキサンジ
オールおよび49g (0.484モル)のトリエチル
アミンを100mlのトルエンに加えた。
00%P実測値: 4G.4 %C 7,7%H
L9.8 %P調製実施例8 ビニルクロロリン酸エチルと1.6−ヘキサンジオール
との反応 28.6g (0.242モル)の1.6−ヘキサンジ
オールおよび49g (0.484モル)のトリエチル
アミンを100mlのトルエンに加えた。
強く撹伴し、冷却しながら、74。9g(0.484モ
ル)のビニルクロロリン酸エチルを20℃で滴下した。
ル)のビニルクロロリン酸エチルを20℃で滴下した。
撹伴を20時間続け、形成されたトリエチルアミン塩酸
塩を吸引枦別した。
塩を吸引枦別した。
この沈殿物を氷冷アセトニトリルで洗浄し、?戸液を真
空中で蒸留によりアセトニトリルから分離し、43.5
gの残留物を再び焼結ガラスるつぼを通して吸引枦過し
、残留するトリエチルアミン塩酸塩を除去した。枦液は
酸価140の粗製物であった。
空中で蒸留によりアセトニトリルから分離し、43.5
gの残留物を再び焼結ガラスるつぼを通して吸引枦過し
、残留するトリエチルアミン塩酸塩を除去した。枦液は
酸価140の粗製物であった。
20.
no − 1. 4 8 0 2。
0.1.07kPaおよび浴温240℃で薄膜蒸発器を
通して蒸留することができた。
通して蒸留することができた。
012H230603 (356)
処理実施例1
20℃、4%濃度の水溶液における粘度が4mPas、
エステル価が150の、.内部可塑化したビニルアルコ
ール共重合体145.5gを、147gの水に90℃で
撹伴しながら溶解した。
エステル価が150の、.内部可塑化したビニルアルコ
ール共重合体145.5gを、147gの水に90℃で
撹伴しながら溶解した。
70℃に冷却した後、調製実施例1の化合物100g,
ペンジルメチルケタール5g1および2.6−ジーt−
ブチルー4−メチルフェノール1gを撹伴しながら加え
た。この均質な溶液を0.125mm厚のポリエチレン
テレフタレートのシートに、室温で48時間乾燥後、約
1間厚の無接着性感光層が形成されるように、層状に塗
布した。次いで、西独特許第DE−A 1,597,515号によるポリウレタンブライマーを
塗布した0.3關厚のアルミニウムシ一トを露出した層
表面上に載せ、この多層材料をプレスで100℃で2分
間圧縮した。このプライマーは、アジビン酸、グリセロ
ールおよびブチレングリコールから成る、5.2%の0
1{基を含む枝分れポリエステルを、4.4’ ,4’
一トリイソシアナートトリフェニルメタンと反゛応
させて得た。
ペンジルメチルケタール5g1および2.6−ジーt−
ブチルー4−メチルフェノール1gを撹伴しながら加え
た。この均質な溶液を0.125mm厚のポリエチレン
テレフタレートのシートに、室温で48時間乾燥後、約
1間厚の無接着性感光層が形成されるように、層状に塗
布した。次いで、西独特許第DE−A 1,597,515号によるポリウレタンブライマーを
塗布した0.3關厚のアルミニウムシ一トを露出した層
表面上に載せ、この多層材料をプレスで100℃で2分
間圧縮した。このプライマーは、アジビン酸、グリセロ
ールおよびブチレングリコールから成る、5.2%の0
1{基を含む枝分れポリエステルを、4.4’ ,4’
一トリイソシアナートトリフェニルメタンと反゛応
させて得た。
間隔を置いて配置した材料の厚さは、熱圧縮後に、0.
6mm厚の光重重合体層が得られるように調節した。
6mm厚の光重重合体層が得られるように調節した。
ポリエステルシ一トを剥離した後、市販のUVA平露光
装置を使用して、感光層に映像を20分間露光した(照
射波長域320〜4 0 0 nffl%強度10mV
/cd。非露光画像区域を温水で洗浄した後、鮮明なレ
リーフ構造およびショアA硬度75を有する凸版印刷版
が得られた。
装置を使用して、感光層に映像を20分間露光した(照
射波長域320〜4 0 0 nffl%強度10mV
/cd。非露光画像区域を温水で洗浄した後、鮮明なレ
リーフ構造およびショアA硬度75を有する凸版印刷版
が得られた。
処理実施例2
架橋性モノマーとして、調製実施例2の化合物100+
rを使用した以外は、処理実施例1と同様にして、感光
層の調製およびそれに続く処理を行ない、凸版印刷版を
作製した。鮮明なレリーフ構造およびショアA硬度79
を有する凸版印刷版が得られた。
rを使用した以外は、処理実施例1と同様にして、感光
層の調製およびそれに続く処理を行ない、凸版印刷版を
作製した。鮮明なレリーフ構造およびショアA硬度79
を有する凸版印刷版が得られた。
処理実施例3
架橋性モノマーとして、調製実施例6の化合物100g
を使用した以外は、処理実施例1と同様にして、感光層
の調製およびそれに続く処理を行ない、凸版印刷版を作
製した。鮮明なレリーフ構造およびショアA硬度98を
有する凸版印刷版が得られた。
を使用した以外は、処理実施例1と同様にして、感光層
の調製およびそれに続く処理を行ない、凸版印刷版を作
製した。鮮明なレリーフ構造およびショアA硬度98を
有する凸版印刷版が得られた。
処理実施例4
架橋性モノマーとして、調製実施例7の化合物100g
を使用し、露光時間を15分間にした以外は、処理実施
例1と同様にして、感光層の調製およびそれに続く処理
を行ない、凸版印刷版を作製した。鮮明なレリーフ構造
およびショアA硬度98を有する凸版印刷版が得られた
。
を使用し、露光時間を15分間にした以外は、処理実施
例1と同様にして、感光層の調製およびそれに続く処理
を行ない、凸版印刷版を作製した。鮮明なレリーフ構造
およびショアA硬度98を有する凸版印刷版が得られた
。
処理実施例5
ポリウレタングラフトベース(3, 0 0 0 g
のポリエチレングリコール600、193.1gの1,
4−ブタンジオールおよび1,428.2.のイソホロ
ンジイソシアネートから得たポリウレタン)上に、14
4.4gの部分的に加水分解した酢酸ビニルグラフト重
合体(43.8%のビニルアルコール、13.8gの酢
酸ビニルおよび42.8%のグラフトベース)を、調製
実施例8の化合物50g1ベンジルジメチルケタール4
gおよび2,6−ジーt−ブチルー4−メチルフェノー
ルの混合物と共に、160℃で押出し、次いで、0.1
25μm厚のポリエチレンテレフタレートのシートと、
実施例1で説明したように前処理したアルミニウムシ一
トとの間で、130℃、35バールで熱間圧縮した。
のポリエチレングリコール600、193.1gの1,
4−ブタンジオールおよび1,428.2.のイソホロ
ンジイソシアネートから得たポリウレタン)上に、14
4.4gの部分的に加水分解した酢酸ビニルグラフト重
合体(43.8%のビニルアルコール、13.8gの酢
酸ビニルおよび42.8%のグラフトベース)を、調製
実施例8の化合物50g1ベンジルジメチルケタール4
gおよび2,6−ジーt−ブチルー4−メチルフェノー
ルの混合物と共に、160℃で押出し、次いで、0.1
25μm厚のポリエチレンテレフタレートのシートと、
実施例1で説明したように前処理したアルミニウムシ一
トとの間で、130℃、35バールで熱間圧縮した。
以後、実施例1に説明するようにして、多層材料を調製
した。鮮明なレリーフ構造およびショアA硬度76を有
する凸版印刷版が得られた。
した。鮮明なレリーフ構造およびショアA硬度76を有
する凸版印刷版が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、必須成分として、 (a)重合体結合剤、 (b)フリーラジカルにより重合し得る化合物、および (c)活性線照射の作用により化合物(b)の重合を開
始させることができる化合物または化合物の組合わせ を含み、 フリーラジカルにより重合し得る化合物が一般式( I
)で表わされるアルケニルホスホン酸エステルおよび/
またはアルケニルホスフィン酸エステルであり、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) R^1およびR^1′が、それぞれ独立して、水素また
は(C_1−C_4)−アルキルであり、R^2が(C
_1−C_4)−アルキルであり、nが0または1であ
り、 Aが直鎖または枝分れの(C_2−C_1_2)−アル
キレン、 または式(II)で表わされ、mが0または1である基 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) または(III)で表わされ、R^3およびR^4が、そ
れぞれ独立して、(C_1−C_4)−アルキルであり
、pが0または1である基 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) または式(IV)で表わされ、xが1〜12である基 −CH_2CH_2(OCH_2CH_2)_x−(I
V)または式(V)で表わされ、yが1〜12である基 −C_3H_6(OC_3H_6)_y(V)または式
(VI)で表わされ、Bが直鎖または枝分れ(C_3−C
_1_2)−アルキレンであり、R^1,R^1′、R
^2およびnが上記の意味を持つ基▲数式、化学式、表
等があります▼(VI) である照射重合性混合物。 2、R^1およびR^1′が、水素またはメチルである
ことを特徴とする、請求項1記載の照射重合性混合物。 3、R^2がメチル、エチルまたはプロピルであること
を特徴とする、請求項1または2記載の照射重合性混合
物。 4、Aが、mがOである一般式(II)の化合物、または xが1〜3である一般式(IV)の化合物、またはyが1
〜3である一般式(IV)の化合物、またはBが直鎖(C
_3−C_6)−アルキレンである一般式(VI)の化合
物であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1
項に記載の照射重合性混合物。 5、結合剤(a)が水またはアルカリ性水溶液に可溶で
あることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に
記載の照射重合性混合物。 6、重合開始剤(c)が、可視光線または長波長紫外光
線に対して感応することを特徴とする、請求項1〜5の
いずれか1項に記載の照射重合性混合物。 7、20〜96重量%の重合体結合剤(a)、5〜80
重量%の重合性化合物(b)、および0.01〜10重
量%の重合開始剤(c)を含むことを特徴とする、請求
項1〜6のいずれか1項に記載の照射重合性混合物。 8、実質的に基板、およびその上に塗布した照射重合性
層から成る記録材料において、照射重合性層が請求項1
〜7のいずれか1項に記載する照射重合性混合物から成
ることを特徴とする、照射重合性記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3922330A DE3922330A1 (de) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial |
| DE3922330.2 | 1989-07-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0356961A true JPH0356961A (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=6384471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2179402A Pending JPH0356961A (ja) | 1989-07-07 | 1990-07-06 | 照射重合性混合物およびそれを含む記録材料 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5041357A (ja) |
| EP (1) | EP0406683A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0356961A (ja) |
| BR (1) | BR9003235A (ja) |
| CA (1) | CA2020662A1 (ja) |
| DE (1) | DE3922330A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007063168A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 新規ビスホスフィノイル化合物、その製造方法及びそれを有効成分とした医薬 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5292617A (en) * | 1992-03-31 | 1994-03-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having support with adjustable adhesion |
| US6110587A (en) | 1997-10-14 | 2000-08-29 | Wellman, Inc. | Modified polyester with high intrinsic viscosity at moderate strength |
| US7363320B2 (en) * | 2000-10-04 | 2008-04-22 | Intel Corporation | Method and system for correlating data from multiple sources without compromising confidentiality requirements |
| US20040116564A1 (en) * | 2002-11-27 | 2004-06-17 | Devlin Brian Gerrard | Stabilization of poly(oxyalkylene) containing polymeric materials |
| EP1582527A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-05 | Ciba SC Holding AG | Synthesis of phosphorus based ligands |
| DE102012013532B4 (de) * | 2012-07-05 | 2017-01-12 | Martin, Prof. Dr. Dreher | Einrichtung zum Drucken mit weich-elastischen Druckformen |
| EP3560938A1 (en) * | 2018-04-24 | 2019-10-30 | Henkel AG & Co. KGaA | Luminescent alkenyl-phosphorus containing materials |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2892716A (en) * | 1955-10-03 | 1959-06-30 | Du Pont | Photopolymerizable composition comprising an unsaturated vinyl polymer and a sheet support coated therewith |
| DE1106963B (de) * | 1959-11-11 | 1961-05-18 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Polyvinylphosphonsaeure |
| NL289167A (ja) * | 1961-10-13 | |||
| DE3817424A1 (de) * | 1988-05-21 | 1989-11-23 | Hoechst Ag | Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
-
1989
- 1989-07-07 DE DE3922330A patent/DE3922330A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-06-27 EP EP19900112228 patent/EP0406683A3/de not_active Withdrawn
- 1990-07-03 US US07/547,298 patent/US5041357A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-06 BR BR909003235A patent/BR9003235A/pt unknown
- 1990-07-06 CA CA002020662A patent/CA2020662A1/en not_active Abandoned
- 1990-07-06 JP JP2179402A patent/JPH0356961A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007063168A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 新規ビスホスフィノイル化合物、その製造方法及びそれを有効成分とした医薬 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0406683A2 (de) | 1991-01-09 |
| US5041357A (en) | 1991-08-20 |
| CA2020662A1 (en) | 1991-01-08 |
| DE3922330A1 (de) | 1991-01-17 |
| EP0406683A3 (en) | 1991-06-26 |
| BR9003235A (pt) | 1991-08-27 |
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