JPH0466503B2 - - Google Patents
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- JPH0466503B2 JPH0466503B2 JP61094140A JP9414086A JPH0466503B2 JP H0466503 B2 JPH0466503 B2 JP H0466503B2 JP 61094140 A JP61094140 A JP 61094140A JP 9414086 A JP9414086 A JP 9414086A JP H0466503 B2 JPH0466503 B2 JP H0466503B2
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- alkyl
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- aryl
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は新規な光重合性組成物に関し、更に詳
しくは新規な光開始剤系を含有する光重合性組成
物に関する。 （従来技術） 光重合性組成物は一般にUV光源が用いられ凸
版用、レリーフ像用、フオトレジスト用等に広く
適用されているが、その感度はより高い系が望ま
れている。特にレーザービームによる走査露光を
目的とする場合には高感度であることと同時に、
例えばアルゴンイオンレーザーの場合はその主出
力波長である458，488，514nm等可視光に対し十
分な感度をもつことが必要である。従来より、こ
の分野では感度を増大させるための光開始剤系に
ついて多くの研究がなされている。光開始剤とし
てはベンゾインおよびその誘導体、置換または非
置換の多核キノン類等多くの物質が既に知られて
いるが、特に可視光において十分な感度を有する
ものは知られていない。 また、例えばＮ−フエニルグリシンのようなＮ
−アリール−α−アミノ酸と種々の光吸収性化合
物とを組み合わせた組成物が知られている（特開
昭57−83501号公報等）。 しかしながらこの組成物も感度が十分ではな
く、臭気の問題があり、銅張り積層板との接着性
が十分でなく、保存安定性が劣る等の欠点があ
る。 （発明が解決しようとする問題点） 本発明は紫外線および可視光に対して高い感度
を有し、保存安定性にも優れた光重合性組成物を
提供することを目的とするものである。 （問題点を解決するための手段） すなわち本発明は (1) 常圧において100℃以上の沸点を有する付加
重合性化合物 (2) 下記式〔〕で表わされるＮ置換−アリール
−α−アミノ酸 （式中、R1，R2，R3，R4およびR5は水素原
子、炭素数１〜12のアルキル基またはハロゲン
原子であり、R6は炭素数１〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、炭素数１〜12のヒドロキシ
アルキル基、炭素数２〜12のアルコキシアルキ
ル基、炭素数１〜12のアミノアルキル基または
アリール基であり、R7およびR8は水素原子ま
たは炭素数１〜８のアルキル基であり、R1，
R2，R3，R4，R5，R6，R7およびR8は同一でも
よい）ならびに (3) 下記式〔〕で表わされるイソアロキサジン
骨格を有する化合物または下記式〔〕で表わ
される化合物を含有してなる光重合性組成物に
関する。 （式中、R17，R18およびR19はそれぞれ水素原
子、メチル基またはエチル基であり、これらは同
一の場合もある） （式中、R20，R21，R22，R23およびR24は、水
素原子、水酸基、１個の炭素数１〜５のアルキル
基で置換されたアミノ基、２個の炭素数１〜５の
アルキル基で置換されたアミノ基、炭素数１〜５
のアルコキシ基、アシルオキシ基、アリール基、
ハロゲン原子、または炭素数１から５のチオアル
キル基であり、R25は非置換のフエニル基、ビフ
エニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリ
ル基、フリル基、ピリジル基もしくはクマリニル
基またはアミノ基、炭素数１〜５のアルキル基で
置換されたアミノ基、シアノ基、アルコキシ基、
ニトロ基、水酸基、アルキル基、ハロゲン原子、
ハロアルキル基、ホルミル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシルオキシ基、アシル基で置換された
フエニル基、ビフエニル基、ナフチル基、チエニ
ル基、ベンゾフリル基、フリル基、ピリジル基も
しくはクマリニル基である） 本発明になる光重合性組成物に含まれる付加重
合性化合物は常圧において100℃以上の沸点を有
するものが用られる。常圧において沸点が100℃
より低いようなものでは系内に含有する溶剤を乾
燥等によつて除去する際または活性光線を照射す
る際該付加重合性化合物が揮散して特性上および
作業性上好ましくないからである。また該付加重
合性化合物は光開始剤等と均一な組成物にするた
めに、用いられる有機溶剤に可溶なものが好まし
い。 有機溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケ
トン、トルエン、クロロホルム、メタノール、エ
タノール、１，１，１−トリクロロエタン等が用
いられる。 常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物としては多価アルコールとα，β−不
飽和カルボン酸とを縮合して得られるもの、例え
ばジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
（ジアクリレートまたはジメタアクリレートの意
味、以下同じ）、トリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メチ）アクリレート、１，３−プロパン
ジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタ
ンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシ
フエニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタク
リロキシペンタエトキシフエニル）プロパン、新
中村化学(株)製商品名BPE−500（２，２−ビス
（４−メタクリロキシポリエトキシフエニル）プ
ロパンの混合物）等、グリシジル基含有化合物に
α，β−不飽和カルボン酸を付加して得られるも
の、例えばトリメチロールプロパントリグリシジ
ルエーテルトリ（メタ）アクリレート、ビスフエ
ノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリ
レート等、不飽和アミド例えばメチレンビスアク
リルアミド、エチレンビスアクリルアミド、１，
６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド等、ビニ
ルエステル例えばジビニルサクシネート、ジビニ
ルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテ
レフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジス
ルホネートなどがあげられる。 この付加重合性化合物は、１種または２種以上
が用いられる。 本発明において用いられるＮ置換−アリール−
α−アミノ酸は上記の式〔〕で表わされるが、
式〔〕においてR1，R2，R3，R4およびR5は水
素原子、炭素数１〜12のアルキル基またはハロゲ
ン原子であり、R6は炭素数１〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、炭素数１〜12のヒドロキシア
ルキル基、炭素数２〜12のアルコキシアルキル
基、炭素数１〜12のアミノアルキル基またはアリ
ール基であり、R7およびR8は水素原子または炭
素数１〜８のアルキル基であり、R1，R2，R3，
R4，R5，R6，R7およびR8は同一でもよい。 Ｎ置換−Ｎ−アリール−α−アミノ酸は、例え
ばＮ−アリール−α−アミノ酸から誘導される。 例えばＮ−アリール−α−アミノ酸とハロゲン
化アルキルとをアルカリの存在下に、溶剤を用い
て30〜150℃で、２〜６時間反応させて、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリール−α−アミノ酸アルキルエ
ステルを得る。ついでこのアルキルエステルをア
ルコール性アルカリの作用で加水分解してＮ−ア
ルキル−Ｎ−アリール−α−アミノ酸が得られ
る。 好ましい化合物としてはＮ−メチル−Ｎ−フエ
ニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルグリシ
ン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フエニルグリシン、
Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−エ
チル−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−（ｎ−プロピ
ル）−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−（ｎ−ブチル）
−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエ
ニルバリン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルロイシ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、
Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−
（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、
Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、
Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グリシ
ン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グ
リシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロ
フエニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ブ
ロモフエニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ
−ブロモフエニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）
−Ｎ−（ｐ−ブルモフエニル）グリシン、Ｎ，Ｎ
−ジフエニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−
ヨードフエニル）グリシン等がある。 本発明において用いられる上記式〔〕で表わ
されるイソアロキサジン骨格を有する化合物また
は上記式〔〕で表わされる化合物は、上記のＮ
置換−Ｎ−アリール−α−アミノ酸と組み合わせ
たときに光重合開始能を有するものである。 上記の式〔〕で表わされるイソアロキサジン
骨格を有する化合物は430〜460nmに吸収極大を
有する化合物である。式〔〕においてR17，
R18およびR19はそれぞれ水素原子、メチル基ま
たはエチル基であり、これらは同一の場合もあ
る。 好ましい化合物としてはリボフラビン、リボフ
ラビンテトラアセテート、リボフラビンテトラプ
ロビオネート、リボフラビンテトラブチレート、
フラビンモノヌクレオチド、フラビンアデニンジ
ヌクレオチド、ルミクロム、ルミフラビン、10−
フエニルイソアロキサジン、７，10−ジメチルソ
アロキサジン、10−ｎ−ブチルイソアロキサジ
ン、10−ベンジルイソアロキサジン等がある。 上記の式〔〕においてR20，R21，R22，R23
およびR24は、水素原子、水酸基、１個の炭素数
１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基、２個
の炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ
基、炭素数１〜５のアルコキシ基、アシルオキシ
基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１か
ら５のチオアルキル基であり、R25は非置換のフ
エニル基、ビフエニル基、ナフチル基、チエニル
基、ベンゾフリル基、フリル基、ビリジル基もし
くはクマリニル基またはアミノ基、炭素数１〜５
のアルキル基で置換されたアミノ基、シアノ基、
アルコキシ基、ニトロ基、水酸基、アルキル基、
ハロゲン原子、ハロアルキル基、ホルミル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル
基で置換されたフエニル基、ビフエニル基、ナフ
チル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ビリジル基もしくはクマリニル基である。 好ましい化合物としては、３−ベンゾイルクマ
リン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、
３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、
３−（4′−シアノベンゾイル）−クマリン、３−
（4′−シアノベンゾイル）−７−メトキシクマリ
ン、３−（4′−シアノベンゾイル）−５，７−ジメ
トキシクマリン、３−チエニルカルボニルクマリ
ン、３−チエニルカルボニル−７−メトキシクマ
リン、３−（4′−メトキシベンゾイル）クマリン、
３−（4′−メトキシベンゾイル）−５，７−ジメト
キシクマリン、３−（4′−メトキシベンゾイル）−
７−メトキシクマリン、３，3′−カルボニルビス
クマリン、３，3′−カルボニルビス−７−（ジエ
チルアミノ）クマリン、３，3′−カルボニルビス
−７−（メトキシ）クマリン、３，3′−カルボニ
ルビス−５，７−ジメトキシクマリン等がある。 これらの他に300〜550nmの光を吸収する光酸
化性の色素・芳香族化合物を用いることができ
る。例えば、２−エチルアンスラキノン、２−ｔ
−ブチルアンスラキノン、フエナンスレンキノ
ン、ベンズアンスロン、１，２−ベンズアンスラ
キノン、フルオレツセイン、１−フエニル−１，
２−プロパンジオン、アセナフテンキノン、ベン
ジル、４，４−ジメトキシベンジル、４，4′−ジ
メチルベンジル、４，4′−ジクロロベンジル、１
−メチル−２−ベンゾイルメチレン−１，２−ジ
ヒドロナフト〔１，2d〕チアゾール、１−メチ
ル−２−（α−ナフトイルメチレン）ベンゾチア
ゾール、２−〔（１−メチル−２（1H）−ベンゾオ
キサゾリリデン）−エチリデン〕−１，３−インダ
ンジオン、２−〔（３−メチル−２（3H）−ベンゾ
チアゾリリデン）−エチリデン〕−１，３−インダ
ンジオン、２−〔（３，３−ジメチル−１−メチル
−２（3H）−インドリリデン）−エチリデン〕−１，
３−インダンジオン等がある。 本発明になる光重合性組成物は、必要に応じて
１種以上の高分子量有機重合体を含有しても良
い。該高分子量有機重合体は熱可塑性であり、分
子量は、10000〜700，000を有するものが好まし
い。例えば次のものが用いられる。 (A) コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、トリメチロールプロパン、ネオペンチ
ルグリコール等と多価カルボン酸、例えばテレフ
タル酸、イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸
等とから製造したコポリエステル。 (B) ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸また
はアクリル酸のアルキルエステル例えばメチル
（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレ
ート、ブチル（メタ）アクリレート、β−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、スチレン、ビ
ニルトルエン、ビニルクロライド、ビニルブチラ
ール等のビニル単量体のホモポリマまたはコポリ
マ。 (C) ポリホルムアルデヒド (D) ポリウレタン (E) ポリカーボネート (F) ナイロンまたはポリアミド (G) セルロースエステル例えばメチルセルロー
ス、エチルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加える
ことによつて基体への接着性、耐薬品性、フイル
ム性等の特性を改良することができる。この高分
子量有機重合体は該高分子量有機重合体と前記の
付加重合性化合物の合計重量を基準として80重量
％以下の範囲とされる。80重量％を越えるような
量を含有する場合は光硬化が十分に進まず好まし
くない。 本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じ
て染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。着
色物質は公知のものが用いられ、例えばフクシ
ン、クリスタルバイオレツト、メチルオレンジ、
ナイルブルー2B、ビクトリアピユアブルー、マ
ラカイトグリーン、ナイトグリーンＢ、スピロン
ブルー等がある。 他に本発明になる光重合性組成物は保存時の安
定性を高めるためにラジカル重合禁止剤またはラ
ジカル重合抑制剤を含有してもよい。このような
ものとしてはｐ−メトキシフエノール、ハイドロ
キノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フエノ
チアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、アリール
フオスフアイト等がある。 他に本発明になる光重合性組成物は光重合性組
成物に用いることが知られている他の添加物、例
えば可塑剤、接着促進剤等の添加物を含有しても
よい。 本発明になる光重合性組成物は支持体上に塗布
されて活性光線に露光されて印刷刷版を製造した
り、エツチング又はメツキにより回路を形成する
ためのホトレジストとして使用できる。使用され
る活性光線源は250nm〜550nmの波長の活性光線
を発生するものが用いられる。 このような光源としてはカーボンアーク灯、水
銀灯、キセノンアーク灯、アルゴングローラン
プ、アルゴンイオンレーザー等がある。支持体と
してはポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフ
イルム、ポリエチレンテレフタレートフイルム等
の有機重合体フイルム、銅板、アルミニユーム
板、鉄板等の金属板、銅はくを表面に張つた絶縁
板（ガラスエポキシ基材、紙エポキシ基材、紙フ
エノール基材等）などが用いられる。 （発明の作用） 本発明においては、上記の(3)の成分が光を吸収
して酸化活性な状態となり上記の(2)の成分と酸化
還元反応を行ない、重合に対し活性なラジカルを
有効に発生することにより高感度の光重合性組成
物が得られるものと推定される。 （実施例） 本発明の実施例を説明する。ここで、部、％は
重量部、重量％を示す。 実施例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ（メタクリル酸／メチルメタク
リレート／ブチルメタクリレート／２−エチルヘ
キシルアクリレート＝23／51／６／20、重量部比
の共重合体、重量平均分子量約90000） 40％エチルセロソルブ溶液 120部 テトラエチレングリコールジアクリレート25部 ハイドロキノン 0.04部 光開始剤（表２に示す）ビクトリアピユアブル
ー 0.8部 メチルエチルケトン 20部 表２に示すＮ−メチル−Ｎ−フエニルグリシン
（NMPGと略して示す）は次の方法で合成したも
のを用いた。その他の化合物も同様にして合成し
て用いた。 ａ Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルグリシンメチルエ
ステルの合成 Ｎ−フエニルグリシン50gおよび炭酸カリウ
ム（100g、2.2当量）を４つ口フラスコに入れ、
乾燥テトラヒドロフラン700mlを加え還流させ
ながらヨウ化メチル（103g、2.2当量）を１時
間で滴下し、更に１時間還流した。反応混合物
は、テトラヒドロフランを減圧留去し、水を加
えてエーテルで抽出した。エーテル層を乾燥
し、溶媒留去してＮ−メチル−Ｎ−フエニルグ
リシンメチルエステルを得た。収量37g。これ
をさらに減圧蒸留により精製した（b.p.79〜81
℃／１mmHg）。 ｂ Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルグリシンの合成 Ｎ−フエニル−Ｎ−メチルグリシンメチルエ
ステル30gとNaOH（12.3g、1.1当量）を水／メ
タノール（1/4重量比）500mlに加え、２時間還
流した。反応混合物は、メタノールを減圧留去
し、水を加えて塩化メチレンにて未変の原料を
抽出し、水層へ10％塩酸を加えてpH5付近に調
整しエーテルにて抽出した。エーテル層を乾燥
し、溶媒留去してＮ−メチル−Ｎ−フエニルグ
リシンを得た。収量27.1g。 ｃ Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル−ｐ−クロロアニ
リンおよびＮ−エチル−ｐ−クロロアニリンの
合成 オーガニツク・シンセシス（Organic
Synthesis）コレクテイブボリユーム第２巻
（Col.vol.）420頁記載の方法に従つて、ｐ−
クロロアニリンからＮ−エチル−Ｎ−ホルミル
−ｐ−クロロアニリンを得、さらにこの化合物
よりＮ−エチル−ｐ−クロロアニリンを合成し
た。 ｄ Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グ
リシンの合成 ｃで得たＮ−エチル−ｐ−クロロアニリン
20g、炭酸ナトリウム17g（1.3当量）を水60mlと
ともに300mlの３つ首フラスコに入れ、滴下ロ
ート、還流冷却管およびメカニカルスターラを
つけ、加熱還流させた。モノクロロ酢酸15.8g
（1.3当量）を水50mlに溶かし、これを約30分か
けて滴下し、さらに３時間加熱還流した。放冷
後、内容物を分液ロートへ移し、酢酸エチルを
100ml加えよく振とうした。水層を分け、油層
へ70mlの水酸化ナトリウム５％水溶液を加え振
とうし、水層を分け前の水層と合わせた。合わ
せた水層へ、1N塩酸を徐々に加えてゆくと、
白濁が生じた。ほぼ中性になるまで加え放置す
ると結晶が析出してくる。結晶を別して水洗
いの後乾燥して20.8g（76％）のＮ−エチル−Ｎ
−（ｐ−クロロフエニル）グリシンを得た。 表１にＮ−フエニル−Ｎ−メチルグリシンメチ
ルエステルおよびＮ−フエニル−Ｎ−メチルグリ
シンのH1−NMRデータを示し、第１図にＮ−エ
チル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グリシンのH1
−NMRスペクトルを示す（溶媒としてCDC3、
内部標準としてテトラメチルシランを用いた）。
しくは新規な光開始剤系を含有する光重合性組成
物に関する。 （従来技術） 光重合性組成物は一般にUV光源が用いられ凸
版用、レリーフ像用、フオトレジスト用等に広く
適用されているが、その感度はより高い系が望ま
れている。特にレーザービームによる走査露光を
目的とする場合には高感度であることと同時に、
例えばアルゴンイオンレーザーの場合はその主出
力波長である458，488，514nm等可視光に対し十
分な感度をもつことが必要である。従来より、こ
の分野では感度を増大させるための光開始剤系に
ついて多くの研究がなされている。光開始剤とし
てはベンゾインおよびその誘導体、置換または非
置換の多核キノン類等多くの物質が既に知られて
いるが、特に可視光において十分な感度を有する
ものは知られていない。 また、例えばＮ−フエニルグリシンのようなＮ
−アリール−α−アミノ酸と種々の光吸収性化合
物とを組み合わせた組成物が知られている（特開
昭57−83501号公報等）。 しかしながらこの組成物も感度が十分ではな
く、臭気の問題があり、銅張り積層板との接着性
が十分でなく、保存安定性が劣る等の欠点があ
る。 （発明が解決しようとする問題点） 本発明は紫外線および可視光に対して高い感度
を有し、保存安定性にも優れた光重合性組成物を
提供することを目的とするものである。 （問題点を解決するための手段） すなわち本発明は (1) 常圧において100℃以上の沸点を有する付加
重合性化合物 (2) 下記式〔〕で表わされるＮ置換−アリール
−α−アミノ酸 （式中、R1，R2，R3，R4およびR5は水素原
子、炭素数１〜12のアルキル基またはハロゲン
原子であり、R6は炭素数１〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、炭素数１〜12のヒドロキシ
アルキル基、炭素数２〜12のアルコキシアルキ
ル基、炭素数１〜12のアミノアルキル基または
アリール基であり、R7およびR8は水素原子ま
たは炭素数１〜８のアルキル基であり、R1，
R2，R3，R4，R5，R6，R7およびR8は同一でも
よい）ならびに (3) 下記式〔〕で表わされるイソアロキサジン
骨格を有する化合物または下記式〔〕で表わ
される化合物を含有してなる光重合性組成物に
関する。 （式中、R17，R18およびR19はそれぞれ水素原
子、メチル基またはエチル基であり、これらは同
一の場合もある） （式中、R20，R21，R22，R23およびR24は、水
素原子、水酸基、１個の炭素数１〜５のアルキル
基で置換されたアミノ基、２個の炭素数１〜５の
アルキル基で置換されたアミノ基、炭素数１〜５
のアルコキシ基、アシルオキシ基、アリール基、
ハロゲン原子、または炭素数１から５のチオアル
キル基であり、R25は非置換のフエニル基、ビフ
エニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリ
ル基、フリル基、ピリジル基もしくはクマリニル
基またはアミノ基、炭素数１〜５のアルキル基で
置換されたアミノ基、シアノ基、アルコキシ基、
ニトロ基、水酸基、アルキル基、ハロゲン原子、
ハロアルキル基、ホルミル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシルオキシ基、アシル基で置換された
フエニル基、ビフエニル基、ナフチル基、チエニ
ル基、ベンゾフリル基、フリル基、ピリジル基も
しくはクマリニル基である） 本発明になる光重合性組成物に含まれる付加重
合性化合物は常圧において100℃以上の沸点を有
するものが用られる。常圧において沸点が100℃
より低いようなものでは系内に含有する溶剤を乾
燥等によつて除去する際または活性光線を照射す
る際該付加重合性化合物が揮散して特性上および
作業性上好ましくないからである。また該付加重
合性化合物は光開始剤等と均一な組成物にするた
めに、用いられる有機溶剤に可溶なものが好まし
い。 有機溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケ
トン、トルエン、クロロホルム、メタノール、エ
タノール、１，１，１−トリクロロエタン等が用
いられる。 常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物としては多価アルコールとα，β−不
飽和カルボン酸とを縮合して得られるもの、例え
ばジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
（ジアクリレートまたはジメタアクリレートの意
味、以下同じ）、トリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メチ）アクリレート、１，３−プロパン
ジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタ
ンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシ
フエニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタク
リロキシペンタエトキシフエニル）プロパン、新
中村化学(株)製商品名BPE−500（２，２−ビス
（４−メタクリロキシポリエトキシフエニル）プ
ロパンの混合物）等、グリシジル基含有化合物に
α，β−不飽和カルボン酸を付加して得られるも
の、例えばトリメチロールプロパントリグリシジ
ルエーテルトリ（メタ）アクリレート、ビスフエ
ノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリ
レート等、不飽和アミド例えばメチレンビスアク
リルアミド、エチレンビスアクリルアミド、１，
６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド等、ビニ
ルエステル例えばジビニルサクシネート、ジビニ
ルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテ
レフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジス
ルホネートなどがあげられる。 この付加重合性化合物は、１種または２種以上
が用いられる。 本発明において用いられるＮ置換−アリール−
α−アミノ酸は上記の式〔〕で表わされるが、
式〔〕においてR1，R2，R3，R4およびR5は水
素原子、炭素数１〜12のアルキル基またはハロゲ
ン原子であり、R6は炭素数１〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、炭素数１〜12のヒドロキシア
ルキル基、炭素数２〜12のアルコキシアルキル
基、炭素数１〜12のアミノアルキル基またはアリ
ール基であり、R7およびR8は水素原子または炭
素数１〜８のアルキル基であり、R1，R2，R3，
R4，R5，R6，R7およびR8は同一でもよい。 Ｎ置換−Ｎ−アリール−α−アミノ酸は、例え
ばＮ−アリール−α−アミノ酸から誘導される。 例えばＮ−アリール−α−アミノ酸とハロゲン
化アルキルとをアルカリの存在下に、溶剤を用い
て30〜150℃で、２〜６時間反応させて、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリール−α−アミノ酸アルキルエ
ステルを得る。ついでこのアルキルエステルをア
ルコール性アルカリの作用で加水分解してＮ−ア
ルキル−Ｎ−アリール−α−アミノ酸が得られ
る。 好ましい化合物としてはＮ−メチル−Ｎ−フエ
ニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルグリシ
ン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フエニルグリシン、
Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−フエニルグリシ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−エ
チル−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−（ｎ−プロピ
ル）−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−（ｎ−ブチル）
−Ｎ−フエニルアラニン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエ
ニルバリン、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルロイシ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、
Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−
（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、
Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、
Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グリシ
ン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グ
リシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロ
フエニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ブ
ロモフエニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ
−ブロモフエニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）
−Ｎ−（ｐ−ブルモフエニル）グリシン、Ｎ，Ｎ
−ジフエニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−
ヨードフエニル）グリシン等がある。 本発明において用いられる上記式〔〕で表わ
されるイソアロキサジン骨格を有する化合物また
は上記式〔〕で表わされる化合物は、上記のＮ
置換−Ｎ−アリール−α−アミノ酸と組み合わせ
たときに光重合開始能を有するものである。 上記の式〔〕で表わされるイソアロキサジン
骨格を有する化合物は430〜460nmに吸収極大を
有する化合物である。式〔〕においてR17，
R18およびR19はそれぞれ水素原子、メチル基ま
たはエチル基であり、これらは同一の場合もあ
る。 好ましい化合物としてはリボフラビン、リボフ
ラビンテトラアセテート、リボフラビンテトラプ
ロビオネート、リボフラビンテトラブチレート、
フラビンモノヌクレオチド、フラビンアデニンジ
ヌクレオチド、ルミクロム、ルミフラビン、10−
フエニルイソアロキサジン、７，10−ジメチルソ
アロキサジン、10−ｎ−ブチルイソアロキサジ
ン、10−ベンジルイソアロキサジン等がある。 上記の式〔〕においてR20，R21，R22，R23
およびR24は、水素原子、水酸基、１個の炭素数
１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基、２個
の炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ
基、炭素数１〜５のアルコキシ基、アシルオキシ
基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１か
ら５のチオアルキル基であり、R25は非置換のフ
エニル基、ビフエニル基、ナフチル基、チエニル
基、ベンゾフリル基、フリル基、ビリジル基もし
くはクマリニル基またはアミノ基、炭素数１〜５
のアルキル基で置換されたアミノ基、シアノ基、
アルコキシ基、ニトロ基、水酸基、アルキル基、
ハロゲン原子、ハロアルキル基、ホルミル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル
基で置換されたフエニル基、ビフエニル基、ナフ
チル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ビリジル基もしくはクマリニル基である。 好ましい化合物としては、３−ベンゾイルクマ
リン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、
３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、
３−（4′−シアノベンゾイル）−クマリン、３−
（4′−シアノベンゾイル）−７−メトキシクマリ
ン、３−（4′−シアノベンゾイル）−５，７−ジメ
トキシクマリン、３−チエニルカルボニルクマリ
ン、３−チエニルカルボニル−７−メトキシクマ
リン、３−（4′−メトキシベンゾイル）クマリン、
３−（4′−メトキシベンゾイル）−５，７−ジメト
キシクマリン、３−（4′−メトキシベンゾイル）−
７−メトキシクマリン、３，3′−カルボニルビス
クマリン、３，3′−カルボニルビス−７−（ジエ
チルアミノ）クマリン、３，3′−カルボニルビス
−７−（メトキシ）クマリン、３，3′−カルボニ
ルビス−５，７−ジメトキシクマリン等がある。 これらの他に300〜550nmの光を吸収する光酸
化性の色素・芳香族化合物を用いることができ
る。例えば、２−エチルアンスラキノン、２−ｔ
−ブチルアンスラキノン、フエナンスレンキノ
ン、ベンズアンスロン、１，２−ベンズアンスラ
キノン、フルオレツセイン、１−フエニル−１，
２−プロパンジオン、アセナフテンキノン、ベン
ジル、４，４−ジメトキシベンジル、４，4′−ジ
メチルベンジル、４，4′−ジクロロベンジル、１
−メチル−２−ベンゾイルメチレン−１，２−ジ
ヒドロナフト〔１，2d〕チアゾール、１−メチ
ル−２−（α−ナフトイルメチレン）ベンゾチア
ゾール、２−〔（１−メチル−２（1H）−ベンゾオ
キサゾリリデン）−エチリデン〕−１，３−インダ
ンジオン、２−〔（３−メチル−２（3H）−ベンゾ
チアゾリリデン）−エチリデン〕−１，３−インダ
ンジオン、２−〔（３，３−ジメチル−１−メチル
−２（3H）−インドリリデン）−エチリデン〕−１，
３−インダンジオン等がある。 本発明になる光重合性組成物は、必要に応じて
１種以上の高分子量有機重合体を含有しても良
い。該高分子量有機重合体は熱可塑性であり、分
子量は、10000〜700，000を有するものが好まし
い。例えば次のものが用いられる。 (A) コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、トリメチロールプロパン、ネオペンチ
ルグリコール等と多価カルボン酸、例えばテレフ
タル酸、イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸
等とから製造したコポリエステル。 (B) ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸また
はアクリル酸のアルキルエステル例えばメチル
（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレ
ート、ブチル（メタ）アクリレート、β−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、スチレン、ビ
ニルトルエン、ビニルクロライド、ビニルブチラ
ール等のビニル単量体のホモポリマまたはコポリ
マ。 (C) ポリホルムアルデヒド (D) ポリウレタン (E) ポリカーボネート (F) ナイロンまたはポリアミド (G) セルロースエステル例えばメチルセルロー
ス、エチルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加える
ことによつて基体への接着性、耐薬品性、フイル
ム性等の特性を改良することができる。この高分
子量有機重合体は該高分子量有機重合体と前記の
付加重合性化合物の合計重量を基準として80重量
％以下の範囲とされる。80重量％を越えるような
量を含有する場合は光硬化が十分に進まず好まし
くない。 本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じ
て染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。着
色物質は公知のものが用いられ、例えばフクシ
ン、クリスタルバイオレツト、メチルオレンジ、
ナイルブルー2B、ビクトリアピユアブルー、マ
ラカイトグリーン、ナイトグリーンＢ、スピロン
ブルー等がある。 他に本発明になる光重合性組成物は保存時の安
定性を高めるためにラジカル重合禁止剤またはラ
ジカル重合抑制剤を含有してもよい。このような
ものとしてはｐ−メトキシフエノール、ハイドロ
キノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フエノ
チアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、アリール
フオスフアイト等がある。 他に本発明になる光重合性組成物は光重合性組
成物に用いることが知られている他の添加物、例
えば可塑剤、接着促進剤等の添加物を含有しても
よい。 本発明になる光重合性組成物は支持体上に塗布
されて活性光線に露光されて印刷刷版を製造した
り、エツチング又はメツキにより回路を形成する
ためのホトレジストとして使用できる。使用され
る活性光線源は250nm〜550nmの波長の活性光線
を発生するものが用いられる。 このような光源としてはカーボンアーク灯、水
銀灯、キセノンアーク灯、アルゴングローラン
プ、アルゴンイオンレーザー等がある。支持体と
してはポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフ
イルム、ポリエチレンテレフタレートフイルム等
の有機重合体フイルム、銅板、アルミニユーム
板、鉄板等の金属板、銅はくを表面に張つた絶縁
板（ガラスエポキシ基材、紙エポキシ基材、紙フ
エノール基材等）などが用いられる。 （発明の作用） 本発明においては、上記の(3)の成分が光を吸収
して酸化活性な状態となり上記の(2)の成分と酸化
還元反応を行ない、重合に対し活性なラジカルを
有効に発生することにより高感度の光重合性組成
物が得られるものと推定される。 （実施例） 本発明の実施例を説明する。ここで、部、％は
重量部、重量％を示す。 実施例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ（メタクリル酸／メチルメタク
リレート／ブチルメタクリレート／２−エチルヘ
キシルアクリレート＝23／51／６／20、重量部比
の共重合体、重量平均分子量約90000） 40％エチルセロソルブ溶液 120部 テトラエチレングリコールジアクリレート25部 ハイドロキノン 0.04部 光開始剤（表２に示す）ビクトリアピユアブル
ー 0.8部 メチルエチルケトン 20部 表２に示すＮ−メチル−Ｎ−フエニルグリシン
（NMPGと略して示す）は次の方法で合成したも
のを用いた。その他の化合物も同様にして合成し
て用いた。 ａ Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルグリシンメチルエ
ステルの合成 Ｎ−フエニルグリシン50gおよび炭酸カリウ
ム（100g、2.2当量）を４つ口フラスコに入れ、
乾燥テトラヒドロフラン700mlを加え還流させ
ながらヨウ化メチル（103g、2.2当量）を１時
間で滴下し、更に１時間還流した。反応混合物
は、テトラヒドロフランを減圧留去し、水を加
えてエーテルで抽出した。エーテル層を乾燥
し、溶媒留去してＮ−メチル−Ｎ−フエニルグ
リシンメチルエステルを得た。収量37g。これ
をさらに減圧蒸留により精製した（b.p.79〜81
℃／１mmHg）。 ｂ Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルグリシンの合成 Ｎ−フエニル−Ｎ−メチルグリシンメチルエ
ステル30gとNaOH（12.3g、1.1当量）を水／メ
タノール（1/4重量比）500mlに加え、２時間還
流した。反応混合物は、メタノールを減圧留去
し、水を加えて塩化メチレンにて未変の原料を
抽出し、水層へ10％塩酸を加えてpH5付近に調
整しエーテルにて抽出した。エーテル層を乾燥
し、溶媒留去してＮ−メチル−Ｎ−フエニルグ
リシンを得た。収量27.1g。 ｃ Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル−ｐ−クロロアニ
リンおよびＮ−エチル−ｐ−クロロアニリンの
合成 オーガニツク・シンセシス（Organic
Synthesis）コレクテイブボリユーム第２巻
（Col.vol.）420頁記載の方法に従つて、ｐ−
クロロアニリンからＮ−エチル−Ｎ−ホルミル
−ｐ−クロロアニリンを得、さらにこの化合物
よりＮ−エチル−ｐ−クロロアニリンを合成し
た。 ｄ Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グ
リシンの合成 ｃで得たＮ−エチル−ｐ−クロロアニリン
20g、炭酸ナトリウム17g（1.3当量）を水60mlと
ともに300mlの３つ首フラスコに入れ、滴下ロ
ート、還流冷却管およびメカニカルスターラを
つけ、加熱還流させた。モノクロロ酢酸15.8g
（1.3当量）を水50mlに溶かし、これを約30分か
けて滴下し、さらに３時間加熱還流した。放冷
後、内容物を分液ロートへ移し、酢酸エチルを
100ml加えよく振とうした。水層を分け、油層
へ70mlの水酸化ナトリウム５％水溶液を加え振
とうし、水層を分け前の水層と合わせた。合わ
せた水層へ、1N塩酸を徐々に加えてゆくと、
白濁が生じた。ほぼ中性になるまで加え放置す
ると結晶が析出してくる。結晶を別して水洗
いの後乾燥して20.8g（76％）のＮ−エチル−Ｎ
−（ｐ−クロロフエニル）グリシンを得た。 表１にＮ−フエニル−Ｎ−メチルグリシンメチ
ルエステルおよびＮ−フエニル−Ｎ−メチルグリ
シンのH1−NMRデータを示し、第１図にＮ−エ
チル−Ｎ−（ｐ−クロロフエニル）グリシンのH1
−NMRスペクトルを示す（溶媒としてCDC3、
内部標準としてテトラメチルシランを用いた）。
【表】
上記に示す光重合性組成物の成分を攪拌溶解
し、23μm厚のポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（東レ(株)社製、商品名「ルミラー」）上にバ
ーコーターを用いて塗布し100℃熱風対流式乾燥
機で約３分間乾燥して光重合性エレメントを得
た。乾燥した光重合性組成物層の厚さは30μmで
あつた。 次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミ
ネーターを用いて清浄な表面を有する1.6mm厚の
ガラスエポキシ銅張積層板上に光重合性組成物層
と銅面が接するように光重合性エレメントを積層
した（ゴムロール温度160℃）。 積層したサンプルのポリエチレンテレフタレー
トフイルム上にステツプタブレツト（大日本スク
リーン(株)製、商標グレースケール、光学濃度段差
0.15、最小光学濃度0.05、最大光学濃度3.05、21
段差のネガフイルム）を密着し、3kwの超高圧水
銀灯（オーク製作所(株)製、象徴フエニツクス
3000）で15秒間露光を行なつた。(株)オーク製作所
「紫外線照度計UV−M01」で420nmに分光感度
極大を有するセンサを使用して測定した照射面で
の露光照射強度21.2mW／cm2、また350nmに分光
感度極大を有するセンサを使用して測定した露光
量は6.4mW／cm2であつた。その後ポリエチレン
テレフタレートフイルムを除去し30℃、２％Na2
CO3水溶液中に40秒間揺動浸漬することによつて
未硬化部分を溶出させステツプタブレツトの段数
を光重合性組成物の感度とした（段数が多い程感
度が高い）。表２に感度の比較を示す。 比較例５〜８においては、臭気の発生および銅
張積層板に対する密着性の低さが認められたが実
施例においてはいずれも臭気の発生もなく銅張積
層板に対する密着性も良好であつた。
し、23μm厚のポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（東レ(株)社製、商品名「ルミラー」）上にバ
ーコーターを用いて塗布し100℃熱風対流式乾燥
機で約３分間乾燥して光重合性エレメントを得
た。乾燥した光重合性組成物層の厚さは30μmで
あつた。 次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミ
ネーターを用いて清浄な表面を有する1.6mm厚の
ガラスエポキシ銅張積層板上に光重合性組成物層
と銅面が接するように光重合性エレメントを積層
した（ゴムロール温度160℃）。 積層したサンプルのポリエチレンテレフタレー
トフイルム上にステツプタブレツト（大日本スク
リーン(株)製、商標グレースケール、光学濃度段差
0.15、最小光学濃度0.05、最大光学濃度3.05、21
段差のネガフイルム）を密着し、3kwの超高圧水
銀灯（オーク製作所(株)製、象徴フエニツクス
3000）で15秒間露光を行なつた。(株)オーク製作所
「紫外線照度計UV−M01」で420nmに分光感度
極大を有するセンサを使用して測定した照射面で
の露光照射強度21.2mW／cm2、また350nmに分光
感度極大を有するセンサを使用して測定した露光
量は6.4mW／cm2であつた。その後ポリエチレン
テレフタレートフイルムを除去し30℃、２％Na2
CO3水溶液中に40秒間揺動浸漬することによつて
未硬化部分を溶出させステツプタブレツトの段数
を光重合性組成物の感度とした（段数が多い程感
度が高い）。表２に感度の比較を示す。 比較例５〜８においては、臭気の発生および銅
張積層板に対する密着性の低さが認められたが実
施例においてはいずれも臭気の発生もなく銅張積
層板に対する密着性も良好であつた。
【表】
【表】
【表】
実施例１〜10と同様にして光重合性エレメント
を得た（ただし光重合性組成物の成分のテトラエ
チレングリコールジアクリレートを２，２−ビス
（４−アクリロキシジエトキシフエニル）プロパ
ンに代え、乾燥した光重合性組成物の層の厚さは
30μmとした）。ついで実施例１〜10と同様にして
1.6mm厚のガラスエポキシ銅張積層板上に光重合
性エレメントを積層した（ゴムロール温度160
℃）。 比較例16、実施例11，12では23℃、湿度60％の
条件で、比較例17、実施例13，14では80℃、湿度
50％の条件で光重合性エレメントの積層されたガ
ラスエポキシ銅張積層板を表に示す日数、又は時
間で保存し、表３については露光現像を行ない、
表４については現像のみを行なつた結果を示す。 露光および現像の条件は、実施例１〜10と同様
にして行なつた。
を得た（ただし光重合性組成物の成分のテトラエ
チレングリコールジアクリレートを２，２−ビス
（４−アクリロキシジエトキシフエニル）プロパ
ンに代え、乾燥した光重合性組成物の層の厚さは
30μmとした）。ついで実施例１〜10と同様にして
1.6mm厚のガラスエポキシ銅張積層板上に光重合
性エレメントを積層した（ゴムロール温度160
℃）。 比較例16、実施例11，12では23℃、湿度60％の
条件で、比較例17、実施例13，14では80℃、湿度
50％の条件で光重合性エレメントの積層されたガ
ラスエポキシ銅張積層板を表に示す日数、又は時
間で保存し、表３については露光現像を行ない、
表４については現像のみを行なつた結果を示す。 露光および現像の条件は、実施例１〜10と同様
にして行なつた。
【表】
−は現像不能となつたことを示す。
【表】
○は現像可能、×は現像不能を示す。
（発明の効果） 以上の実施例で示したとおり、本発明になる光
重合性組成物は紫外線もしくは可視光に対し高い
感度を有し、保存安定性にも優れたものである。
（発明の効果） 以上の実施例で示したとおり、本発明になる光
重合性組成物は紫外線もしくは可視光に対し高い
感度を有し、保存安定性にも優れたものである。
第１図は実施例で用いたＮ−エチル−Ｎ−（ｐ
−クロロフエニル）グリシンのH1−NMRスペク
トル図である。
−クロロフエニル）グリシンのH1−NMRスペク
トル図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (1) 常圧において100℃以上の沸点を有する
付加重合性化合物。 (2) 下記式〔〕で表わされるＮ置換−アリール
−α−アミノ酸 （式中、R1，R2，R3，R4およびR5は水素原
子、炭素数１〜12のアルキル基またはハロゲン
原子であり、R6は炭素数１〜12のアルキル基、
シクロアルキル基、炭素数１〜12のヒドロキシ
アルキル基、炭素数２〜12のアルコキシアルキ
ル基、炭素数１〜12のアミノアルキル基または
アリール基であり、R7およびR8は水素原子ま
たは炭素数１〜８のアルキル基であり、R1，
R2，R3，R4，R5，R6，R7およびR8は同一でも
よい）ならびに (3) 下記式〔〕で表わされるイソアロキサジン
骨格を有する化合物または下記式〔〕で表わ
される化合物を含有してなる光重合性組成物。 （式中、R17，R18およびR19はそれぞれ水素原
子、メチル基またはエチル基であり、これらは同
一の場合もある） （式中、R20，R21，R22，R23およびR24は、水
素原子、水酸基、１個の炭素数１〜５のアルキル
基で置換されたアミノ酸、２個の炭素数１〜５の
アルキル基で置換されたアミノ酸、炭素数１〜５
のアルコキシ基、アシルオキシ基、アリール基、
ハロゲン原子または炭素数１から５のチオアルキ
ル基であり、R25は非置換のフエニル基、ビフエ
ニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル
基、フリル基、ピリジン基もしくはクマリニル基
またはアミノ基、炭素数１〜５のアルキル基で置
換されたアミノ基、シアノ基、アルコキシ基、ニ
トロ基、水酸基、アルキル基、ハロゲン原子、ハ
ロアルキル基、ホルミル基、アルコキシカルボニ
ル基、アシルオキシ基、アシル基で置換されたフ
エニル基、ビフエニル基、ナフチル基、チエニル
基、ベンゾフリル基、フリル基、ピリジル基もし
くはクマリニル基である） ２ 高分子量有機重合体を含有し、高分子量有機
重合体を該高分子量有機重合体と付加重合性化合
物の合計重量を基準として80重量％以下とした特
許請求の範囲第１項記載の光重合性組成物。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP9414086A JPS62123450A (ja) | 1985-07-09 | 1986-04-23 | 光重合性組成物 |
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| HK543/91A HK54391A (en) | 1986-04-23 | 1991-07-18 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (3)
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| JP15049785 | 1985-07-09 | ||
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Family
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Family Applications (1)
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-
1986
- 1986-04-23 JP JP9414086A patent/JPS62123450A/ja active Granted
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |