JPH0357902B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なベンゾオキサゾロン誘導体に関
する。 本発明のベンゾオキサゾロン誘導体は、下記一
般式〔１〕で表わされる。 〔式中R₁はハロゲン原子、低級アルコキシ基及
び低級アルキル基から選ばれた置換基の１〜３個
を有することのあるフエニル基、R₂は低級アル
キル又は

【式】基（R₁は上記に 同じ）及びＡは低級アルコキシ基を示す〕 上記一般式〔１〕中R₁で定義される置換フエ
ニル基の置換基としてのハロゲン原子としては、
フツ素原子、臭素原子、塩素原子及び沃素原子
を、低級アルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル基等を、低級アルコキシ基としては、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、tert−
ブトキシ、ペンシルオキシ、ヘキシルオキシ基等
を夫々例示できる。R₂で定義される低級アルキ
ル基としても上記と同様のものを例示できる。ま
たＡで定義される低級アルコキシ基としては、メ
チレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基等を例示
できる。 上記R₁で定義される義のうち好ましいものと
しては、例えばフエニル基；モノハロゲノフエニ
ル基（２−，３−もしくは４−フルオロフエニル
基、２−，３−もしくは４−ブロモフエニル基、
２−，３−もしくは４−クロロフエニル基、２
−，３−もしくは４−ヨードフエニル基等）；ジ
ハロゲノフエニル基（２，３−ジクロロフエニル
基、２，４−ジクロロフエニル基、２，５−ジク
ロロフエニル基、２，６−ジクロロフエニル基、
３，４−ジクロロフエニル基、３，５−ジクロロ
フエニル基等）；トリハロゲノフエニル基（２，
３，４−トリクロロフエニル基、２，３，５−ト
リクロロフエニル基、２，３，６−トリクロロフ
エニル基、３，４，５−トリクロロフエニル基、
３，４，６−トリクロロフエニル基等）；モノ低
級アルコキシフエニル基（２−，３−もしくは４
−メトキシフエニル基、２−，３−もしくは４−
エトキシフエニル基、２−，３−もしくは４−プ
ロポキシフエニル基、２，３−もしくは４−ブト
キシフエニル基、２−，３−もしくは４−tert−
ブトキシフエニル基、２−，３−もしくは４−ペ
ンチルオキシフエニル基、２−，３−もしくは４
−ヘキシルオキシフエニル基等）；ジ低級アルコ
キシフエニル基（２，３−ジエトキシフエニル
基、２，４−ジエトキシフエニル基、２，５−ジ
エトキシフエニル基、２，６−ジエトキシフエニ
ル基、３，４−ジエトキシフエニル基、３，５−
ジエトキシフエニル基等）；トリ低級アルコキシ
フエニル基（２，３，４−トリエトキシフエニル
基、２，３，５−トリエトキシフエニル基、２，
３，６−トリエトキシフエニル基、３，４，５−
トリエトキシフエニル基、３，４，６−トリエト
キシフエニル基等）；モノ低級アルキル基（２−，
３−もしくは４−メチルフエニル基、２−，３−
もしくは４−エチルフエニル基、２−３−もしく
は４−プロピルフエニル基、２−，３−もしくは
４−ブチルフエニル基、２−，３−もしくは４−
tert−ブチルフエニル基、２−，３−もしくは４
−ペンチルフエニル基、２−，３−もしくは４−
ヘキシルフエニル基等）；ジ低級アルキルフエニ
ル基（２，３−ジメチルフエニル基、２，４−ジ
メチルフエニル基、２，５−ジメチルフエニル
基、２，６−ジメチルフエニル基、３，４−ジメ
チルフエニル基、３，５−ジメチルフエニル基、
２，３−ジエチルフエニル基等）；トリ低級アル
キルフエニル基（２，３，４−トリメチルフエニ
ル基、２，３，５−トリメチルフエニル基、２，
３，６−トリメチルフエニル基、３，４，５−ト
リメチルフエニル基、３，４，６−トリメチルフ
エニル基、２，３，４−トリエチルフエニル基
等）を例示できる。 本発明の上記の一般式〔１〕で表わされるベン
ゾオキサゾロン誘導体は、中枢神経抑制作用、抗
ヒスタミン作用、降圧作用等を有し、鎮痛剤、鎮
静剤、精神安定剤、解熱剤、抗痙れん剤、抗ヒス
タミン剤、降圧剤として有用である。 本発明のベンゾオキサゾロン誘導体〔１〕は、
例えば下記各反応行程式に示す数種の方法に従い
製造することができる。 〔式中R₁及びＡは上記に同じ。R′₂は低級アルキ
ル基、Ｘはハロゲン原子を示す〕 即ち本発明誘導体中R₂が低級アルキル基を示
す記号物〔1′〕は、一般式〔２〕で示すベンゾオ
キサゾロン誘導体と一般式〔３〕で示すピペラジ
ン誘導体とを反応させることにより製造すること
ができる。 上記ベンゾオキサゾロン誘導体〔２〕とピペラ
ジン誘導体〔３〕との反応は、例えば好ましくは
塩基性化合物を脱ハロゲン化水素剤として用い
て、適当な溶媒中室温〜200℃、好ましくは50〜
150℃で数時間〜15時間を要して行なわれる。上
記において適当な溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アル
コール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類；ジオキサン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等を例示できる。また
脱ハロゲン化水素剤として利用できる塩基性化合
物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリ
ウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、カ
リウムエトキサイド、水素化ナトリウム、金属カ
リウム、ナトリウムアミド、ピリジン、キノリ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の
第三級アミン類等を例示できる。上記反応におい
てはまた反応促進剤として沃化カリウム、沃化ナ
トリウム等の沃化アルカリ金属化合物を使用する
こともできる。ベンゾオキサゾロン誘導体〔２〕
とピペラジン誘導体〔３〕との使用割合は、特に
制限はないが、前者１モル当り後者を１モル以
上、通常１〜５モル程度用いるのがよい。 前記反応において出発原料とする一般式〔２〕
で示すベンゾオキサゾロン誘導体〔２〕は、新規
化合物であり、例えば下記反応行程式−２に示す
方法に従い容易に製造できる。 〔上記各式においてR′₂及びＸは前記に同じ。
THPはテトラヒドロピラニル基を示す〕 上記ジヒドロキシベンゼン〔４〕からのニドロ
ジヒドロキシベンゼン〔５〕の製造は、通常のニ
トロの化反応方法に従い行なわれる。該ニトロ化
に用いられる硝化剤としては、例えば濃硝酸、無
水硝酸、硝酸と濃硫酸、発煙硝酸、発煙硝酸と無
水硝酸もしくは酢酸との混液、硫酸と硝酸カリウ
ム、硝酸ナトリウム等の硝酸塩との混液等を例示
することができる。該硝化剤の使用量は、通常原
料とするジヒドロキシベンゼン〔４〕に対して、
0.5〜1.5倍モル、好ましくは等モル程度とされ
る。該ニトロ化反応は、通常０〜50℃程度で進行
し、特に約０〜５℃で行なうが好ましい。 ニトロジヒドロキシベンゼン〔５〕からのアミ
ノジヒドロキシベンゼン〔６〕の製造は、通常公
知の種々の還元法により実施される。該還元方法
としては、例えば還元剤を用いる方法又は水添触
媒を用いる方法を例示でき、これらは常圧でも加
圧下でも行なわれる。上記還元剤を用いる方法に
おいて、好ましい還元剤としては、例えば鉄と塩
酸、亜鉛と酢酸、塩化第１錫と塩酸等を例示で
き、之等のうち塩化第１錫と塩酸が特に好適であ
る。これら還元剤の使用量は、通常原料ニトロジ
ヒドロキシベンゼン〔５〕に対して、等モル量〜
過剰量、好ましくは約３〜５倍モルとされ、反応
は約０〜150℃、好ましくは約50〜100℃の温度下
で行なわれる。また上記水添触媒を用いる方法に
おいて、水添触媒としては、具体的には例えばパ
ラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニツケル、
二酸化白金等を例示でき、之等は通常の触媒量で
用いられる。該反応は通常適当な溶媒例えば水、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢
酸等の存在下に実施される。反応温度としては約
０〜100℃、好ましくは室温付近の温度が採用さ
れる。 上記により得られるアミノジヒドロキシベンゼ
ン〔６〕の閉環反応によるヒドロキシベンゾオキ
サゾロン〔７〕の製造は、一般に無溶媒もしくは
適当な溶媒例えば四塩化炭素、クロロホルム、メ
チレンジクロライド等の溶媒中、尿素、ホスゲ
ン、クロロ炭酸エチル等の閉環剤を、アミノジヒ
ドロキシベンゼン〔６〕に対し約等モル〜５倍モ
ル作用させることにより行なわれる。該閉環反応
は、通常約80〜200℃、好ましくは約120〜160℃
の温度下に良好に進行する。 上記に引き続く、ヒドロキシベンゾオキサゾロ
ン〔７〕の水酸基への保護基の導入は、例えば適
当な溶媒中、触媒の存在下に、２，３−ジヒドロ
ピランを用いて行なわれる。溶媒としては具体的
にはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素；ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシ
エタン、ジオキサン等のエーテル；ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミド、ジメチルスルオキシド等を例示でき
る。触媒として具体的には、硫酸、塩酸、臭化水
素酸、リン酸等の無機酸；酢酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸；オキシ
塩化リン、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、三弗化
硼素等のルイス酸；塩化チオニル等を例示でき
る。上記保護基の導入反応は、原料〔７〕に対
し、少なくとも等モル量の２，３−ジヒドロピラ
ン及び約0.1〜５重量％、好ましくは約0.5〜３重
量％の触媒を用いて、通常０℃から溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温付近〜約50℃の範囲の温度下
に、約１〜６時間を要して行なわれる。 上記より得られる化合物〔８〕と、化合物

〔９〕との反応、即ち化合物〔８〕の窒素原子へ
のアルキル基（R′₂基）の導入反応は、例えば塩
基性化合物の存在下、適当な溶媒中にて実施され
る。塩基性化合物としては、例えば水素化ナトリ
ウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミ
ド、カリウムアミド等を挙げることができる。溶
媒としては例えばジオキサン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル等のエーテル類；トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド等を挙げることができる。化
合物〔８〕と化合物

〔９〕との使用割合は、特に
限定がなく広い範囲内で適宜選択でき、通常前者
に対して後者を少なくとも等モル程度、好ましく
は等モル〜２倍モル程度用いるのがよい。該反応
は通常０〜70℃程度、好ましくは０℃〜室温付近
にて行なわれ、一般に0.5〜12時間程度で反応は
終了する。 最後の工程である化合物〔10〕からの保護基の
除去は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族系溶媒；ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ジエ
チルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオ
キサン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール系溶媒；クロ
ロホルム、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド等の溶
媒又はこれと水との混合溶媒中、酸を用いて行な
われる。酸としては例えば塩酸、硫酸、リン酸、
臭化水素酸等の無機酸；酢酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が広く用い
られるが、無機及び有機の弱酸が好ましい。使用
される酸の量としては特に限定がなく化合物
〔10〕に対して過剰量とするのがよい。該反応は
通常室温〜溶媒の沸点、好ましくは室温〜50℃で
行なうのがよい。 かくして前記反応行程式−１に従い本発明誘導
体を製造するための原料化合物〔２〕を収得でき
る。 また本発明誘導体中R₂が

【式】基を示す化合物は、下記 反応行程式−３に従い製造できる。 〔式中R₁、Ａ及びＸは前記に同じ。R″₂は

【式】基（R₁は上記に同じ）を 示す〕 上記反応行程式−３に示す反応は、ヒドロキシ
ベンゾオキサゾロン〔７〕に対し、ピペラジン誘
導体〔３〕を少なくとも等モル量、好ましくは約
２〜４倍モル量用いる以外は、前記反応行程式−
１と同様の反応条件下に実施される。かくして本
発明の一般式〔１〕中R₂が

【式】基である化合物〔1″〕を 収得できる。 また本発明のベンゾオキサゾロン誘導体〔１〕
は、下記反応行程式−４に示す方法に従つても製
造することができる。 〔式中R₃は低級アルキル基又は−Ａ−Ｘ基を示
す。R₁、Ａ、Ｘ及びR₂は前記に同じ〕 上記反応行程式−４において、本発明誘導体
〔１〕は、ハロゲノアルコキシベンゾオキサゾロ
ン誘導体〔11〕に、公知のピペラジン誘導体
〔12〕を反応させることにより製造される。 該反応は、無溶媒で又は通常の不活性溶媒中
で、０〜200℃、好ましくは室温〜100℃の温度条
件下に、数時間〜24時間程度で完結する。不活性
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロ
フラン、エチレングリコール、ジメシルエーテル
等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等の低級アルコール類；ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性溶剤を使用できる。上記反応はより有利に
は、塩基性化合物を脱ハロゲン化水素剤として用
いて行なわれる。該塩基性化合物としては、例え
ば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミド、
水素化ナトリウム、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、ピリジン、キノリン等の第三級アミ
ン類等を使用できる。また上記反応は、必要に応
じ反応促進剤として、沃化カリウム、沃化ナトリ
ウム等の沃化アルカリ金属化合物を添加すること
ができる。上記反応におけるハロゲノアルコキシ
ベンゾオキサゾロン誘導体〔11〕と、ピペラジン
誘導体〔12〕との使用割合は、特に限定されず、
通常前者に対し後者を等モル〜過剰量、好ましく
は等モル〜５倍モルとすればよい。 上記反応に出発原料として利用されるハロゲノ
アルコキシベンゾオキサゾロン誘導体〔11〕は、
例えば上記反応行程式−５に示す方法により容易
に製造される。 〔式中R₄は水素原子又は低級アルキル基を示し、
X′はハロゲン原子を示す。またＸ、Ａ及びR₃は
上記に同じ〕 即ちハロゲノアルコキシベンゾオキサゾロン誘
導体〔11〕は、一般式〔13〕に示すベンゾオキサ
ゾロン誘導体とジハロゲノアルカン誘導体〔14〕
とを反応させることにより得られる。該反応にお
ける反応条件は、反応行程式−１に示す脱ハロゲ
ン化水素反応のそれと同様のものとすればよい。 かくして本発明のベンゾオキサゾロン誘導体
〔１〕を得る。該誘導体〔１〕は、これに適当な
酸を作用させることにより医薬として許容される
酸付加塩とすることができる。該酸としては例え
ば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸、
シユウ酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、
酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸を挙げる
ことができる。 斯くして得られる各々の行程での目的化合物
は、通常の分離手段により容易に単離精製するこ
とができる。該分離手段としては、例えば溶楳抽
出法、希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフ
イー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフイー等
を例示できる。 本発明化合物のベンゾオキサゾロン誘導体及び
その塩は、そのままで又はこれらを有効成分とし
て慣用の製剤担体と共に、人及び動物に投与する
ことができる。その際投与経路及び投与単位形態
は、特に制限されず、例えば錠剤、顆粒剤、経口
用溶液等の経口剤や注射剤等の非経口剤等とし
て、経口的にもしくは非経口的に投与できる。有
効成分の投与量は、投与経路、投与単位形態、所
望の薬理効果等に応じて適宜決定される。通常１
日当り体重１Kg当りの有効成分投与量は、約40μ
ｇ〜５mgとすればよく、これは１日３〜４回に分
けて投与できる。上記の投与単位形態は、常法に
従い容易に製造され、その際用い得る担体も通常
のものでよい。例えば錠剤は、有効成分を、ゼラ
チン、澱粉、乳糖、ステアリン酸マグネシウム、
滑石、アラビアゴム等の賦形剤と混合して賦形さ
れる。カプセル剤は有効成分を不活性の製造充填
剤もしくは希釈剤と混合し、硬質ゼラチンカプセ
ル、軟質カプセル等に充填される。また注射等の
非経口投与用薬剤は有効成分を滅菌した液状担体
に溶解又は懸濁して製造される。好ましい担体は
水又は塩水である。 以下本発明を更に詳細に説明するために参考例
及び実施例を挙げるが、本発明はこれ等に限定さ
れるものではない。 参考例 １ ３−ニトロカテコールの製造 ジエチルエーテル2.5にカテコール50ｇを溶
解し、冷却下発煙硝酸20mlを加え、12時間放置す
る。その後反応を水洗し、乾燥後、ジエチルエー
テルを除去し、残渣にクロロホルム200mlを加え、
析出晶を別し、クロロホルム溶液をシヨートカ
ラムに付し、３−ニトロカテコールを得る。収量
29ｇ、融点78〜80℃ 参考例 ２ ３−アミノカテコール塩酸塩の製造 水150ml、エタノール600ml及び塩酸50mlの混液
中に３−ニトロカテコール29ｇを溶解し、５％パ
ラジウム炭素６ｇを用いて接触還元する。反応終
了後触媒を別し、反応液を蒸溜して３−アミノ
カテコール・塩酸塩28ｇを得る。融点214℃（分
解） 参考例 ３ ７−ヒドロキシ−２（3H）−ベンゾオキサゾロ
ンの製造 ３−アミノカテコール・塩酸塩28ｇと尿素35ｇ
とを、140〜150℃で３時間加熱する。反応終了後
水100mlを加え、析出晶を取、水洗する。H₂O
より再結晶して７−ヒドロキシ−２（3H）−ベン
ゾオキサゾロン15ｇを得る。融点236〜240℃ 参考例 ４ ７−テトラヒドロピラニルオキシ−２（3H）−
ベンゾオキサゾロンの製造 ７−ヒドロキシ−２（3H）−ベンゾオキサゾロ
ン3.8ｇを塩化メチレン40ml中に懸濁し、これに
ジヒドロピラン4.2ｇを加え、更に触媒量の濃硫
酸を加える。室温で１時間反応させ、析出晶を
取した後、7.5％の炭酸カリウム水溶液に加え、
２時間撹拌する。結晶を取し、水洗後、エタノ
ールより再結晶して、７−テトラヒドロピラニオ
キシ−２（3H）−ベンゾオキサゾロン2.3ｇを得
る。融点228〜230℃ 参考例 ５ ３−メチル−７−テトラヒドロピラニルオキシ
−２−ベンゾオキサゾロンの製造 水素化ナトリウム560mlをジメチルホルムアミ
ド25ml中に懸濁し、これに７−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−２（3H）−ベンゾオキサゾロン23ｇ
を加え、室温で１時間撹拌後、ヨウ化メチル６ｇ
を加え１時間反応させ、次いで反応物を水中に注
ぎ、析出晶を取、水洗し、乾燥後、エタノール
より再結晶して、３−メチル−７−テトラヒドロ
ピラヒルオキシ−２−ベンゾオキサゾロン21ｇを
得る。無色リン片状晶、融点126〜129℃ 参考例 ６ ３−メチル−７−ヒドロキシ−２−ベンゾオキ
サゾロンの製造 ３−メチル−７−テトラヒドロピラニルオキシ
−２−ベンゾオキサゾロン１ｇをエタノール10ml
中に懸濁し、これ触媒量の濃硫酸を加え、室温で
３時間撹拌後、エタノールを留去し、残渣に水を
加え結晶を取する。これをエタノールより再結
晶して３−メチル−７−ヒドロキシ−２−ベンゾ
オキサゾロン670mgを得る。無色プリズム状晶、
融点210〜212℃ 参考例 ７ ７−（３−クロロプロポキシ）−３−メチル−２
−ベンゾオキサゾロンの製造 ３−メチル−７−ヒドロキシ−２−ベンゾオキ
サゾロン0.5ｇをジメチルホルムアミド５ml中に
溶解し、これに炭酸カリウム0.8ｇを加え、室温
で１時間撹拌後、１，３−プロモクロロプロパン
1.0ｇを加え、更に室温で８時間撹拌する。反応
物を氷水中に注ぎ、析出晶を取し、水洗後ヘキ
サンにて洗浄し、エタノールより再結晶して、７
−（３−クロロプロポキシ）−３−メチル−２−ベ
ンゾオキサゾロン0.6ｇを得る。無色プリズム状
晶、融点109〜110℃ 参考例 ８ ３−（３−クロロプロピル）−７−（３−クロロ
プロポキシ）−２−ベンゾオキサゾロンの製造 ７−ヒドロキシ−２（3H）−ベンゾオキサゾロ
ン２ｇ、１，３−ブロモクロロプロパン3.2ｇ及
び炭酸カリウム2.7ｇをジメチルホルムアミド20
mlに懸濁し、室温下に一夜放置後、反応後を水中
に注入し、析出晶（2.0ｇ）を取し、水洗後乾
燥し、リグロイン−ベンゼン混液より再結晶して
３−（３−クロロプロピル）−７−（３−クロロプ
ロポキシ）−２−ベンゾオキサゾロン1.5ｇを得
る。融点78〜80℃ 実施例 １ ３−メチル−７−ヒドロキシ−２−ベンゾオキ
サゾロン1.0ｇ、１−（４−フエニルピペラジン−
１−イル）−３−ブロモプロパン2.0ｇ及び炭酸カ
リウム1.6ｇをジメチルホルムアミド20mlに懸濁
し、これを80〜90℃で18時間加熱撹拌後、減圧乾
固し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え析出晶を
取し、エタノールから再結晶して、３−メチル
−７−〔３−（４−フエニルピペラジン−１−イ
ル）−プロポキシ〕−２−ベンゾオキサゾロン0.4
ｇを得る。 結晶形：無色リン片状晶 融点：111〜112℃ 実施例 ２ ３−メチル−７−（３−クロロプロポキシ）−２
−ベンゾオキサゾロン1.2ｇ及びヨウ化ナトリウ
ム1.2ｇをアセトン30mlに懸濁し、これを３時間
還流後、減圧乾固し、ジメチルホムルアミド30ml
を加え、更にフエニルピペラジン1.1ｇ及びトリ
エチルアミン0.8ｇを加え、80〜90℃で35時間加
熱後、減圧乾固し、以後実施例１と同一操作を繰
返して、３−メチル−７−〔３−（４−フエニルピ
ペラジン−１−イル）−プロポキシ〕−２−ベンゾ
オキサゾロン0.6ｇを得る。 結晶形：無色リン片状晶 融点：111〜112℃ 実施例 ３〜５ 実施例１及び２のいずれかと同様にして、適当
な出発原料より下記第１表に示す本発明誘導体を
得る。

【表】

【表】 実施例 ６ ３−（３−クロロプロピル）−７−（３−クロロ
プロポキシ）−２−ベンゾオキサゾロン1.5ｇ及び
ヨウ化ナトリウム1.7ｇをアセトン30mlに懸濁し、
３時間加熱還流させた後、減圧乾固し、これにジ
メチルホルムアミド20mlを加え、更にフエニルピ
ペラジン2.3ｇ及びトリエチルアミン4.5ｇを加
え、80〜90℃で４時間加熱後、減圧乾固し、炭酸
水素ナトリウム水溶液及びクロロホルムを加えて
抽出し、カラムにより精製後、エタノールから再
結晶して、３−〔３−（４−フエニルピペラジン−
１−イル）プロピル〕−７−〔３−（４−フエニル
ピペラジン−１−イル）プロポキシ−２−ベンゾ
オキサゾロン0.7ｇを得る。 融点：97〜98℃

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R₁はハロゲン原子、低級アルコキシ基及
   び低級アルキル基から選ばれた置換基の１〜３個
   を有することのあるフエニル基、R₂は低級アル
   キル又は【式】基（R₁は上記に 同じ）及びＡは低級アルキレン基を示す〕 で表わされることを特徴とするベンゾオキサゾロ
   ン誘導体。