JPH0357935U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0357935U JPH0357935U JP1989118456U JP11845689U JPH0357935U JP H0357935 U JPH0357935 U JP H0357935U JP 1989118456 U JP1989118456 U JP 1989118456U JP 11845689 U JP11845689 U JP 11845689U JP H0357935 U JPH0357935 U JP H0357935U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- vessel
- rotating shaft
- vertical axis
- liquid material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
第１図は本考案の１実施例の薄膜蒸発装置の全
体的構成を示す縦断側面図、第２図はその回転部
材の平面図、第３図はその第２図―線断面矢
視の縦断側面図、第４図は本考案と対比される先
行技術の薄膜蒸発装置の縦断側面図である。 １……蒸発器本体、２……器内面、加熱蒸発面
、３……ジヤケツト、４，５……熱媒ノズル、６
……蒸気出口ノズル、７，８……軸受、９，９Ａ
……回転軸、９ａ……外側流路、９ｂ……中心流
路、１０，１０Ａ……分散ユニツト、１１，１１
Ａ……薄膜化ユニツト、１２……液材料入口ノズ
ル、１３……薄膜化翼、１４……製品出口、１５
，１５Ａ……蒸気通路、１６……基体円筒部、１
７……フイン、１８……上板部、１９……下板部
、２０……マニホールド、２１……支持部、２３
，２７……熱媒径路、２４，２５，２６……通孔
、Ｘ……中心縦軸線、Ａ……薄膜化蒸発部。
体的構成を示す縦断側面図、第２図はその回転部
材の平面図、第３図はその第２図―線断面矢
視の縦断側面図、第４図は本考案と対比される先
行技術の薄膜蒸発装置の縦断側面図である。 １……蒸発器本体、２……器内面、加熱蒸発面
、３……ジヤケツト、４，５……熱媒ノズル、６
……蒸気出口ノズル、７，８……軸受、９，９Ａ
……回転軸、９ａ……外側流路、９ｂ……中心流
路、１０，１０Ａ……分散ユニツト、１１，１１
Ａ……薄膜化ユニツト、１２……液材料入口ノズ
ル、１３……薄膜化翼、１４……製品出口、１５
，１５Ａ……蒸気通路、１６……基体円筒部、１
７……フイン、１８……上板部、１９……下板部
、２０……マニホールド、２１……支持部、２３
，２７……熱媒径路、２４，２５，２６……通孔
、Ｘ……中心縦軸線、Ａ……薄膜化蒸発部。
Claims (1)
- 中心縦軸線のまわりに円筒形の減圧可能な密閉
式蒸発器本体の器内面を加熱蒸発面に形成し、中
心縦軸線位置の回転軸に取付けられて回転する上
位の分散ユニツトがその高さで器内に供給される
液材料を器内面の全周に一次的に分散し、下位の
強制薄膜化ユニツトが分剤され移送された液材料
を加熱蒸発面上に二次的に薄膜状に展開させる薄
膜化蒸発器において、前記薄膜化ユニツトの薄膜
化翼を支持する支持部および回転軸を中空として
中空内を熱媒循環流路に形成したことを特徴とす
る薄膜蒸発装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989118456U JPH0357935U (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989118456U JPH0357935U (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0357935U true JPH0357935U (ja) | 1991-06-05 |
Family
ID=31666620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989118456U Pending JPH0357935U (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0357935U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS607160A (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPH01261837A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
-
1989
- 1989-10-09 JP JP1989118456U patent/JPH0357935U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS607160A (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPH01261837A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Nec Corp | 半導体集積回路 |