JPH035749A - ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は良好な帯電防止性を有するハロゲン化銀写真感
光材料に関し、特に塗布性に悪影響を与えることなく、
しかも自動現像機で処理した際現像処理液を汚染するこ
となく、また画像ムラを生ずることのないハロゲン化銀
写真感光材料r以下写真感光材料と記す」に関するもの
である。
光材料に関し、特に塗布性に悪影響を与えることなく、
しかも自動現像機で処理した際現像処理液を汚染するこ
となく、また画像ムラを生ずることのないハロゲン化銀
写真感光材料r以下写真感光材料と記す」に関するもの
である。
(従来の技術)
写真感光材料はmmに電気絶縁性を有する支持体および
写真層から成っている−ので写真感光材料の製造工程中
ならびに使用時に同種または異種物質の表面との間の接
触摩擦または剥離をうけることによって静電電荷が蓄積
されることが多い。この蓄積された帯電電荷は多くの障
害を引起すが、最も重大な障害は現像処理前にM積され
た静電電荷が放電することによって感光性乳剤層が感光
し写真フィルムを現像処理した際に点状スポット又は樹
枝状や羽毛状の綿房を生ずることである。これがいわゆ
るスタチンクマークと呼ばれているもので写真フィルム
の商品価値を著しくt員ね、場合によっては全く商品価
値を失わせしめる。この現象は現像してみて初めて明ら
かになるもので非常に厄介な問題の一つである。またこ
れらの蓄積された静電電荷は処理前や処理後のフィルム
表面へ塵挨が付着したり、塗布が均一に行なえないなど
の第2次的な故障を誘起せしめる原因にもなる。
写真層から成っている−ので写真感光材料の製造工程中
ならびに使用時に同種または異種物質の表面との間の接
触摩擦または剥離をうけることによって静電電荷が蓄積
されることが多い。この蓄積された帯電電荷は多くの障
害を引起すが、最も重大な障害は現像処理前にM積され
た静電電荷が放電することによって感光性乳剤層が感光
し写真フィルムを現像処理した際に点状スポット又は樹
枝状や羽毛状の綿房を生ずることである。これがいわゆ
るスタチンクマークと呼ばれているもので写真フィルム
の商品価値を著しくt員ね、場合によっては全く商品価
値を失わせしめる。この現象は現像してみて初めて明ら
かになるもので非常に厄介な問題の一つである。またこ
れらの蓄積された静電電荷は処理前や処理後のフィルム
表面へ塵挨が付着したり、塗布が均一に行なえないなど
の第2次的な故障を誘起せしめる原因にもなる。
かかる静電電荷の蓄積によって誘起される写真感光材料
のスフチックマークは写真感光材料の感度の上昇および
処理速度の増加によって顕著となる。特に最近において
は、写真感光材料の高感度化および高速塗布、高速逼影
、高速自動現像処理化等の過酷な取り扱いを受ける機会
が多くなったことによって一層スタチックマークの発生
が出易くなっている。更に又、処理済み写真感光材料を
取り扱う機会が近年多くなりその際のゴミ付きは重大な
問題となっている。
のスフチックマークは写真感光材料の感度の上昇および
処理速度の増加によって顕著となる。特に最近において
は、写真感光材料の高感度化および高速塗布、高速逼影
、高速自動現像処理化等の過酷な取り扱いを受ける機会
が多くなったことによって一層スタチックマークの発生
が出易くなっている。更に又、処理済み写真感光材料を
取り扱う機会が近年多くなりその際のゴミ付きは重大な
問題となっている。
これらの静電気による障害をなくすためには写真感光材
料に帯電防止剤を添加することが好ましい。しかしなが
ら、写真感光材料に利用できる帯電防止剤は、他の分野
で一般に用いられている帯電防止剤がそのまま使用でき
る訳ではなく、写真感光材料に特有の種々の制約を受け
る。即ち写真感光材料に利用し得る帯電防止剤には帯電
防止性能が優れているごとの他に、例えば写真感光材料
の感度、カブリ、粒状性、シャープネス等の写真特性の
悪影響を及ぼさないこと、写真感光材料の膜強度に悪影
響を与えないこと、耐接着性に悪影響を及ぼさないこと
、写真感光材料の処理液の疲労を早めないこと、搬送ロ
ーラーを汚染しないこと、写真感光材料の各構成層間の
接着強度を低下させないこと等々の性能が要求され、写
真感光材料へ帯電防止剤を適用することは非常に多くの
制約を受ける。
料に帯電防止剤を添加することが好ましい。しかしなが
ら、写真感光材料に利用できる帯電防止剤は、他の分野
で一般に用いられている帯電防止剤がそのまま使用でき
る訳ではなく、写真感光材料に特有の種々の制約を受け
る。即ち写真感光材料に利用し得る帯電防止剤には帯電
防止性能が優れているごとの他に、例えば写真感光材料
の感度、カブリ、粒状性、シャープネス等の写真特性の
悪影響を及ぼさないこと、写真感光材料の膜強度に悪影
響を与えないこと、耐接着性に悪影響を及ぼさないこと
、写真感光材料の処理液の疲労を早めないこと、搬送ロ
ーラーを汚染しないこと、写真感光材料の各構成層間の
接着強度を低下させないこと等々の性能が要求され、写
真感光材料へ帯電防止剤を適用することは非常に多くの
制約を受ける。
これらの静電気による障害をなくすための一つの方法は
、写真感光材料表面の電気伝導性を上げて、蓄積電荷が
放電する前に静電電荷を短時間に逸散せしめるようにす
ることである。
、写真感光材料表面の電気伝導性を上げて、蓄積電荷が
放電する前に静電電荷を短時間に逸散せしめるようにす
ることである。
したがって、従来から写真感光材料の支持体や各種塗布
表面層の導電性を向上させる方法が考えられ種々の吸湿
性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、ポリマー
等の利用が試みられてきた。
表面層の導電性を向上させる方法が考えられ種々の吸湿
性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、ポリマー
等の利用が試みられてきた。
この中で帯電防止能の上で界面活性剤は重要であり例え
ば、米国特許第3,082,123号、同3,201,
251号、同3,519,561号、同3,625,6
95号、西ドイツ特許第1゜552.408号、同1,
597,472号、特開昭49−85826号、同53
−129623号、同54−159223号、同48−
19213号、特公昭46−39312号、同49−1
1567号、同51−46755号、同55−1441
7号等に記載されているアニオン、ベタイン及びカチオ
ン界面活性剤、あるいは、特公昭4817882号、特
開昭52−80023号、西ドイツ特許第1,422,
809号、同1,422.818号、オーストラリア特
許第54,441号/1959等に記載のノニオン界面
活性剤が知られている。
ば、米国特許第3,082,123号、同3,201,
251号、同3,519,561号、同3,625,6
95号、西ドイツ特許第1゜552.408号、同1,
597,472号、特開昭49−85826号、同53
−129623号、同54−159223号、同48−
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1567号、同51−46755号、同55−1441
7号等に記載されているアニオン、ベタイン及びカチオ
ン界面活性剤、あるいは、特公昭4817882号、特
開昭52−80023号、西ドイツ特許第1,422,
809号、同1,422.818号、オーストラリア特
許第54,441号/1959等に記載のノニオン界面
活性剤が知られている。
しかしながらこれらの物質は、フィルム支持体の種類や
写真組成物の違いによって特異性を示し、前記性能を十
分満足するものではなく、写真感光材料に適用すること
は極めて困難であった。
写真組成物の違いによって特異性を示し、前記性能を十
分満足するものではなく、写真感光材料に適用すること
は極めて困難であった。
また、特公昭51−9610号に示されているフェノー
ル−ホルマリン縮合物の酸化エチレン付加重合体は種々
の塗布剤と併用してもその帯電防止性能に優れている事
が記載されている。しかしながらこの方法でも、現像処
理過程での汚染によるトラブルは解決されない。
ル−ホルマリン縮合物の酸化エチレン付加重合体は種々
の塗布剤と併用してもその帯電防止性能に優れている事
が記載されている。しかしながらこの方法でも、現像処
理過程での汚染によるトラブルは解決されない。
又、特開昭53−29715号には、特定のアニオン界
面活性剤とポリオキシエチレン系ノニオン界面活性剤を
含有する写真感光材料が記載されているが、現像処理液
汚染や搬送ローラー汚染によるフィルム故障の改良は得
られない。
面活性剤とポリオキシエチレン系ノニオン界面活性剤を
含有する写真感光材料が記載されているが、現像処理液
汚染や搬送ローラー汚染によるフィルム故障の改良は得
られない。
更に又、特開昭64−68751号に記載のポリホスフ
ァゼン化合物を含有する写真感光材料が記載されている
が、この化合物についても前述の問題を解決するまでに
は至らなかった。
ァゼン化合物を含有する写真感光材料が記載されている
が、この化合物についても前述の問題を解決するまでに
は至らなかった。
近年、環境保全上又は水資源上、コスト上又は処理機器
の簡易コンパクト化の点から処理時の水洗水量を低減す
る方法、またコストの点から補充処理液量を減らす方法
、更には、処理時間の短縮化のために、処理液の4厚化
が試みられているが、このような処理方法の発展に伴な
い、ますます上記の処理液汚染、画像ムラが多くなり重
要な問題となってきた。
の簡易コンパクト化の点から処理時の水洗水量を低減す
る方法、またコストの点から補充処理液量を減らす方法
、更には、処理時間の短縮化のために、処理液の4厚化
が試みられているが、このような処理方法の発展に伴な
い、ますます上記の処理液汚染、画像ムラが多くなり重
要な問題となってきた。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的の第1は、現像処理液の汚染を起さない帯
電防止された写真感光材料を提供することにある。
電防止された写真感光材料を提供することにある。
第2に現像処理時に画像ムラを起さないような帯電防止
された写真感光材料を提供することにある。
された写真感光材料を提供することにある。
第3に、塗布性に悪影響を与えることなく帯電防止され
た写真感光材料を提供することにある。
た写真感光材料を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明のこれらの目的は、支持体上に少なくとも一層の
ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料に於いて、該
感光材料の構成層の少なくとも一層がポリアルキレンオ
キシド基と重合性基をともに含有するホスファゼンポリ
マーを含有する塗布膜を重合せしめた層であることを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成された
。
ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料に於いて、該
感光材料の構成層の少なくとも一層がポリアルキレンオ
キシド基と重合性基をともに含有するホスファゼンポリ
マーを含有する塗布膜を重合せしめた層であることを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成された
。
本発明に於いては、側鎖にポリアルキレンオキシド基と
重合性基を導入し、これを重合せしめて使用することに
より驚くべきことに帯電防止、現像処理液の汚染防止、
現像処理時の画像ムラ防止及び塗布性向上をすべて解決
することができたものである。
重合性基を導入し、これを重合せしめて使用することに
より驚くべきことに帯電防止、現像処理液の汚染防止、
現像処理時の画像ムラ防止及び塗布性向上をすべて解決
することができたものである。
本発明に用いられるホスファゼンポリマーは下記−形式
〔1〕および(n)で表わされる繰り返し単位をともに
含有するか、又は−形式(III)で表わされる繰り返
し単位を含有する。
〔1〕および(n)で表わされる繰り返し単位をともに
含有するか、又は−形式(III)で表わされる繰り返
し単位を含有する。
−形式〔I)L1+R8−〇−)F−R1−(−P =
N→− Lt+pよ−0−)−R4 一般式(II) L、s Rs −←P=N→− X+ 一般式〔■〕L4−+−R,−〇+7−R。
N→− Lt+pよ−0−)−R4 一般式(II) L、s Rs −←P=N→− X+ 一般式〔■〕L4−+−R,−〇+7−R。
−←P=N→−
2
〔式中、LL 、Lz 、L3 、L−はそれぞれ同じ
でも異なっていてもよく、−0−S−3 N−又は炭素数1〜12のアルキレン基を表わし、これ
らの基は置換基を有してもよい。Roは水素原子、置換
基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基又はアルケ
ニル基を表わす。
でも異なっていてもよく、−0−S−3 N−又は炭素数1〜12のアルキレン基を表わし、これ
らの基は置換基を有してもよい。Roは水素原子、置換
基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基又はアルケ
ニル基を表わす。
LL、、Lx、L3、L4として好ましくは一〇−R1
S−−N−であり、R1とじて好ましくは水素原子又は
置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基である
。
置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基である
。
前記、L、 、L、、L、、L、のアルキレン基、R8
のアルキル基、アルケニル基の置換基の例としてはハロ
ゲン原子、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボ
キシル基、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
シルオキシ基、アシルアミイ基、アミノ基、スルホンア
ミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルコキシスルホニル基、了り一ロキシスルホニル基、カ
ルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、カルバ
モイルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリ
ーロキシカルボニルアミノ基などがあげられる。
のアルキル基、アルケニル基の置換基の例としてはハロ
ゲン原子、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボ
キシル基、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
シルオキシ基、アシルアミイ基、アミノ基、スルホンア
ミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルコキシスルホニル基、了り一ロキシスルホニル基、カ
ルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、カルバ
モイルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリ
ーロキシカルボニルアミノ基などがあげられる。
R,、R,、R,はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、炭素数1〜4のアルキレン基を表わH2 し、好ましくはエチレン基又は−GHz−Cll−基で
ある。
く、炭素数1〜4のアルキレン基を表わH2 し、好ましくはエチレン基又は−GHz−Cll−基で
ある。
Rs 、La 、Rtはそれぞれ同じでも異なっていて
もよく、水素原子それぞれ炭素数1〜12のアルキル基
、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、 Co
Rq基又は−so、 −Rq基を表わす。
もよく、水素原子それぞれ炭素数1〜12のアルキル基
、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、 Co
Rq基又は−so、 −Rq基を表わす。
R9は炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、了
り−ル基、アラルキル基を表わし、前記アルキル基、ア
ルケニル基の置換基の例としてはR6であげた置換と同
じものがあげられる。了り−ル基、アラルキル基の置換
の例としては、炭素数1〜20個のアルキル基、置換ア
ルキル基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子
、臭素原子、ヨウ素原子)、水酸基、カルボキシ基、ス
ルホ基、アシルアミノ基(例えば、アセトアミド基、ベ
ンズアミド基)、スルホンアミド基、カルバモイル基、
アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシ基(例えばメトキシ基)、芳香族オキシ(例
えばフェノキシ基)、ニトロ基、ホルミル基、脂肪族及
び芳香族スルホニル基等を挙げることができる。上記ア
ルキル基に置換可能な基としては、アルコキシ基、了り
−ルオキン基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、アシルオキシ基、アシル基、脂肪
族オキシ基、芳香族オキシ基、ニトロ基等を挙げること
ができ、これらの置換基は複数有してもよい。
り−ル基、アラルキル基を表わし、前記アルキル基、ア
ルケニル基の置換基の例としてはR6であげた置換と同
じものがあげられる。了り−ル基、アラルキル基の置換
の例としては、炭素数1〜20個のアルキル基、置換ア
ルキル基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子
、臭素原子、ヨウ素原子)、水酸基、カルボキシ基、ス
ルホ基、アシルアミノ基(例えば、アセトアミド基、ベ
ンズアミド基)、スルホンアミド基、カルバモイル基、
アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシ基(例えばメトキシ基)、芳香族オキシ(例
えばフェノキシ基)、ニトロ基、ホルミル基、脂肪族及
び芳香族スルホニル基等を挙げることができる。上記ア
ルキル基に置換可能な基としては、アルコキシ基、了り
−ルオキン基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、アシルオキシ基、アシル基、脂肪
族オキシ基、芳香族オキシ基、ニトロ基等を挙げること
ができ、これらの置換基は複数有してもよい。
R1で表わされる基として好ましくは炭素数1〜8の2
tA基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基又は−COR,基(R6が炭素数1〜8の置換基
を存してもよいアルキル基又はアリール基)、例として
はメチル基、エチル基、ヘキシル基、−CI□CF、基
、フリル基、フェニル基、アセチル基、プロピオニル基
などが挙げられる。
tA基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基又は−COR,基(R6が炭素数1〜8の置換基
を存してもよいアルキル基又はアリール基)、例として
はメチル基、エチル基、ヘキシル基、−CI□CF、基
、フリル基、フェニル基、アセチル基、プロピオニル基
などが挙げられる。
R3は炭素数1〜12の置換基を有してもよいアルキル
基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基又は−(
R+o−0? −R++基を表す。
基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基又は−(
R+o−0? −R++基を表す。
R4゜及びR1はそれぞれR9及びR1と同様である。
またアルキル基、アルケニル基の置[75の例としては
R8であげた置換基を挙げることができる。
R8であげた置換基を挙げることができる。
R2で表わされる基として好ましくは炭素数1〜6の置
換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基又は−1
,。−〇 )−Rz基であり、例としてはメチル基、エ
チル基、ブチル基、アリル基、co、cp、基、−CI
−1,C11□−〇−CH3基、−(CIl□C11,
−0−)−、CH。
換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基又は−1
,。−〇 )−Rz基であり、例としてはメチル基、エ
チル基、ブチル基、アリル基、co、cp、基、−CI
−1,C11□−〇−CH3基、−(CIl□C11,
−0−)−、CH。
Hj
−(CHICI+□−0ト、 C−CIl、基、イCH
,CH−0汁、 C1,基1 などが挙げられる。
,CH−0汁、 C1,基1 などが挙げられる。
p、q、r、sはそれぞれ独自に1〜30の整数であり
、好ましくは2〜10の整数である。
、好ましくは2〜10の整数である。
X+、X2はフォスフアゼン部分に連結しうる重合性基
を表わし、村橋ら「合成高分子」■〜■(朝倉書店)、
中村「水溶性高分子」 (化学工業社)ならびに記載さ
れている種々のモノマーを用いることができる。たとえ
ばX+ 、XIで表わされる重合性基は以下のモノマー
とCl基を有するポリホスファゼンを反応させることに
より導入される。
を表わし、村橋ら「合成高分子」■〜■(朝倉書店)、
中村「水溶性高分子」 (化学工業社)ならびに記載さ
れている種々のモノマーを用いることができる。たとえ
ばX+ 、XIで表わされる重合性基は以下のモノマー
とCl基を有するポリホスファゼンを反応させることに
より導入される。
CH=CHC1l□=CII
C)!、−OH、0−CIlzCII□−01(CH2
CH2CHz−Cll O−CIlχcot−1111□ 、 OCHz
C)I C82C112N82Nll。
CH2CHz−Cll O−CIlχcot−1111□ 、 OCHz
C)I C82C112N82Nll。
CH,=C1(
SO□−CH2CH2011
CIl、□C11
Co−CIl□−0H
CI(3
CIl□−C
CO□−cozcu□−011
C)1.=cI+
CO□(CH,C11□−〇)−ioHC1!。
CIl□=C
C0□【C11□C11□−0)−10ftCH2=C
H CIl−CN 。
H CIl−CN 。
11
C11,=C11
CO□−CIIC820+1 、
CIl□;C1(
CO□(CI1□CI+2 0hO1lC8゜
c+h=c。
CO□(CHzCHt 0hOtl
CL=CII
CO□(CHzhOll
C113
C113
CIl□=C
Cl1□−CH
C0バC112)4NI+! 、
C0NH−CII□CI+、−Ni+□cut=c++
C0NH−co、c+h−OH、
113
CI+2=C
CONII CHzCtlz Off 、1h
CIl□=C
C0NII−C)lZcli□−Nll−CIl、CH
2NI+□1 CIl□−C CO□−CLCL 0ft CIl。
2NI+□1 CIl□−C CO□−CLCL 0ft CIl。
CIl□=C
CON II COOCII□CH,−011113
Clh=C
CONtlCOO+CHzC1b oトd。
CIl□=C
C0□C11□C112N11COO−CII□CIl
□−Off) 、これらは共重合体として用いてもよ
い。
□−Off) 、これらは共重合体として用いてもよ
い。
X+ 、Xiで表わされる重合性基は1種又は2種以上
混合して用いてもよい。
混合して用いてもよい。
また、本発明に用いられる高分子化合物は一般式(1)
および−形式(II)で表わされる繰り返し単位又は、
−形式(I[l]で表わされる繰り返し単位の他に下記
一般弐[IV)で表わされる繰り返し単位を含有しても
よい。
および−形式(II)で表わされる繰り返し単位又は、
−形式(I[l]で表わされる繰り返し単位の他に下記
一般弐[IV)で表わされる繰り返し単位を含有しても
よい。
一般式(IV) L5−R,□
−(−P=N十−
L−RI3
ここで、L、およびり、ばそれぞれLlと同義である。
R1!およびR1+はそれぞれ同じであっても異なって
いてもよく、炭素数1〜12の置換基を有してもよいア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を
表わす。好ましくは炭素数1〜6の置換基を有してもよ
いアルキル基、アルケニル基である。
いてもよく、炭素数1〜12の置換基を有してもよいア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を
表わす。好ましくは炭素数1〜6の置換基を有してもよ
いアルキル基、アルケニル基である。
本発明に用いられる高分子化合物は、該写真感光材料の
構成層の少なくとも一層に塗布後、XX2部分を重合し
て用いる。
構成層の少なくとも一層に塗布後、XX2部分を重合し
て用いる。
重合法としては加熱又は光照射による方法が用いられる
。
。
X、、X2部分は単独重合、又は他の七ツマー成分と共
重合させて用いることができる。共重合モノマーの例と
してはアクリル酸、α−クロロアクリル酸、α−アルア
クリル酸(例えばメタクリル酸など)、これらのアクリ
ル酸類から誘導されるエステルもしくはアミド(例えば
、アクリルアミド、メタクリルアミド、n−ブチルアク
リルアミド、L−ブチルアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレー
ト、L−ブチルアクリレート、is。
重合させて用いることができる。共重合モノマーの例と
してはアクリル酸、α−クロロアクリル酸、α−アルア
クリル酸(例えばメタクリル酸など)、これらのアクリ
ル酸類から誘導されるエステルもしくはアミド(例えば
、アクリルアミド、メタクリルアミド、n−ブチルアク
リルアミド、L−ブチルアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレー
ト、L−ブチルアクリレート、is。
−ブチルアクリレ−1・、2−エチルへキンルアクリレ
ート、n−オクチルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート
、n−ブチルメタアクリレートおよびβ−ヒドロキシメ
タクリレート)、ビニルエステル(例工ばビニルアセテ
ート、ビニルプロピオネートおよびビニルラウレート)
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、芳香族ビニ
ル化合物(例えばスチレンおよびその誘導体、例えばビ
ニルトルエン、ジビニルヘンゼン、ビニルアセトフェノ
ンおよびスルホスチレン)、イタコン酸、シトラコン酸
、り0Fン酸、どニリデンクロライド、ビニルアルキル
エーテル(例えばビニルエチルエーテル)、マレイン酸
エステル、N−ビニル2−ピロリドン、N−ビニルピリ
ジンおよび2および4−ビニルピリジン等が挙げられる
がこれに限定されるものではない。
ート、n−オクチルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート
、n−ブチルメタアクリレートおよびβ−ヒドロキシメ
タクリレート)、ビニルエステル(例工ばビニルアセテ
ート、ビニルプロピオネートおよびビニルラウレート)
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、芳香族ビニ
ル化合物(例えばスチレンおよびその誘導体、例えばビ
ニルトルエン、ジビニルヘンゼン、ビニルアセトフェノ
ンおよびスルホスチレン)、イタコン酸、シトラコン酸
、り0Fン酸、どニリデンクロライド、ビニルアルキル
エーテル(例えばビニルエチルエーテル)、マレイン酸
エステル、N−ビニル2−ピロリドン、N−ビニルピリ
ジンおよび2および4−ビニルピリジン等が挙げられる
がこれに限定されるものではない。
加熱によって重合させる場合は0.01〜5+no1%
の重合開始剤を加えておくことが好ましい。重合開始剤
としては、公知のものでよく、アゾビス化合物、パーオ
キサイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒な
ど、たとえば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、t
art−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキ
サイド、イソプロピルパーカーボネート、2,4−ジク
ロロベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパ
ーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、2−
21−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロ
ライドなどがある。
の重合開始剤を加えておくことが好ましい。重合開始剤
としては、公知のものでよく、アゾビス化合物、パーオ
キサイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒な
ど、たとえば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、t
art−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキ
サイド、イソプロピルパーカーボネート、2,4−ジク
ロロベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパ
ーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、2−
21−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロ
ライドなどがある。
重合温度は50〜100°Cが好ましい。
光照射によって重合させる場合は紫外線、可視光線など
の活性光線を照射する方法が用いられる。
の活性光線を照射する方法が用いられる。
この場合、光重合開始剤を添加しておくことが重合時間
を短縮できて好ましい光重合開始剤としては公知のもの
でよ(、例えばベンゾイン、2−メチルベンゾイン、ト
リメチルシリルベンゾイン、4−メトキシヘンシフエノ
ン、ベンゾインメチルエーテル、アセトフェノン、アン
トラキノン、2゜2−ジメトキシ−2−フェニルアセト
フェノンなどが挙げられる。
を短縮できて好ましい光重合開始剤としては公知のもの
でよ(、例えばベンゾイン、2−メチルベンゾイン、ト
リメチルシリルベンゾイン、4−メトキシヘンシフエノ
ン、ベンゾインメチルエーテル、アセトフェノン、アン
トラキノン、2゜2−ジメトキシ−2−フェニルアセト
フェノンなどが挙げられる。
光重合開始剤の添加量は、モノマーに対して0゜O1〜
5mo1%が適当である。
5mo1%が適当である。
本発明の高分子化合物の重量平均分子i1Mw(ポリス
チレン換算)は10.000〜5,000,000が好
ましく、さらに好ましくは100.000〜3,000
,000である。
チレン換算)は10.000〜5,000,000が好
ましく、さらに好ましくは100.000〜3,000
,000である。
本発明に用いられる高分子化合物は、−形式%式%
を複数持ってもよい。
本発明に用いられる高分子化合物中、−a式〔1〕で表
わされる繰り返し単位の含’[tは好ましくは50〜9
9モル%であり、更に好ましくは85〜99モル%であ
る。−形式〔■〕で表わされる繰り返し単位の含有量は
好ましくは1〜50モル%である。−形式(I[[)で
表わされる繰り返し単位は1〜50モル%が好ましい。
わされる繰り返し単位の含’[tは好ましくは50〜9
9モル%であり、更に好ましくは85〜99モル%であ
る。−形式〔■〕で表わされる繰り返し単位の含有量は
好ましくは1〜50モル%である。−形式(I[[)で
表わされる繰り返し単位は1〜50モル%が好ましい。
以下に一般式(1)及び(I[)又は(III)を含有
する本発明に用いられる高分子化合物の代表例を示すが
、無論これらに限定されるものではない。
する本発明に用いられる高分子化合物の代表例を示すが
、無論これらに限定されるものではない。
化合物例1 (P−1)
0(CHzGHz −0)y−CHx 0(CHz
CHz 0)r−CHs牙P=N 、
P=Nす「0(C1l□CHz 0)r−CH3
0CHzCHzOCC11−C1h1 a / b = 80 / 20 化合物例2 (P−2) 化合物例3 (P−3) 0+CHzCHz−0トrcH3 (lfcH!cH2−0)ycIh MCHzCIh−0)yCL 0(CII□CI+□−0トr C’d :+0−Ct
LzCHzO−C=CII□ 0C2H5a/b/c
=55/25/20 化合物例4 (P−4) OfClhCII□−0)−T−C1h 0fC1
l□C11z−0)TCtlコ+P=N 、
P=Nす「0GC1hC1h−0)r CH30
−CIItCHzO−CニーC=Cl1z1 CH3 a / b = 90 / 10 a / b = 70 / 30 化合物例5 (P−5) 0+CIIzClh−0)rcHt 0fCIIz
Cth−Ohr−CII*+P=N 、
P=N→]−OE、II□CI+□−0)yclI+
0−eclI□C1l□−0)TC=0C1l=
CI+□ a / b = 85 / l 5 化合物例6 (P−6) o+c112cllZ−o)−rcl+3 0(CHz
CIIz−0)y−Cl130+CIIzCHz−0)
y−C1h−(−P = N −h−−(P = N9
丁−一 −−(−P=N+vMCIIzC)lz−Oh
C11z 0(CH2(Jlz−0)r−C=Oo
+cu2cll□−0h−0113CIl・C11z a/b/c =8515/ I O 化合物例7 (P−7) 0+CII□CI+□−〇)−rcllz 0(C
II□CI+、−0斤C113(−P=N→、
P=Nす「04:C1l□CI+□−0)TCt
i+ 0−Ctl□CH□−0C=OC=CI+2 CH3 a/b=9575 化合物例8 (P−8) 0+CIIzCIlz−0)丁C1l、 0(CHz
CIIz−Oh−CII+ o<co□CI+□−〇
斤−CII+−(−P=N七−−−−→P=N
−P=Nすこ0(−C1l□CI+□−0)丁C
lh 0CIh−CIl=CHz OCl1z
CFta/b/c =75/ 15/ 10 化合物例9 (P−9) (1(cH2cI+□−01rclh O+C
H2CHz−0)r−cl+3−(−P=N 、
P=N→T−tMcll□C1h−0
ト「C11ゴ 0− C112CIf□−C−CI
l・CI+□1 a / b = 95 / 5 化合物例10 (P −10) 0(C1hCIIz−0)TClh 0(CIIt
Clh−CD−rctL+−(−P=N II
P=N±「0−ecII□CIl□−Q)−
y−CHz 0−C1hCIIz−〇C−C=C1
1□1 C1h a / b = 97 / 3 化合物例11(P−11) ON(CHzCHz−0)−rCH3NH(CIIzC
Hz−0)ycth−(−P=N 、
P=N→1−N11(CHzCHz−0)−TC
I+3 0−C1hC)lx−NHCO−C=Clh
C11゜ a / b −90/ 10 化合物例13(P−1,3) 0+CHzCHz−0トr−CHz O+CHz
CII□−0トz−CIl3−(−P=N 、
P=Il→τ−01 MCH2Cl+□−0トr−cl13 o+cl
l□CI+□−0)TCC=CI+□ C11゜ a / b = 75 / 25 化合物例12(1”−12) 0−CHxCHz−0−CtlzCHz−3−C1li
0−C11zC1l□−0−CH,CIl□−5−CH
iCH=CH。
CHz 0)r−CHs牙P=N 、
P=Nす「0(C1l□CHz 0)r−CH3
0CHzCHzOCC11−C1h1 a / b = 80 / 20 化合物例2 (P−2) 化合物例3 (P−3) 0+CHzCHz−0トrcH3 (lfcH!cH2−0)ycIh MCHzCIh−0)yCL 0(CII□CI+□−0トr C’d :+0−Ct
LzCHzO−C=CII□ 0C2H5a/b/c
=55/25/20 化合物例4 (P−4) OfClhCII□−0)−T−C1h 0fC1
l□C11z−0)TCtlコ+P=N 、
P=Nす「0GC1hC1h−0)r CH30
−CIItCHzO−CニーC=Cl1z1 CH3 a / b = 90 / 10 a / b = 70 / 30 化合物例5 (P−5) 0+CIIzClh−0)rcHt 0fCIIz
Cth−Ohr−CII*+P=N 、
P=N→]−OE、II□CI+□−0)yclI+
0−eclI□C1l□−0)TC=0C1l=
CI+□ a / b = 85 / l 5 化合物例6 (P−6) o+c112cllZ−o)−rcl+3 0(CHz
CIIz−0)y−Cl130+CIIzCHz−0)
y−C1h−(−P = N −h−−(P = N9
丁−一 −−(−P=N+vMCIIzC)lz−Oh
C11z 0(CH2(Jlz−0)r−C=Oo
+cu2cll□−0h−0113CIl・C11z a/b/c =8515/ I O 化合物例7 (P−7) 0+CII□CI+□−〇)−rcllz 0(C
II□CI+、−0斤C113(−P=N→、
P=Nす「04:C1l□CI+□−0)TCt
i+ 0−Ctl□CH□−0C=OC=CI+2 CH3 a/b=9575 化合物例8 (P−8) 0+CIIzCIlz−0)丁C1l、 0(CHz
CIIz−Oh−CII+ o<co□CI+□−〇
斤−CII+−(−P=N七−−−−→P=N
−P=Nすこ0(−C1l□CI+□−0)丁C
lh 0CIh−CIl=CHz OCl1z
CFta/b/c =75/ 15/ 10 化合物例9 (P−9) (1(cH2cI+□−01rclh O+C
H2CHz−0)r−cl+3−(−P=N 、
P=N→T−tMcll□C1h−0
ト「C11ゴ 0− C112CIf□−C−CI
l・CI+□1 a / b = 95 / 5 化合物例10 (P −10) 0(C1hCIIz−0)TClh 0(CIIt
Clh−CD−rctL+−(−P=N II
P=N±「0−ecII□CIl□−Q)−
y−CHz 0−C1hCIIz−〇C−C=C1
1□1 C1h a / b = 97 / 3 化合物例11(P−11) ON(CHzCHz−0)−rCH3NH(CIIzC
Hz−0)ycth−(−P=N 、
P=N→1−N11(CHzCHz−0)−TC
I+3 0−C1hC)lx−NHCO−C=Clh
C11゜ a / b −90/ 10 化合物例13(P−1,3) 0+CHzCHz−0トr−CHz O+CHz
CII□−0トz−CIl3−(−P=N 、
P=Il→τ−01 MCH2Cl+□−0トr−cl13 o+cl
l□CI+□−0)TCC=CI+□ C11゜ a / b = 75 / 25 化合物例12(1”−12) 0−CHxCHz−0−CtlzCHz−3−C1li
0−C11zC1l□−0−CH,CIl□−5−CH
iCH=CH。
化合物例14(P−14)
0 (C11□C11□−0h−CIl30(C1l□
CI+□−01rclh 0−Czlls−(−P
= N −h−−□−+ P = N±7−〇P =
N −)−。
CI+□−01rclh 0−Czlls−(−P
= N −h−−□−+ P = N±7−〇P =
N −)−。
0(C1l□CHz −Oh−Ctl x O−Ci
t□Cll−0−C=O0−CzllsC−CI+□ a / b = 93 / 7 P a/b/c =78/2/20 化合物例15(P 15) 化合物例17(P 17) CH3 CH。
t□Cll−0−C=O0−CzllsC−CI+□ a / b = 93 / 7 P a/b/c =78/2/20 化合物例15(P 15) 化合物例17(P 17) CH3 CH。
0fCtlzCHz−0トrcl+。
04:CHzCHt−0升rcHx
C!It5
−(−P=N、 P±N→τ−11
3 C=C)l。
3 C=C)l。
lh
a / b = 96 / 4
0C11□Cll0C=0
CすC1h
C1(。
CJs
a/b/c
0(:zlls
=5/9015
化合物例16(P−16)
−(−P=N 、 P=N±v−
一−−−(P=Nす「0+CHzCHz−0)y−CL
0CHzCHOC=O0C2Hsc=cut C11゜ a/b/c =80/4/ 16 化合物例18(P−18) +P=N 、 P=N→1
−0(CHzClli−0ト「C・o 0C
211゜cu=cnz a / b = 80 / 20 本発明の高分子化合物の代表的な合成例を示す。
一−−−(P=Nす「0+CHzCHz−0)y−CL
0CHzCHOC=O0C2Hsc=cut C11゜ a/b/c =80/4/ 16 化合物例18(P−18) +P=N 、 P=N→1
−0(CHzClli−0ト「C・o 0C
211゜cu=cnz a / b = 80 / 20 本発明の高分子化合物の代表的な合成例を示す。
合成例1 化合物10の合成
(1)ポリジクロロフォスフアゼンの合成(D−1)(
NPCj!z)z 100 g (0,27mol)
をパイレックスチューブに入れ、チューブ内を真空(1
0−”torr)にした後、チューブをと封管した。こ
のチューブを250 ’Cの電気オーブンに入れ120
時間反応させた。反応後、内容物を取り出し、昇華(5
0°C/24時間)にて未反応の原料を除き、目的物を
得た。
NPCj!z)z 100 g (0,27mol)
をパイレックスチューブに入れ、チューブ内を真空(1
0−”torr)にした後、チューブをと封管した。こ
のチューブを250 ’Cの電気オーブンに入れ120
時間反応させた。反応後、内容物を取り出し、昇華(5
0°C/24時間)にて未反応の原料を除き、目的物を
得た。
収量85g(収率85%)
(2)P−10の合成
C1(。
CHz=C−C(h−CIhCIhOH0,45g (
3,7mmol)をテトラヒドロフラン50afに溶解
し、これに60%−油性水素化ナトリウム0. 2g
(5mmol)を加えた。この溶液をD−125g (
0,22mol)のテトラヒドロフラン溶液50#tl
!に室温攪拌下に滴下してこれにn−テトラブチルアン
モニウムプロミド0.05gを加えて室温で10時間撹
拌した。さらにこの溶液をII O(C112−C11
□−〇)−2CI+325 g (0,208mol)
、60%油性水素化ナトリウム10 g (0,25m
ol)を含むテトラヒドロフラン溶液100jdに対し
て室温撹拌下に滴下した。その後、室温で48時間反応
させた後、2時間50’Cで反応させた。
3,7mmol)をテトラヒドロフラン50afに溶解
し、これに60%−油性水素化ナトリウム0. 2g
(5mmol)を加えた。この溶液をD−125g (
0,22mol)のテトラヒドロフラン溶液50#tl
!に室温攪拌下に滴下してこれにn−テトラブチルアン
モニウムプロミド0.05gを加えて室温で10時間撹
拌した。さらにこの溶液をII O(C112−C11
□−〇)−2CI+325 g (0,208mol)
、60%油性水素化ナトリウム10 g (0,25m
ol)を含むテトラヒドロフラン溶液100jdに対し
て室温撹拌下に滴下した。その後、室温で48時間反応
させた後、2時間50’Cで反応させた。
反応終了後、希塩酸を加えて系を中和し、イオン交換水
で72時間造析を行い低分子量成分を除去した。得られ
たポリマーをアセトン250戚に7容解し、ヘキサン1
2を加えて再沈酸精製した。この操作を2回繰り返して
黒白色粘稠固体を得た。
で72時間造析を行い低分子量成分を除去した。得られ
たポリマーをアセトン250戚に7容解し、ヘキサン1
2を加えて再沈酸精製した。この操作を2回繰り返して
黒白色粘稠固体を得た。
このポリマーの構造はNMR1IR1元素分析、GPC
などから確認した。
などから確認した。
また、本発明に用いられる高分子化合物は帯電防止能向
上のためには周期律表1aまたはIIa族に属する金属
イオンの塩と併用することが望ましい、以下に金属イオ
ンの塩の好ましい例を挙げるが、もちろんこれらに限定
されるものではない。
上のためには周期律表1aまたはIIa族に属する金属
イオンの塩と併用することが望ましい、以下に金属イオ
ンの塩の好ましい例を挙げるが、もちろんこれらに限定
されるものではない。
KCFxSOz 、NaCFzSO*、LiCFzSO
s、Ca(CF3SOz) 2、Zn(CFsSOt)
z 、K[lF4、NaBFa 、LiBFa
、KCFiCOz 、NaCFICOz、 ]、1
cF3cOz、KCxFtC(h、NaCyP7COt
、LiCJtCOz 、kc3F、sOz、Na
C*FtSO:+ 、KC4F9SO3、KPF。
s、Ca(CF3SOz) 2、Zn(CFsSOt)
z 、K[lF4、NaBFa 、LiBFa
、KCFiCOz 、NaCFICOz、 ]、1
cF3cOz、KCxFtC(h、NaCyP7COt
、LiCJtCOz 、kc3F、sOz、Na
C*FtSO:+ 、KC4F9SO3、KPF。
これらの塩は1種又は2種以−1二を混合して用いても
よい。
よい。
次に本発明に用いられるX+、Xzがモノマー成分であ
る高分子化合物の重合方法について述べる。
る高分子化合物の重合方法について述べる。
加熱重合方法
本発明に用いられるX、 、X、がモノマー成分である
高分子化合物および場合によっては先に例を述べたコモ
ノマーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べ
た適切な重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後、
40〜100°Cに加熱して重合させた。
高分子化合物および場合によっては先に例を述べたコモ
ノマーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べ
た適切な重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後、
40〜100°Cに加熱して重合させた。
光重合方法
本発明に用いられるX、、X、がモノマー成分である高
分子化合物および場合によっては先に例を述べたコモノ
マーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べた
適切な光重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後、
超高圧水銀灯等を用いて所定時間照射して重合させた。
分子化合物および場合によっては先に例を述べたコモノ
マーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べた
適切な光重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後、
超高圧水銀灯等を用いて所定時間照射して重合させた。
以下に本発明に用いられるX、 、X2がモノマー成分
である高分子化合物の代表的な重合例を示すが、無論こ
れらに限定されるものではない。
である高分子化合物の代表的な重合例を示すが、無論こ
れらに限定されるものではない。
本発明の化合物は支持体バック層又は下塗り層の有機溶
剤系塗布液中に添加し、塗布後、熱または光照射によっ
て七ツマ一部分を重合せしめて帯電防止剤として用いる
ことが好ましい。
剤系塗布液中に添加し、塗布後、熱または光照射によっ
て七ツマ一部分を重合せしめて帯電防止剤として用いる
ことが好ましい。
バック層又は下塗り層が2層から成る場合は、そのいず
れの層でもよい。
れの層でもよい。
本発明の化合物を写真感光材料に適用するに当たっては
水あるいはメタノール、エタノール、イソプロパツール
、メチルエチルケトン、アセトン等の有Ja溶媒又はそ
れらの混合溶媒に溶解後、バンク層又は下塗り層の塗布
液に添加しデイツプコート、エアーナイフコート、噴務
、あるいは米国特許2.681,294号に記載のホッ
パーを使用するエクスルージョンコートの方法により塗
布するが、米国特許3,508,947号、同2゜94
1.898号、同3,526,528号などに記載の方
法により2種又はそれ以上の層を同時に塗布するか、あ
るいは帯電防止液中に浸漬し、その後、熱又は光照射に
よってモノマ一部分を重合せしめる。
水あるいはメタノール、エタノール、イソプロパツール
、メチルエチルケトン、アセトン等の有Ja溶媒又はそ
れらの混合溶媒に溶解後、バンク層又は下塗り層の塗布
液に添加しデイツプコート、エアーナイフコート、噴務
、あるいは米国特許2.681,294号に記載のホッ
パーを使用するエクスルージョンコートの方法により塗
布するが、米国特許3,508,947号、同2゜94
1.898号、同3,526,528号などに記載の方
法により2種又はそれ以上の層を同時に塗布するか、あ
るいは帯電防止液中に浸漬し、その後、熱又は光照射に
よってモノマ一部分を重合せしめる。
本発明の化合物の使用量は各々写真感光材料の一平方メ
ートルあたり、0.0001〜2.0g存在せしめるの
がよく特に0.0005〜0.3gが望ましい。
ートルあたり、0.0001〜2.0g存在せしめるの
がよく特に0.0005〜0.3gが望ましい。
本発明の化合物は、各々2種以上混合しても良い。
本発明に係る写真感光材料としては、通常の白黒ハロゲ
ン化銀写真感光材料(例えば、逼影用白黒感材、X−r
ay用白黒感材、印刷用白黒怒材なと)、通常の多層カ
ラー感光材料(例えば、カラーネガティブフィルム、カ
ラーリバーサルフィルム、カラーポジティブフィルム、
映画用カラーネガティブフィルムなど)、レーザースキ
ャナー用赤外光用怒材などを挙げることができる。
ン化銀写真感光材料(例えば、逼影用白黒感材、X−r
ay用白黒感材、印刷用白黒怒材なと)、通常の多層カ
ラー感光材料(例えば、カラーネガティブフィルム、カ
ラーリバーサルフィルム、カラーポジティブフィルム、
映画用カラーネガティブフィルムなど)、レーザースキ
ャナー用赤外光用怒材などを挙げることができる。
本発明の写真感光材料のハロゲン北限乳剤層、表面保護
層などに用いられるハロゲン化銀の種類、製法、化学増
感法、カブリ防止剤、安定剤、硬膜剤、帯電防止剤、カ
プラー、可塑剤、潤滑剤、塗布助剤、マット剤、増白剤
、分光増悪剤、染料、紫外線吸収剤等については特に制
限はなく、例えばプロダクトライセンシング誌(Pro
ductLicansing) 92巻107〜110
頁(1971年12月)及びリサーチ・ディスクロージ
ャー誌(Research Disclosure)
176巻22〜31頁(1978年12月)、同238
巻44〜46頁(1984年)の記載を参考にすること
が出来る。
層などに用いられるハロゲン化銀の種類、製法、化学増
感法、カブリ防止剤、安定剤、硬膜剤、帯電防止剤、カ
プラー、可塑剤、潤滑剤、塗布助剤、マット剤、増白剤
、分光増悪剤、染料、紫外線吸収剤等については特に制
限はなく、例えばプロダクトライセンシング誌(Pro
ductLicansing) 92巻107〜110
頁(1971年12月)及びリサーチ・ディスクロージ
ャー誌(Research Disclosure)
176巻22〜31頁(1978年12月)、同238
巻44〜46頁(1984年)の記載を参考にすること
が出来る。
本発明を用いて作られる写真感光材料の写真乳剤層また
は他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スヘ
リ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等、種々の目的で、種々
の界面活性剤を含んでもよい。
は他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スヘ
リ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等、種々の目的で、種々
の界面活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、塘の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオNa
CF、CO,、LiCF+COz、XC3FtC(h、
NacxF7co2 、LiC1F、C(h 、KC
*FtS(h、NaC3F7SO3、KCmF++SO
z、にPF。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、塘の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオNa
CF、CO,、LiCF+COz、XC3FtC(h、
NacxF7co2 、LiC1F、C(h 、KC
*FtS(h、NaC3F7SO3、KCmF++SO
z、にPF。
これらの塩は1種又は2種以−Lを混合して用いてもよ
い。
い。
次に本発明に用いられるXI、XZがモノマー成分であ
る高分子化合物の重合方法について述べる。
る高分子化合物の重合方法について述べる。
加熱重合方法
本発明に用いられるx2、χ2がモノマー成分である高
分子化合物および場合によっては先に例を述べたゴモノ
マーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べた
適切な重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後、4
0〜100°Cに加熱して重合させた。
分子化合物および場合によっては先に例を述べたゴモノ
マーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べた
適切な重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後、4
0〜100°Cに加熱して重合させた。
光重合方法
本発明に用いられるX、 、X、がモノマー成分である
高分子化合物および場合によっては先に例を述べたコモ
ノマーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べ
た適切な光重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後
、超高圧水銀灯等を用いて所定時間照射して重合させた
。
高分子化合物および場合によっては先に例を述べたコモ
ノマーを溶媒に溶かし、必要によりこれに先に例を述べ
た適切な光重合開始剤を溶かし、支持体上に塗布した後
、超高圧水銀灯等を用いて所定時間照射して重合させた
。
以下に本発明に用いられるχ1、X2がモノマ成分であ
る高分子化合物の代表的な重合例を示すが、無論これら
に限定されるものではない。
る高分子化合物の代表的な重合例を示すが、無論これら
に限定されるものではない。
でもよい、更にはりサーチ・ディスクロージャー225
巻Nα22534.20〜58頁(198341)、特
開昭58−127921号、同58113926号に記
載された平板粒子であってもよい。種々の結晶形の粒子
の混合から成ってもよい。
巻Nα22534.20〜58頁(198341)、特
開昭58−127921号、同58113926号に記
載された平板粒子であってもよい。種々の結晶形の粒子
の混合から成ってもよい。
ハロゲン化銀粒子は、粒子を形成する過程及び/又は成
長させる過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウ
ム塩、イリジウム塩(錯塩を含む)、ロジウム塩(錯塩
を含む)及び鉄塩(錯塩を含む)から選ばれる少なくと
も1種を用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/
又は粒子表面にこれらの金属元素を含有させることがで
き、また適当な還元的雰囲気におくことにより、粒子内
部及び/又は粒子表面に還元増悪核を付与できる。
長させる過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウ
ム塩、イリジウム塩(錯塩を含む)、ロジウム塩(錯塩
を含む)及び鉄塩(錯塩を含む)から選ばれる少なくと
も1種を用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/
又は粒子表面にこれらの金属元素を含有させることがで
き、また適当な還元的雰囲気におくことにより、粒子内
部及び/又は粒子表面に還元増悪核を付与できる。
ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長の終了後
に不要な可溶性塩類を除去してもよいし、あるいは含有
させたままでもよい。該塩類を除去する場合には、リサ
ーチ・ディスクロージャー阻17643I[項(197
8年12月)に記載の方法に基づいて行うことができる
。
に不要な可溶性塩類を除去してもよいし、あるいは含有
させたままでもよい。該塩類を除去する場合には、リサ
ーチ・ディスクロージャー阻17643I[項(197
8年12月)に記載の方法に基づいて行うことができる
。
ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を存するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化!!組成が異なるコア/シェル粒子であって
もよい。
銀組成分布を存するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化!!組成が異なるコア/シェル粒子であって
もよい。
ハロゲン化銀乳剤は、いかなる粒子サイズ分布を持つも
のを用いても構わない0粒子サイズ分布の広い乳剤(多
分散乳剤と称する)を用いてもよいし、粒子サイズ分布
の狭い乳剤(単分散乳剤と称する。ここでいう単分散乳
剤とは、粒径の分布の標準偏差を平均粒径で割ったとき
に、その値が0.20以下のものをいう。ここで粒径は
球状のハロゲン化銀の場合はその直径を、球状以外の形
状の粒子の場合は、その投影像を同面積の円像に換算し
たときの直径を示す、)を単独又は数種混合してもよい
、又、多分散乳剤と単分散乳剤を混合して用いてもよい
。
のを用いても構わない0粒子サイズ分布の広い乳剤(多
分散乳剤と称する)を用いてもよいし、粒子サイズ分布
の狭い乳剤(単分散乳剤と称する。ここでいう単分散乳
剤とは、粒径の分布の標準偏差を平均粒径で割ったとき
に、その値が0.20以下のものをいう。ここで粒径は
球状のハロゲン化銀の場合はその直径を、球状以外の形
状の粒子の場合は、その投影像を同面積の円像に換算し
たときの直径を示す、)を単独又は数種混合してもよい
、又、多分散乳剤と単分散乳剤を混合して用いてもよい
。
また、本発明に用いられる乳剤は米国特許2996.3
82、同3,397,987、同3705.858に記
載の如く、感光性ハロゲン化銀乳剤と内部のかぶったハ
ロゲン化銀乳剤の混合乳剤もしくは別層に併用したもの
であってもよい。
82、同3,397,987、同3705.858に記
載の如く、感光性ハロゲン化銀乳剤と内部のかぶったハ
ロゲン化銀乳剤の混合乳剤もしくは別層に併用したもの
であってもよい。
ここで、特開昭61−48832に記載されたメルカプ
ト化合物を更に併用するとカブリの抑制、経時保存性の
改良などの点で好ましい。
ト化合物を更に併用するとカブリの抑制、経時保存性の
改良などの点で好ましい。
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類、例えばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベン
ズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロ
モベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メ
ルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダ
ゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリア
ゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロヘンシトリア
ゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1−フェニ
ル−5−メルカプトテトラゾール)など;メルカプトピ
リミジン類;メルカプトトリアジン類、たとえばオキサ
ドリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン類
、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデン類
(特に4−ヒドロキシW換(1,3,3a、7)テトラ
アザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼ
ンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼン
スルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定
剤として知られた、多くの化合物を加えることができる
。
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類、例えばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベン
ズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロ
モベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メ
ルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダ
ゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリア
ゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロヘンシトリア
ゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1−フェニ
ル−5−メルカプトテトラゾール)など;メルカプトピ
リミジン類;メルカプトトリアジン類、たとえばオキサ
ドリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン類
、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデン類
(特に4−ヒドロキシW換(1,3,3a、7)テトラ
アザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼ
ンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼン
スルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定
剤として知られた、多くの化合物を加えることができる
。
本発明の写真感材の親水性コロイド層にはアルキルアク
リレートのホモポリマー又はコポリマー塩化ビニリデン
のコポリマーの如く当業界でよく知られたポリマーラテ
ックスを含有せしめることが出来る。ポリマーラテック
スは特開昭61−230136号に記載のごとくノニオ
ン界面活性剤で予め安定化されていてもよい。
リレートのホモポリマー又はコポリマー塩化ビニリデン
のコポリマーの如く当業界でよく知られたポリマーラテ
ックスを含有せしめることが出来る。ポリマーラテック
スは特開昭61−230136号に記載のごとくノニオ
ン界面活性剤で予め安定化されていてもよい。
本発明の写真感光材料の写真乳剤層には怒度上昇、コン
トラスト上昇、または現像促進の目的でたとえばポリア
ルキレンオキノドまたはそのエーテル、エステル、アミ
ンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルフォリ
ン類、四級アンモニラム塩化合物、ウレタン誘導体、尿
素誘導体、イミダゾール誘導体、3−ピラゾリドン類等
を含んでもよい。
トラスト上昇、または現像促進の目的でたとえばポリア
ルキレンオキノドまたはそのエーテル、エステル、アミ
ンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルフォリ
ン類、四級アンモニラム塩化合物、ウレタン誘導体、尿
素誘導体、イミダゾール誘導体、3−ピラゾリドン類等
を含んでもよい。
本発明に用いられる写真乳剤は、メチン色素類その他に
よって分光増感されてもよい。用いられる色素には、シ
アニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色素、複
合メロシアニン色素、ホロポーラ−シアニン色素、ヘミ
シアニン色素、スチリル色素およびヘミオキソノール色
素が包含される。特に有用な色素は、シアニン色素、メ
ロシアニン色素、および複合メロシアニン色素に属する
色素である。
よって分光増感されてもよい。用いられる色素には、シ
アニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色素、複
合メロシアニン色素、ホロポーラ−シアニン色素、ヘミ
シアニン色素、スチリル色素およびヘミオキソノール色
素が包含される。特に有用な色素は、シアニン色素、メ
ロシアニン色素、および複合メロシアニン色素に属する
色素である。
本発明に用いる支持体には、アンチハレーション層を設
けることもできる。この目的のためにはカーボンブラッ
クあるいは各種の染料、例えば、オキソノール染料、ア
ブ染料、アリ−リチン染料、スチリル染料、アントラキ
ノン染料、メロシアニン染料及びトリ(又はジ)アリル
メタン染料等があげられる。その場合に染料がアンチハ
レーション層から拡散しないようにカチオン性ポリマー
又はラテックスを使用してもよい。
けることもできる。この目的のためにはカーボンブラッ
クあるいは各種の染料、例えば、オキソノール染料、ア
ブ染料、アリ−リチン染料、スチリル染料、アントラキ
ノン染料、メロシアニン染料及びトリ(又はジ)アリル
メタン染料等があげられる。その場合に染料がアンチハ
レーション層から拡散しないようにカチオン性ポリマー
又はラテックスを使用してもよい。
これらはリサーチ ディスクロージャ 176巻Nα1
7643.1項(1978年12月)に記載されている
。また、現像銀の色調を改良するために特開昭61−2
85445号に記載された如きのマゼンタ染料を用いて
もよい。
7643.1項(1978年12月)に記載されている
。また、現像銀の色調を改良するために特開昭61−2
85445号に記載された如きのマゼンタ染料を用いて
もよい。
本発明に用いられる親水性コロイド層にはコロイドソリ
力や硫酸バリウムストロンチウム、ポリメタクリル酸メ
チル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体、特
開昭63−216046号に記載のメタクリル酸メチル
−スチレンスルホン酸共重合体、特開昭61−2301
36号に記載のフッ素基を含有した粒子等からなるいわ
ゆるマット剤を用いることができる。
力や硫酸バリウムストロンチウム、ポリメタクリル酸メ
チル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体、特
開昭63−216046号に記載のメタクリル酸メチル
−スチレンスルホン酸共重合体、特開昭61−2301
36号に記載のフッ素基を含有した粒子等からなるいわ
ゆるマット剤を用いることができる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の構成層
に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例えばアル
デヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、ゲルタ
ールアルデヒドなど)、活性ビニル化合物(1,3,5
−トリアクリロイル−へキサヒドロ−5−)リアジン、
1.3−ビニルスルホニル−2−プロパツールなど)、
活性ハロゲン化in+ (2,4−ジクロル−6−ヒド
ロキシ−5−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ム
コクロル酸、ムコフェノキシクロル酸など)、などを単
独または組合わせて用いることができる。
に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例えばアル
デヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、ゲルタ
ールアルデヒドなど)、活性ビニル化合物(1,3,5
−トリアクリロイル−へキサヒドロ−5−)リアジン、
1.3−ビニルスルホニル−2−プロパツールなど)、
活性ハロゲン化in+ (2,4−ジクロル−6−ヒド
ロキシ−5−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ム
コクロル酸、ムコフェノキシクロル酸など)、などを単
独または組合わせて用いることができる。
好ましく用いられる硬膜剤は下記−形成で表わされるビ
ニルスルホン系化合物である。
ニルスルホン系化合物である。
(CH,=CH−3o□−CHz)−ZA式中、Aは2
価基を表わすがなくても良い。
価基を表わすがなくても良い。
本発明の写真感光材料は現像主薬を含有しうる。
現像主薬として、リサーチ・ディスクロージャー第17
6巻、29頁の’Develophing agent
s」の項に記載されているものが用いられうる。
6巻、29頁の’Develophing agent
s」の項に記載されているものが用いられうる。
特にハイドロキノン、ピラゾリドン類は好ましく用いら
れる。
れる。
本発明においては、イエロー、シアン、マゼンタに発色
するカプラーを用いてもよく、例えば特開昭62−21
5272号に詳細に記載しである。
するカプラーを用いてもよく、例えば特開昭62−21
5272号に詳細に記載しである。
本発明においては、写真感光材料を構成する層を付与す
るための塗布方法は、特に限定されるものではなく、例
えば、バー塗布法、ロール塗布法、ナイフ塗布法、流し
塗布法(カーテン塗布法)、グラビア塗布法、噴i塗布
法、浸漬塗布法や押し出し塗布法等の従来技術を挙げる
ことができる。
るための塗布方法は、特に限定されるものではなく、例
えば、バー塗布法、ロール塗布法、ナイフ塗布法、流し
塗布法(カーテン塗布法)、グラビア塗布法、噴i塗布
法、浸漬塗布法や押し出し塗布法等の従来技術を挙げる
ことができる。
本発明の写真感光材料の現像処理には銀画像を形成する
処理(黒白現像処理)、あるいは色画像を形成する現像
処理のいずれであっても良い、もし反転法で作画する場
合にはまず黒白ネガ現像工程を行ない、次いで白色露光
を与えるか、あるいはカブリ剤を含有する浴で処理しカ
ラー現像処理を行なう、(又感光材料中に色素を含有さ
せておき、露光後黒白現像処理工程を施し1艮画像を作
り、これを漂白触媒として色素を漂白する銀色素漂白を
用いてもよい、) 黒白現像処理としては、現像処理工程、定着処理工程、
水洗処理工程がなされる。現像処理工程後、停止処理工
程を行ったり定着処理工程後、安定化処理工程を施す場
合は、水洗処理工程が省略される場合がある。また現像
主薬またはそのプレカーサーを感光材料中に内蔵し、現
像処理工程をアルカリ液のみで行っても良い。現像液と
してリス現像液を用いた現像処理工程を行ってもよい。
処理(黒白現像処理)、あるいは色画像を形成する現像
処理のいずれであっても良い、もし反転法で作画する場
合にはまず黒白ネガ現像工程を行ない、次いで白色露光
を与えるか、あるいはカブリ剤を含有する浴で処理しカ
ラー現像処理を行なう、(又感光材料中に色素を含有さ
せておき、露光後黒白現像処理工程を施し1艮画像を作
り、これを漂白触媒として色素を漂白する銀色素漂白を
用いてもよい、) 黒白現像処理としては、現像処理工程、定着処理工程、
水洗処理工程がなされる。現像処理工程後、停止処理工
程を行ったり定着処理工程後、安定化処理工程を施す場
合は、水洗処理工程が省略される場合がある。また現像
主薬またはそのプレカーサーを感光材料中に内蔵し、現
像処理工程をアルカリ液のみで行っても良い。現像液と
してリス現像液を用いた現像処理工程を行ってもよい。
カラー現像処理は、発色現像処理工程、漂白処理工程、
定着処理工程、水洗処理工程及び必要に応じて安定化処
理工程を行うが、漂白液を用いた処理工程と定着液を用
いた処理工程の代わりに、■浴漂白定着液を用いて、漂
白定着処理工程を行うこともできるし、発色現像、漂白
、定着を1浴中で行うことができる1浴現像漂白定着処
理液を用いたモノバス処理工程を行うこともできる。
定着処理工程、水洗処理工程及び必要に応じて安定化処
理工程を行うが、漂白液を用いた処理工程と定着液を用
いた処理工程の代わりに、■浴漂白定着液を用いて、漂
白定着処理工程を行うこともできるし、発色現像、漂白
、定着を1浴中で行うことができる1浴現像漂白定着処
理液を用いたモノバス処理工程を行うこともできる。
これらの処理工程に組み合わせて前硬膜処理工程、その
中和工程、停止定着処理工程、後便膜処理工程等を行っ
てもよい、これら処理において発色現像処理工程の代わ
りに発色現像主薬、またはそのプレカーサーを材料中に
含有させておき現像処理をアクチベータ液で行うアクチ
ベータ処理工程を行ってもよいし、そのモノバス処理に
アクチベーター処理を適用することができる。
中和工程、停止定着処理工程、後便膜処理工程等を行っ
てもよい、これら処理において発色現像処理工程の代わ
りに発色現像主薬、またはそのプレカーサーを材料中に
含有させておき現像処理をアクチベータ液で行うアクチ
ベータ処理工程を行ってもよいし、そのモノバス処理に
アクチベーター処理を適用することができる。
処理温度は通常、10°C〜65°Cの範囲に選ばれる
が、65°Cをこえる温度としてもよい、好ましくは2
5°C〜45°Cで処理される。
が、65°Cをこえる温度としてもよい、好ましくは2
5°C〜45°Cで処理される。
黒白現像処理に用いられる黒白現像液は通常知られてい
る黒白写真怒光材料の処理に用いられるものであり、一
般に黒白現像液に添加される各種の添加剤を含有せしめ
ることができる。
る黒白写真怒光材料の処理に用いられるものであり、一
般に黒白現像液に添加される各種の添加剤を含有せしめ
ることができる。
代表的な添加剤としてはl−フェニル−3−ピラゾリド
ン、メトール及びハイドロキノンのような現像主薬、亜
硫酸塩のような保恒剤、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリからなる促進剤、臭化
カリウムや2−メチルベンツイミダゾール、メチルベン
ツチアゾール等の無機性、もしくは育機性の抑制剤、ポ
リリン塩酸のような硬水軟化剤、微量の沃化物やメルカ
プト化合物からなる表面過現像防止剤等を挙げることが
できる。
ン、メトール及びハイドロキノンのような現像主薬、亜
硫酸塩のような保恒剤、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリからなる促進剤、臭化
カリウムや2−メチルベンツイミダゾール、メチルベン
ツチアゾール等の無機性、もしくは育機性の抑制剤、ポ
リリン塩酸のような硬水軟化剤、微量の沃化物やメルカ
プト化合物からなる表面過現像防止剤等を挙げることが
できる。
又、X−レイ窓材に於いては従来現像処理時間の短縮化
が活発である。更には又処理の簡易化手段も開発されて
来ており、本発明の化合物はこれらの最近の処理技術に
対して極めて優れた写真感光材料を提供することができ
る。
が活発である。更には又処理の簡易化手段も開発されて
来ており、本発明の化合物はこれらの最近の処理技術に
対して極めて優れた写真感光材料を提供することができ
る。
以下に実施例を挙げて本発明を例証するが本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例1
(1)単分散ハロゲン化銀乳剤の調製
ゼラチンと臭化カリウムと水が入った55°Cに加温さ
れた容器に適当量のアンモニアを入れた後、反応容器中
のPAg値を7.60に保ちつつ硝酸銀水溶液と銀に対
するイリジウムのモル比で101モルとなるようにヘキ
サクロロイリジウム(I[[)酸塩を添加した臭化カリ
ウム水溶液とをダブルジェット法により添加して平均粒
子サイズが0. 55μの単分散臭化銀乳剤粒子を調製
した。この乳剤粒子は、平均粒子サイズの±40%以内
に全粒子数の98%が存在していた。この乳剤を脱塩処
理後、pHを6.2、PAgを8.6に合わせてからチ
オ硫酸ナトリウムと塩化金酸とにより金・硫黄増感を行
ない所望の写真性を得た。
れた容器に適当量のアンモニアを入れた後、反応容器中
のPAg値を7.60に保ちつつ硝酸銀水溶液と銀に対
するイリジウムのモル比で101モルとなるようにヘキ
サクロロイリジウム(I[[)酸塩を添加した臭化カリ
ウム水溶液とをダブルジェット法により添加して平均粒
子サイズが0. 55μの単分散臭化銀乳剤粒子を調製
した。この乳剤粒子は、平均粒子サイズの±40%以内
に全粒子数の98%が存在していた。この乳剤を脱塩処
理後、pHを6.2、PAgを8.6に合わせてからチ
オ硫酸ナトリウムと塩化金酸とにより金・硫黄増感を行
ない所望の写真性を得た。
この乳剤の(100)面/ (111)面比率をクベル
カムンク法で測定したところ98/2であった。この乳
剤をAと命名した。
カムンク法で測定したところ98/2であった。この乳
剤をAと命名した。
次にAから粒子形成前に添加するアンモニア量を減らす
だけの変更を行なって平均粒子サイズが0.35μ及び
0.25μの単分散乳剤B及びCを調製した。
だけの変更を行なって平均粒子サイズが0.35μ及び
0.25μの単分散乳剤B及びCを調製した。
(2) 乳剤塗布液のU@製
乳剤A、B、Cの各0.333kgを40°Cに加温し
て乳剤を溶解後赤外域増悪色素(下記の構造式A)のメ
タノールリン容液(9X 10−’moj!/jりを7
0cc、強色増感剤4.4′−ビス(4,6−ジ(ナフ
チル−2−オキシ)ピリミジン−2−イルアミノコスチ
ルベン−2,2′−ジスルホン酸ジナトリウム塩(4,
4X10−ffmof/jり水溶液(4,4X10−3
慣oj!//り90cc、下記の構造式Bのメタノール
溶液(2,8X 10−”mo1/jり 35cc、
4−ヒドロキン−6−メチル−13,3a、7−チト
ラザインデン水溶液、塗布助剤ドデシルベンゼンスルフ
ォン酸塩の水溶液、増粘剤ポリボタシウムーp−スチレ
ンスルフォネート化合物の水溶液を添加して乳剤塗布液
とした。
て乳剤を溶解後赤外域増悪色素(下記の構造式A)のメ
タノールリン容液(9X 10−’moj!/jりを7
0cc、強色増感剤4.4′−ビス(4,6−ジ(ナフ
チル−2−オキシ)ピリミジン−2−イルアミノコスチ
ルベン−2,2′−ジスルホン酸ジナトリウム塩(4,
4X10−ffmof/jり水溶液(4,4X10−3
慣oj!//り90cc、下記の構造式Bのメタノール
溶液(2,8X 10−”mo1/jり 35cc、
4−ヒドロキン−6−メチル−13,3a、7−チト
ラザインデン水溶液、塗布助剤ドデシルベンゼンスルフ
ォン酸塩の水溶液、増粘剤ポリボタシウムーp−スチレ
ンスルフォネート化合物の水溶液を添加して乳剤塗布液
とした。
構造式A
構造式B
S○、e
CH,CH=CH。
(3)感材層の表面保護層用塗布液の調製40°Cに加
温された1 0wt%ゼラチン水溶液(0,9g/ポ)
に、ポリアクリルアミド水溶液(分子量4万)(0,1
g/ポ)、増粘剤ポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶
液、マント剤ポリメチルメタクリレート(平均粒径2.
0μm)、W’ffJfH,N′−エチレンビス−(ビ
ニルスルホニルアセトアミド)、塗布助剤L−オクチル
フェノキシエトキシエトキシエタンスルフォン酸ナトリ
ウム水溶液(20mg/%)及び下記化合物を添加して
塗布液とした。
温された1 0wt%ゼラチン水溶液(0,9g/ポ)
に、ポリアクリルアミド水溶液(分子量4万)(0,1
g/ポ)、増粘剤ポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶
液、マント剤ポリメチルメタクリレート(平均粒径2.
0μm)、W’ffJfH,N′−エチレンビス−(ビ
ニルスルホニルアセトアミド)、塗布助剤L−オクチル
フェノキシエトキシエトキシエタンスルフォン酸ナトリ
ウム水溶液(20mg/%)及び下記化合物を添加して
塗布液とした。
c、F、、so、K(1mg/rr?)ffH7
capl?5o2N−(−cl!12o−)r−十GH
z +rSOJa(1+ng/rrr) (4)バック塗布液の調製 40°Cに加温された1 0wL%のゼラチン水溶液(
xooImg/n()に増粘剤ポリスチレンスルフオン
酸ソーダ水溶液、構造式Cの染料水溶液(5×104モ
ル/jlり50cc、塗布助剤t−オクチルフェノキシ
エトキシエトキシエタンスルフオン酸ナトリウム水溶液
を加えた。この溶液に一般式(1)又は(I[[)にお
いてX、、X、部分がモノマー構造である本発明に用い
られる高分子化合物を表1に示したごとく添加して溶解
し、これに重合開始剤としてKPSを本発明の化合物に
対して0.5wt%添加して溶解した。また場合によっ
ては金属イオンの塩を添加、溶解した。さらにこの?容
ン夜に水をカロえてゼラチンが5wt%になるように塗
布液を調整した。(表の1−2.1−3.1−6)同様
にして1−4、■−5,1−7では本発明に用いられる
高分子化合物を表1に示したごとく添加して溶解させ、
これに光重合開始剤としてアセトフェノンのメタノール
溶液(tfi度2wt%)を本発明に用いられる高分子
化合物に対して0.1wt%添加し、また場合によって
は金属イオンの塩を添加し、溶解した。さらにこの溶液
に水を加えてゼラチンが5wt%になるように塗布液を
調整した。(表1,1−4.1−5.1−7)また比較
化合物においては上記ゼラチン10wt%の溶液に表1
1−8〜1−12のごとく添加、溶解させ、場合によっ
ては金属イオンの塩を加え、さらに水を加えてゼラチン
が5wt%になるように塗布液を調整した。表1 1−
1は未添加のコントロール実験である。
z +rSOJa(1+ng/rrr) (4)バック塗布液の調製 40°Cに加温された1 0wL%のゼラチン水溶液(
xooImg/n()に増粘剤ポリスチレンスルフオン
酸ソーダ水溶液、構造式Cの染料水溶液(5×104モ
ル/jlり50cc、塗布助剤t−オクチルフェノキシ
エトキシエトキシエタンスルフオン酸ナトリウム水溶液
を加えた。この溶液に一般式(1)又は(I[[)にお
いてX、、X、部分がモノマー構造である本発明に用い
られる高分子化合物を表1に示したごとく添加して溶解
し、これに重合開始剤としてKPSを本発明の化合物に
対して0.5wt%添加して溶解した。また場合によっ
ては金属イオンの塩を添加、溶解した。さらにこの?容
ン夜に水をカロえてゼラチンが5wt%になるように塗
布液を調整した。(表の1−2.1−3.1−6)同様
にして1−4、■−5,1−7では本発明に用いられる
高分子化合物を表1に示したごとく添加して溶解させ、
これに光重合開始剤としてアセトフェノンのメタノール
溶液(tfi度2wt%)を本発明に用いられる高分子
化合物に対して0.1wt%添加し、また場合によって
は金属イオンの塩を添加し、溶解した。さらにこの溶液
に水を加えてゼラチンが5wt%になるように塗布液を
調整した。(表1,1−4.1−5.1−7)また比較
化合物においては上記ゼラチン10wt%の溶液に表1
1−8〜1−12のごとく添加、溶解させ、場合によっ
ては金属イオンの塩を加え、さらに水を加えてゼラチン
が5wt%になるように塗布液を調整した。表1 1−
1は未添加のコントロール実験である。
構造式C
(CHz)4(Cll□)4
so、e 5o3K(5)バック
層の表面保護層用塗布液の調製40゛Cに加温されたl
Qwt%ゼラチン水溶液(Ig/n()に増粘剤とし
てポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液(20■/r
+()、マント剤としてメチルメタクリレートスチレン
スルホン酸ソーダ(40mg/ボ)(モル比97:3L
塗布助剤としてL−オクチルフエノキシエトキシエトキ
シエタンスルフォン酸ナトリウム水溶液(20■/ホ)
及びp−ノニルフェノキシブチルスルホン酸ナトリウム
塩水溶液(12■/ホ)を添加して塗布液とした。
層の表面保護層用塗布液の調製40゛Cに加温されたl
Qwt%ゼラチン水溶液(Ig/n()に増粘剤とし
てポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液(20■/r
+()、マント剤としてメチルメタクリレートスチレン
スルホン酸ソーダ(40mg/ボ)(モル比97:3L
塗布助剤としてL−オクチルフエノキシエトキシエトキ
シエタンスルフォン酸ナトリウム水溶液(20■/ホ)
及びp−ノニルフェノキシブチルスルホン酸ナトリウム
塩水溶液(12■/ホ)を添加して塗布液とした。
(6)塗布試料の作成
表11−2.1−3.1−6においては前述のバック塗
布液をポリエチレンテレフタレート(PET)支持体の
一方の側に押出し塗布した後80°Cで4時間加熱して
重合させた後、表面保護層塗布液を塗布した。表11−
4.1−5、■−7においては前述のバンク塗布液をP
ET支持体の一方の側に押出し塗布した後30°Cで1
時間UV光を照射して光重合させた後、表面保護層塗布
液を塗布した。また比較例である表11−1.1〜8〜
1−12においては前述のバンク塗布液をバック層の表
面保護層塗布液とともにPET支持体の一方の側に押出
し塗布した。
布液をポリエチレンテレフタレート(PET)支持体の
一方の側に押出し塗布した後80°Cで4時間加熱して
重合させた後、表面保護層塗布液を塗布した。表11−
4.1−5、■−7においては前述のバンク塗布液をP
ET支持体の一方の側に押出し塗布した後30°Cで1
時間UV光を照射して光重合させた後、表面保護層塗布
液を塗布した。また比較例である表11−1.1〜8〜
1−12においては前述のバンク塗布液をバック層の表
面保護層塗布液とともにPET支持体の一方の側に押出
し塗布した。
これに続いて支持体の反対の側に(2)で述べた赤外増
感色素入りの乳剤塗布液とこれ用の表面保護層塗布液と
を塗布銀量が3.5g/ボとなるように塗布した。なお
、その他の添加物の添加量は前記した(g/rrr)ま
たは(■/ホ)で示した。得られた試料フィルムを後述
する方法で、それぞれおよびウレタンローン及びナイロ
ンに対するスタチックマーク、画像ムラ、定着液の汚染
性、塗布資料のブツ数を調べた。
感色素入りの乳剤塗布液とこれ用の表面保護層塗布液と
を塗布銀量が3.5g/ボとなるように塗布した。なお
、その他の添加物の添加量は前記した(g/rrr)ま
たは(■/ホ)で示した。得られた試料フィルムを後述
する方法で、それぞれおよびウレタンローン及びナイロ
ンに対するスタチックマーク、画像ムラ、定着液の汚染
性、塗布資料のブツ数を調べた。
(7)現像液及び定着液の組成は次の通りである。
〈現像液〉
水酸化カリウム 17g亜硫酸ナ
トリウム 60gジエチレントリ
アミン五酢酸 2g炭酸カリ
5gホウ酸
3gヒドロキノン
35gジエチレングリコール
12g4−ヒドロキシメチル−4−メチ ル−1−フェニル−3−ピラゾ リドン 1.65g5−メ
チルベンゾトリアゾール 0.6g1.8g 酢酸 臭化カリウム 2g水でI
nとする(pH10,50に調整する。)〈定着液〉 チオ硫酸アンモニウム 140g亜硫酸ナ
トリウム 15gエチレンジアミ
ン四酢酸・ニナト リウム・二水塩 25■水酸化ナト
リウム 6g水で11とする(
酢酸でpn 4.95に調整する)。
トリウム 60gジエチレントリ
アミン五酢酸 2g炭酸カリ
5gホウ酸
3gヒドロキノン
35gジエチレングリコール
12g4−ヒドロキシメチル−4−メチ ル−1−フェニル−3−ピラゾ リドン 1.65g5−メ
チルベンゾトリアゾール 0.6g1.8g 酢酸 臭化カリウム 2g水でI
nとする(pH10,50に調整する。)〈定着液〉 チオ硫酸アンモニウム 140g亜硫酸ナ
トリウム 15gエチレンジアミ
ン四酢酸・ニナト リウム・二水塩 25■水酸化ナト
リウム 6g水で11とする(
酢酸でpn 4.95に調整する)。
現像工程は以下の通りである。
処理温度 時間
現 像 35°C11,5秒
定 着 35’CI2.5秒水 洗
20°C7,5秒 乾 燥 60“C Dry to Dry処理時間 60秒(8)
スタチックマークの評価 未露光の試料を25°C110%RHで2時間調湿した
後、同一空調条件の暗室中において、試料を、対素材に
対してそのスタチックマークがどのようになるかを調べ
るべくウレタンゴムローラー及びナイロンゴムローラー
で摩擦した後、前述の方法で現像処理した。
20°C7,5秒 乾 燥 60“C Dry to Dry処理時間 60秒(8)
スタチックマークの評価 未露光の試料を25°C110%RHで2時間調湿した
後、同一空調条件の暗室中において、試料を、対素材に
対してそのスタチックマークがどのようになるかを調べ
るべくウレタンゴムローラー及びナイロンゴムローラー
で摩擦した後、前述の方法で現像処理した。
そのスタチックマーク発生度の評価は以下の4段階に分
けて行った。
けて行った。
A:スタチックマークの発生が全く認められずB:
少し認められるC:
かなり認められる D= はぼ全面に認められる (9)画像ムラ評価 試料フィルム25cmX30cmに現像処理後の画像濃
度がマクベス濃度計で濃度1.5になるように赤外光を
照射し、前述の現像・定着・水洗・乾燥を行ないその画
像上のムラを以下の4段階で評価した。
少し認められるC:
かなり認められる D= はぼ全面に認められる (9)画像ムラ評価 試料フィルム25cmX30cmに現像処理後の画像濃
度がマクベス濃度計で濃度1.5になるように赤外光を
照射し、前述の現像・定着・水洗・乾燥を行ないその画
像上のムラを以下の4段階で評価した。
A:画像ムラが全く認められない。
B: 少し認められる。
C: かなり認められる。
D: 全面に認められる。
00)定着液汚染性評価
マクヘス濃度計で濃度1. 5になるように赤外露光さ
れた試料25cmX30cmを、新しく調液された現像
液、定着液を用いて500枚現像処理した。そして定着
液中に浮遊して来る不溶解骨を以下の4段階で評価した
。
れた試料25cmX30cmを、新しく調液された現像
液、定着液を用いて500枚現像処理した。そして定着
液中に浮遊して来る不溶解骨を以下の4段階で評価した
。
なお現像液及び定着液の補充量は各々50ec/枚及び
60cc/枚である。
60cc/枚である。
A:浮遊物が全く認められない
B: 〃 わずかに認められる
C: 、 かなり
D: 激しく
(1υ 塗布性の評価
塗布性の評価はフィルム1平方メートル当たりの乳剤層
側のブツの数で示した。数値の大きい程塗布性は悪い。
側のブツの数で示した。数値の大きい程塗布性は悪い。
比較化合物A
C+allzxOイC1l□CHJ)i了H比較化合物
B H 比較化合物C Hx Hz Cilli−0−(CHtCHzO)rr−(CHzC
HO)”r CH3(Mw中2500) 比較化合物D 0+C11tCH!0+−rCH3 千P=N −+− 0−(−C1l□C1l□0すy−CI+3(Mw+5
0000) 表1のごとく本発明の化合物を用いた試料■−2〜I−
7は、スタチックマークの発生もなく画像ムラと定着液
汚染性の全くないものであり又塗布性も良好なものであ
った。
B H 比較化合物C Hx Hz Cilli−0−(CHtCHzO)rr−(CHzC
HO)”r CH3(Mw中2500) 比較化合物D 0+C11tCH!0+−rCH3 千P=N −+− 0−(−C1l□C1l□0すy−CI+3(Mw+5
0000) 表1のごとく本発明の化合物を用いた試料■−2〜I−
7は、スタチックマークの発生もなく画像ムラと定着液
汚染性の全くないものであり又塗布性も良好なものであ
った。
一方、試料夏−1(コントロール)は、本発明の化合物
を含有していないためにスタチックマークと画像ムラが
悪く画像として問題であった。又比較試料1−8.1−
10はポリオキシエチレン基を有するノニオン界面活性
剤を含有した試料であるが、画像ムラと定着液汚染性の
点で本発明に比べ著しく劣る。更に又比較試料r−IL
f−12は本発明の化合物に類似しているが、画像ムラ
と定着液汚染の点で大きく劣っている。又グリシドール
系の化合物を使用した試料1−9はスタチックマークの
点で大きく劣るものであった。
を含有していないためにスタチックマークと画像ムラが
悪く画像として問題であった。又比較試料1−8.1−
10はポリオキシエチレン基を有するノニオン界面活性
剤を含有した試料であるが、画像ムラと定着液汚染性の
点で本発明に比べ著しく劣る。更に又比較試料r−IL
f−12は本発明の化合物に類似しているが、画像ムラ
と定着液汚染の点で大きく劣っている。又グリシドール
系の化合物を使用した試料1−9はスタチックマークの
点で大きく劣るものであった。
以上述べたごとく本発明の化合物を用いて作成した試料
フィルムは、スタチックマーク、画像ムラ、定着液汚染
性、塗布性すべてを満足するものであり、本発明が著し
く優れたものであることは明白である。
フィルムは、スタチックマーク、画像ムラ、定着液汚染
性、塗布性すべてを満足するものであり、本発明が著し
く優れたものであることは明白である。
更に、試料1−2〜7においてKPSを除き、塗布後の
加熱を100°Cで5時間行った以外は、試料1−2〜
7に準じて、試料l−13〜18を作成、評価したとこ
ろ、それぞれ同様の効果が得られた。
加熱を100°Cで5時間行った以外は、試料1−2〜
7に準じて、試料l−13〜18を作成、評価したとこ
ろ、それぞれ同様の効果が得られた。
実施例2
2−1)乳剤層側の下塗り
イ)ポリ(メタクリル酸メチルーコーアクリル酸エチル
ーコーアクリル酸の合成 攪拌装置と還流管を取り付けた12三ツロフラスコに硝
酸ドデシルナトリウム1.5gをはかりとり、水300
ccに溶解させる0次いで、反応容器を窒素気流下7
5°Cまで昇温し、20 Orpmで攪拌する。ここに
、3%過硫酸カリウム水溶液40gを加え、次いでメタ
クリル酸メチル150gアクリル酸エチル87.5g、
アクリル酸12゜5gの混合溶液を、3時間かけ滴下し
た0滴下開始後30分毎に、計6回3%過硫酸カリウム
10gを加えた。単量体混合物の滴下終了後さらに2時
間反応容器を75°Cに保ち、平均分子1250000
の共重合体の水性分散物を得た。この水性分散別を10
%水酸化カリウム水溶液で中和し、PH7,0に調製し
た。
ーコーアクリル酸の合成 攪拌装置と還流管を取り付けた12三ツロフラスコに硝
酸ドデシルナトリウム1.5gをはかりとり、水300
ccに溶解させる0次いで、反応容器を窒素気流下7
5°Cまで昇温し、20 Orpmで攪拌する。ここに
、3%過硫酸カリウム水溶液40gを加え、次いでメタ
クリル酸メチル150gアクリル酸エチル87.5g、
アクリル酸12゜5gの混合溶液を、3時間かけ滴下し
た0滴下開始後30分毎に、計6回3%過硫酸カリウム
10gを加えた。単量体混合物の滴下終了後さらに2時
間反応容器を75°Cに保ち、平均分子1250000
の共重合体の水性分散物を得た。この水性分散別を10
%水酸化カリウム水溶液で中和し、PH7,0に調製し
た。
口)乳剤層側下塗り第り層の作成
前述の共重合体の水性分散物中に、2.4−ジクロロ−
6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩
を共重合体の4重量%添加し、さらに各水準共に平均粒
径2μのポリスチレン微粒子が1.0■/ホ塗布される
ようにポリスチレン微粒子を添加した液を下塗第1N用
塗布液とした。
6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩
を共重合体の4重量%添加し、さらに各水準共に平均粒
径2μのポリスチレン微粒子が1.0■/ホ塗布される
ようにポリスチレン微粒子を添加した液を下塗第1N用
塗布液とした。
厚さIOQμ、巾30cmの2軸延沖ポリエチレンテレ
フタレートフイルムを、下記の条件でコロナ放電処理を
した。フィルム搬送速度は30m/分、コロナ放電電極
をポリエチレンテレフタレートフィルムとの間隙は1.
8mm、電力は200ワツトであった。コロナ放電処理
されたポリエチレンテレフタレートの上に、上記の方法
で合成した共重合体の水性分散物を両面に0.1μmの
乾燥膜厚になるようにバーコータ法で塗布し、185°
Cで乾燥した。この層を下塗第1層と呼ぶ。
フタレートフイルムを、下記の条件でコロナ放電処理を
した。フィルム搬送速度は30m/分、コロナ放電電極
をポリエチレンテレフタレートフィルムとの間隙は1.
8mm、電力は200ワツトであった。コロナ放電処理
されたポリエチレンテレフタレートの上に、上記の方法
で合成した共重合体の水性分散物を両面に0.1μmの
乾燥膜厚になるようにバーコータ法で塗布し、185°
Cで乾燥した。この層を下塗第1層と呼ぶ。
ハ)乳剤層側下塗第2層の作成
口)で作成した乳剤層側下塗第1層の上に、フィルム搬
送速度30m/分、コロナ放電電機をフィルムとの間融
を1.8an、ij力を120ワンドでコロナ放電処理
し、その上に塩化ビニリデン:メチルメクアクリレート
:メチルアクリレート:アクリロニトリル=90:5:
4:1、重量%の共重合体の水性分散液0.4μmの乾
燥膜厚になるようにグラビアコーターで塗布し、120
°Cで乾燥した。
送速度30m/分、コロナ放電電機をフィルムとの間融
を1.8an、ij力を120ワンドでコロナ放電処理
し、その上に塩化ビニリデン:メチルメクアクリレート
:メチルアクリレート:アクリロニトリル=90:5:
4:1、重量%の共重合体の水性分散液0.4μmの乾
燥膜厚になるようにグラビアコーターで塗布し、120
°Cで乾燥した。
二)乳剤層側下塗第3層の作成
前記で作成した下塗第2層の上に、フィルム搬送速度3
0m/分、コロナ放電電極とポリエチレンテレフタレー
トフィルムとの間隙を1.8mmt力を250ワツトで
処理し、その上に下塗第3層として下記処方ニーa)の
下塗液を20d/rrrになるように押し出し法で塗布
し、170°Cで乾燥して乳剤層側下塗第3層を作成し
た。
0m/分、コロナ放電電極とポリエチレンテレフタレー
トフィルムとの間隙を1.8mmt力を250ワツトで
処理し、その上に下塗第3層として下記処方ニーa)の
下塗液を20d/rrrになるように押し出し法で塗布
し、170°Cで乾燥して乳剤層側下塗第3層を作成し
た。
ニーa)乳剤層側下塗筒3層用塗布液処方Φゼラチン
i、 o重量%・メチルセルロース
0.05重f%・C,!H2SO−+C)I
IClhO)16+1 0. 0.3 ’・水を加え
て 100以上のごとくにして、乳剤
層側下塗りを付与した。
i、 o重量%・メチルセルロース
0.05重f%・C,!H2SO−+C)I
IClhO)16+1 0. 0.3 ’・水を加え
て 100以上のごとくにして、乳剤
層側下塗りを付与した。
2−2)バック層側の下塗り
イ)バック層側下塗り第1層の作成
5−1)で作成した乳剤層側下塗り済みのポリエチレン
テレフタレートフィルムの反対側に、乳剤層側下塗り第
1層と全く同様にして、バック層側下塗り第1層を付与
した。
テレフタレートフィルムの反対側に、乳剤層側下塗り第
1層と全く同様にして、バック層側下塗り第1層を付与
した。
口)バック層側下塗り第2層の作成
前項イ)で得られたバンク層側下塗り第1層の上に、乳
剤層側下塗り第2Nと全く同様にしてバック層側下塗り
第2Nを作成した。
剤層側下塗り第2Nと全く同様にしてバック層側下塗り
第2Nを作成した。
ハ)バック層側下塗り第3層の作成
前記のバック層側下塗り第2層の上にフィルム搬送速度
330m/分、コロナ放電電極とフィルムとの間隙を1
.8mm、電力を250ワンドで処理し、その上に下記
処方バー■の塗布液を20d/rrfとなるように塗布
した。さらに実施例2−2〜2−5では80°Cで4時
間加熱重合させ、26〜2−7では30°CT:1時間
UV光を照射させて重合せしめ、バンク層側の下塗り第
3層を作成した。
330m/分、コロナ放電電極とフィルムとの間隙を1
.8mm、電力を250ワンドで処理し、その上に下記
処方バー■の塗布液を20d/rrfとなるように塗布
した。さらに実施例2−2〜2−5では80°Cで4時
間加熱重合させ、26〜2−7では30°CT:1時間
UV光を照射させて重合せしめ、バンク層側の下塗り第
3層を作成した。
バー■)バック層側下塗り第3層用塗布液処方中本発明
の化合物又は 実施例1と全く同比較化合物(実施
例 −の添加量となる1と同様)の方法で よ
うに濃度を調整添加した。 した。
の化合物又は 実施例1と全く同比較化合物(実施
例 −の添加量となる1と同様)の方法で よ
うに濃度を調整添加した。 した。
φ熱重合開始剤KPS
(実施例1と同様に
して添加2−2〜2
5)
・光重合開始剤アセト
ンフェノン(実施例
1と同様にして添加
2−6〜2−7)
・水を加えて 100重量%2〜3)
ハロゲン化銀乳剤層処方 50°Cに保ったゼラチン水溶液中に111モルあたり
2X10−’モルの塩化ロジウムの存在下で硝酸銀水溶
液と塩化ナトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を
同時に一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0
.2μの塩臭化銀単分散乳剤を調製した。(C1組成9
5モル%)この乳剤をフロキュレーション法により脱塩
を行ない、銀1モルあたり1■のチオ尿素ジオキサイド
および0. 6mgの塩化金酸を加え、65°Cで最高
性能が得みれるまで熟成しかぶりを生ゼしめた。
ハロゲン化銀乳剤層処方 50°Cに保ったゼラチン水溶液中に111モルあたり
2X10−’モルの塩化ロジウムの存在下で硝酸銀水溶
液と塩化ナトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を
同時に一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0
.2μの塩臭化銀単分散乳剤を調製した。(C1組成9
5モル%)この乳剤をフロキュレーション法により脱塩
を行ない、銀1モルあたり1■のチオ尿素ジオキサイド
および0. 6mgの塩化金酸を加え、65°Cで最高
性能が得みれるまで熟成しかぶりを生ゼしめた。
こうして得られた乳剤に更に下記化合物を添加した。
n−C+zHts N(h
2X10−”モル/Ag1モル
KBr 20■
/イボリスチレンスルフオン酸 ナトリウム塩 40mg/ポ26−
ジクロロ−6−ヒ ドロキシ−1,3,5〜 トリアジンナトリウム塩 30M/n(この塗布
液を塗布銀i13.5g/ボとなる様塗布した。
/イボリスチレンスルフオン酸 ナトリウム塩 40mg/ポ26−
ジクロロ−6−ヒ ドロキシ−1,3,5〜 トリアジンナトリウム塩 30M/n(この塗布
液を塗布銀i13.5g/ボとなる様塗布した。
2−4)乳剤保護層処方
ゼラチン 1.5g/イSin、
微粒子(平均粒径4μ) 50mg/ポドデシルヘン
ゼンスルホン酸 ナトリウム塩 50■/n(5−ニ
トロインダゾール 1.3−ジビニルスルホニル 2−プロパツール N−パーフルオロオフタンス ルホニルーN−プロピルグ リシンボタジウム塩 エチルアクリレ−トラチック ス(平均粒径O01μ) 15■/ポ 50mg/ポ 2■/ボ 300mg/nf 2−5)バンク層処方 ゼラチン 2.5g/イ C11コーC−C= CI+ 11 CG C113 111 40mg/n( 80■/ポ 1.3−ジビニルスルホニル 2−プロパノール エチルアクリレートラテンク ス(平均粒径0,1μ) ジヘキシルーα−スルホサク ナートナトリウム塩 ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 2−6)バンク保護層処方 ゼラチン ポリメチルメタクリレート微 粒子(平均粒径3μ) ジヘキシルーα−スルホサク 150■/イ 900■/ボ 35mg/イ 35■/ポ 0.8g/ポ 20ff1g/ボ ナートナトリウム塩 lO■/イドデシルベ
ンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 lO■/イ酢酸ナト
リウム 40■/ボ2−7)試料フィ
ルムの作成 前述した方法で得られた下塗り済みポリエチレンテレフ
タレートフィルムの乳剤層側下塗り層の上に順次ハロゲ
ン化銀乳剤層、乳剤保護層を押し出し法で塗布した0次
にバック層側下塗り層の上にバック層とバック保護層を
同時に押し出し塗布法で塗布して試料2−1〜2−12
を作成した。
微粒子(平均粒径4μ) 50mg/ポドデシルヘン
ゼンスルホン酸 ナトリウム塩 50■/n(5−ニ
トロインダゾール 1.3−ジビニルスルホニル 2−プロパツール N−パーフルオロオフタンス ルホニルーN−プロピルグ リシンボタジウム塩 エチルアクリレ−トラチック ス(平均粒径O01μ) 15■/ポ 50mg/ポ 2■/ボ 300mg/nf 2−5)バンク層処方 ゼラチン 2.5g/イ C11コーC−C= CI+ 11 CG C113 111 40mg/n( 80■/ポ 1.3−ジビニルスルホニル 2−プロパノール エチルアクリレートラテンク ス(平均粒径0,1μ) ジヘキシルーα−スルホサク ナートナトリウム塩 ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 2−6)バンク保護層処方 ゼラチン ポリメチルメタクリレート微 粒子(平均粒径3μ) ジヘキシルーα−スルホサク 150■/イ 900■/ボ 35mg/イ 35■/ポ 0.8g/ポ 20ff1g/ボ ナートナトリウム塩 lO■/イドデシルベ
ンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 lO■/イ酢酸ナト
リウム 40■/ボ2−7)試料フィ
ルムの作成 前述した方法で得られた下塗り済みポリエチレンテレフ
タレートフィルムの乳剤層側下塗り層の上に順次ハロゲ
ン化銀乳剤層、乳剤保護層を押し出し法で塗布した0次
にバック層側下塗り層の上にバック層とバック保護層を
同時に押し出し塗布法で塗布して試料2−1〜2−12
を作成した。
現像処理は、富士写真フィルム社製のFC−660自動
現像機を、現像液・定着液は同社製0RD−I GRF
−1を用いて、38°C20秒の処理条件でおこなった
。そのときの乾燥温度は45°Cであった。
現像機を、現像液・定着液は同社製0RD−I GRF
−1を用いて、38°C20秒の処理条件でおこなった
。そのときの乾燥温度は45°Cであった。
得られた試料2−1〜2−12をそれぞれ実施例1と同
様にして評価した。
様にして評価した。
本発明の試料2−2〜2−7はスタチックマーク、画像
ムラ、定着液lη染性、塗布性をすべて満足するもので
あり、又画像も優れたものであった。
ムラ、定着液lη染性、塗布性をすべて満足するもので
あり、又画像も優れたものであった。
一方、コントロール試料2−1や比較試料28〜2−1
2はこれらのすべてを満足させることはできず、本発明
が従来の技術に比べて優れていることは明白である。
2はこれらのすべてを満足させることはできず、本発明
が従来の技術に比べて優れていることは明白である。
(発明の効果)
本発明を実施することにより、スタチックマーク、画像
ムラ、処理液汚染性、塗布性を同時に満足することがで
きる。
ムラ、処理液汚染性、塗布性を同時に満足することがで
きる。
Claims (3)
- (1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を有する写真感光材料に於いて、該感光材料の構成層の
少なくとも一層がポリアルキレンオキシド基と重合性基
をともに含有するホスファゼンポリマーを含有する塗布
膜を重合せしめた層であることを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。 - (2)該感光材料の構成層の少なくとも一層が、該ポリ
マーと周期律表 I a又はIIa族に属する金属イオンの
塩を含有する塗布膜を重合せしめた層であることを特徴
とする請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (3)請求項1記載のホスファゼンポリマーを含有する
塗布膜を重合せしめることにより該感光材料の構成層の
少なくとも一層を形成することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13968689A JPH035749A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13968689A JPH035749A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035749A true JPH035749A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15251069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13968689A Pending JPH035749A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH035749A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007002527A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 重量蓋 |
| JP2010053894A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Micronics Japan Co Ltd | テーブル高さ調整機構及びこれを用いた高さ調整テーブル |
-
1989
- 1989-06-01 JP JP13968689A patent/JPH035749A/ja active Pending
Cited By (2)
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