JPH0359645A - 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチックフィルム支持体用の帯電防止層
に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。
に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。
一般にプラスチイックフィルム支持体は、帯電性が強く
、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例え
ばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテ
レフタレートのような支持体が一般に使用されるが、
特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよう
に高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光
材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特
に帯電防止対策が重要である。
、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例え
ばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテ
レフタレートのような支持体が一般に使用されるが、
特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよう
に高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光
材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特
に帯電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフィルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフィルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。
このため例えば特開昭55−84658号、同61−1
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されている
。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すことが
できるが、尚透明性の面では不充分である。
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されている
。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すことが
できるが、尚透明性の面では不充分である。
さらに、この帯電防止層を有するプラスチックフィルム
支持体に、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合
物を使った超硬調化乳剤を適用した場合、経時保存で減
感する欠点を有することが分かつt;。
支持体に、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合
物を使った超硬調化乳剤を適用した場合、経時保存で減
感する欠点を有することが分かつt;。
上記のような問題に対し、本発明の目的は透明性に優れ
たヘーズの無い帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を提供することであり、さらに別の目的はテトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使用した場合
でも帯電防止能に優れ、経時で減感せず安定性の高いハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
たヘーズの無い帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を提供することであり、さらに別の目的はテトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使用した場合
でも帯電防止能に優れ、経時で減感せず安定性の高いハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の上記目的は、■水溶性導電性ポリマー■疎水性
ポリマー粒子、■硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がシアノ基含有のラテックスとし
て帯電防止層中に分散安定化されていることを特徴とす
る帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料により
達成される。
ポリマー粒子、■硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がシアノ基含有のラテックスとし
て帯電防止層中に分散安定化されていることを特徴とす
る帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料により
達成される。
尚、本発明の感光性乳剤層中に、テトラゾリウム化合物
またはヒドラジン化合物を含有することが望ましい。
またはヒドラジン化合物を含有することが望ましい。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の水溶性導電性ポリマーは、単独で使用すること
によっても透明な層を形成し得るが、少しの乾燥条件の
ブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本発
明の構成ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマー
粒子を含有しているが、その効果は大きい。
によっても透明な層を形成し得るが、少しの乾燥条件の
ブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本発
明の構成ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマー
粒子を含有しているが、その効果は大きい。
本発明の請求項1記載の水溶性導電性ポリマーについて
は、スルホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム
塩、3級アンモニウム塩、カルボキシル基、ポリエチレ
ンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を
有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスルホ
ン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ま
しい。
は、スルホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム
塩、3級アンモニウム塩、カルボキシル基、ポリエチレ
ンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を
有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスルホ
ン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ま
しい。
導電性基はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要と
する。水溶性の導電性ポリマー中に含まれるカルボキシ
基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリジン
基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒド基、
ビニルスルホン基のうち、カルボキシ基、ヒドロキシ基
、アミノ基、エポキシ基、アジリジン基、アルデヒド基
が好ましい。
する。水溶性の導電性ポリマー中に含まれるカルボキシ
基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリジン
基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒド基、
ビニルスルホン基のうち、カルボキシ基、ヒドロキシ基
、アミノ基、エポキシ基、アジリジン基、アルデヒド基
が好ましい。
これらの基はポリマー1分子当たり5重量%以上必要と
する。ポリマーの分子量は、3000〜100000で
あり、好ましくは3500〜50000である。
する。ポリマーの分子量は、3000〜100000で
あり、好ましくは3500〜50000である。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
A−1ホモポリマー
−2
ホモポリマー
コLJ、Na
3
−5
03Na
−6
SO,Na
−7
SO,Na
−8
−9
−10
CH。
1
a
03Na
2
3
CH3
−14
C1120SO3Na
−15
−17
19
0
−21
−22
Na1万
M’+1.5万
3
デキスト
ラ
ンサル7エイ
ト
置換度
2.0
M −10万
−24
−25
6
SO,Na
7−
OINa
9
0
−31
2
−33
−34
SO.Na
35
−36
八−37
8
−39
−40
−41
2
I3
M崎1万
−43
4
5
x:y:z:w−40:30:20:10−47
8
−49
−50
M#5万
尚、上記(1)〜(50)において、x、y、zはそれ
ぞれ単量体成分のモル%を、又Mは平均分子量(本明細
書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す。
ぞれ単量体成分のモル%を、又Mは平均分子量(本明細
書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す。
これらのポリマーは市販又は常法によって得られる七ツ
マ−を重合することにより合成することが出来る。これ
らの化合物の添加量は0.01g” log/−が好ま
しく、特に好ましくはO,1g〜5g/m”である。
マ−を重合することにより合成することが出来る。これ
らの化合物の添加量は0.01g” log/−が好ま
しく、特に好ましくはO,1g〜5g/m”である。
次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎
水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、シ
アノ基含有のスチレン、スチレン誘導体、アルキルアク
リレート、アルキルメタクリレート。特にシアノ基含有
のスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレートが少なくとも30モル%含有されているの
が好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、シ
アノ基含有のスチレン、スチレン誘導体、アルキルアク
リレート、アルキルメタクリレート。特にシアノ基含有
のスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレートが少なくとも30モル%含有されているの
が好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、シかもそろっt;ものができるという点で乳化重合
することが好ましい。
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、シかもそろっt;ものができるという点で乳化重合
することが好ましい。
乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン性
、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し1
0重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導を柱層
をくもらせる原因となる。
、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し1
0重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導を柱層
をくもらせる原因となる。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良木発
明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
−6
B−11
本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のものを全て使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
支持体は写真用のものを全て使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、二不ルギー値としてIn+W〜l k
W/mzmrnが特に好ましく適用される。
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、二不ルギー値としてIn+W〜l k
W/mzmrnが特に好ましく適用される。
又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電柱層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
本発明の導電性層を硬化する化合物としては、多官能の
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、 感光層に対し支持体の反対側、 いわ 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式〔H〕で表される化合物である。
いし、 感光層に対し支持体の反対側、 いわ 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式〔H〕で表される化合物である。
一般弐(H)
QI Q! Xl
I
R,−N −N −C−R2
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
(H)で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
(H)で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
上記R8及びR3の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアン基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル
フェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシ
フェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド1
フエニル基、4−[2−(2,4ジーtert−ブチル
フェノキシ)ブチルアミド1フエニル基などを挙げるこ
とができる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアン基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル
フェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシ
フェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド1
フエニル基、4−[2−(2,4ジーtert−ブチル
フェノキシ)ブチルアミド1フエニル基などを挙げるこ
とができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
具体的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、ギノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニルMeの炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニルMeの炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜lOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキンカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl) 基、アルキニル基としては例えばプロパル
ギル基を挙げることができる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキンカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl) 基、アルキニル基としては例えばプロパル
ギル基を挙げることができる。
本発明のヒ
ドラジン化合物の好ましい具体例を
以下に示すが、
本発明は何等これによって限定さ
れるものではない。
−
−3
−
6
1
−10
−13
4
6−
8
−19
0
1
−22
3
4
−25
Cl(。
H3
H−26
H−30
−31
−34
−35
−38
−39
0
−41
−42
−43
H−44
H−45
−46
一般式()f)で表わされるヒドラジン化合物の添加位
置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲ
ン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、
ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加
量は、10−’〜10−’モル/銀1モルが好ましく、
更に好ましくは1o−4〜1゜−2モル/銀Iモルであ
る。
置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲ
ン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、
ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加
量は、10−’〜10−’モル/銀1モルが好ましく、
更に好ましくは1o−4〜1゜−2モル/銀Iモルであ
る。
次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
説明する。
テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことができる
。
。
一般式(T)
本発明において、上記一般式(T)で示されるトリフェ
ニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1、
R2、R3は水素原子もしくは電子吸引仕度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
ニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1、
R2、R3は水素原子もしくは電子吸引仕度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
特に負のものが好ましい。
フェニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文献
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ ミ ス
ト リ − (Journal of
Medical Chemistry)第20
巻、304頁、1977年、記載のC,ハンクス(C。
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ ミ ス
ト リ − (Journal of
Medical Chemistry)第20
巻、304頁、1977年、記載のC,ハンクス(C。
Hansch)等の轍叉等に見ることが出来、とくに好
ましい負のシグマ値を有する基としては、例えばメチル
基(σP−−0.17以下いずれもaP値)エチル基(
−0,15)、シクロプロピル基(−0,21)、n−
グロピル基(−0,13)、isoプロピル基(−0,
15)、シクロブチル基(−0,15)、n−ブチル基
(−0,16)、1sO−ブチル基(−0,20)、n
−ペンチル基(−0,15)、シクロヘキシル基(−0
,22)、アミノ基(−0,66)、アセチルアミノ基
(−0,15)、ヒドロキシル基(−0,37)、メト
キシ基(−0,27)、エトキシ基(−0,24)、プ
ロポキシ基(−0,25)、ブトキシ基(−0,32)
、ペントキシ基(−0,34)等が挙げられ、これらは
いずれも本発明の一般式(T)の化合物のIt置換基し
て有用である。
ましい負のシグマ値を有する基としては、例えばメチル
基(σP−−0.17以下いずれもaP値)エチル基(
−0,15)、シクロプロピル基(−0,21)、n−
グロピル基(−0,13)、isoプロピル基(−0,
15)、シクロブチル基(−0,15)、n−ブチル基
(−0,16)、1sO−ブチル基(−0,20)、n
−ペンチル基(−0,15)、シクロヘキシル基(−0
,22)、アミノ基(−0,66)、アセチルアミノ基
(−0,15)、ヒドロキシル基(−0,37)、メト
キシ基(−0,27)、エトキシ基(−0,24)、プ
ロポキシ基(−0,25)、ブトキシ基(−0,32)
、ペントキシ基(−0,34)等が挙げられ、これらは
いずれも本発明の一般式(T)の化合物のIt置換基し
て有用である。
以下本発明に用いられる一般式(T)の化合物の具体例
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビュー (Chemical Review
s)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に従
って容易に合皮することができる。
ミカル・レビュー (Chemical Review
s)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に従
って容易に合皮することができる。
本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲ〉′
化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当
り約1mg以上logまで、好ましくは約1mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当
り約1mg以上logまで、好ましくは約1mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても、父上として粒子内部に形成されるような粒子で
もよい。
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても、父上として粒子内部に形成されるような粒子で
もよい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2,444.607号、同第2,716.062号
、同第3.512,982号、西独国出願公告第1.1
89,380号、同第2,058,626号、同第2,
118.411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3.342,596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2.149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5゜
6−ドリメチレンー7−ヒドロキシンーS−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン
7−ヒドロキシーs−トリアゾロ (1,5−a)ピリ
ミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−5−1リアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキ
シ−5−トリアゾロ (1,5−a)ピリミジン、7−
ヒドロキシン−3−)リアゾロン(1,5−a)ピリミ
ジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシーs−
トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、没食子酸エステ
ル(@えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メルカプタン
類(l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2−
メルカプトベンツチアゾール)、ベンゾトリアゾール類
(5−ブロムベンツトリアゾール、5−メチルベンツト
リアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニドロペン
ツイミダゾール)等を用いて安定化することができる。
許第2,444.607号、同第2,716.062号
、同第3.512,982号、西独国出願公告第1.1
89,380号、同第2,058,626号、同第2,
118.411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3.342,596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2.149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5゜
6−ドリメチレンー7−ヒドロキシンーS−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン
7−ヒドロキシーs−トリアゾロ (1,5−a)ピリ
ミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−5−1リアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキ
シ−5−トリアゾロ (1,5−a)ピリミジン、7−
ヒドロキシン−3−)リアゾロン(1,5−a)ピリミ
ジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシーs−
トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、没食子酸エステ
ル(@えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メルカプタン
類(l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2−
メルカプトベンツチアゾール)、ベンゾトリアゾール類
(5−ブロムベンツトリアゾール、5−メチルベンツト
リアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニドロペン
ツイミダゾール)等を用いて安定化することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
ンである。
本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9ppmであるが、更に好ましくは11−500ppで
あり、鉄分は0.001−50ppが好ましく、更に好
ましくは00−1−1Oppである。このようにカルシ
ウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液を
イオン交換装置に通すことにより遠戚することができる
。
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9ppmであるが、更に好ましくは11−500ppで
あり、鉄分は0.001−50ppが好ましく、更に好
ましくは00−1−1Oppである。このようにカルシ
ウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液を
イオン交換装置に通すことにより遠戚することができる
。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコール、4−りOロカテコール、4−
フェニル−カテコール、3−メトキシ−カテコール、4
−アセチル−ピロガロール、アスコルビン酸ソーダ等が
ある。
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコール、4−りOロカテコール、4−
フェニル−カテコール、3−メトキシ−カテコール、4
−アセチル−ピロガロール、アスコルビン酸ソーダ等が
ある。
又、HO−(CH−CH)、 −NH,型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールが代表的なもの
で、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニル
フェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニルフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等カある
。
は、オルト及びバラのアミノフェノールが代表的なもの
で、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニル
フェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニルフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等カある
。
更に、82N−(CH−CH)、−NH,型現像剤とし
ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチル
アニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニリ
ン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モルホ
リン、p−フェニレンジアミン等がある。
ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチル
アニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニリ
ン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モルホ
リン、p−フェニレンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1〜フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウンル等を挙げることができる。
リドン、1〜フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウンル等を挙げることができる。
T、H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・ホトグ
ラフィック・プロセス第4版 (The Theory of Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he American Chemical 5oci
ety)第73巻、第3.100頁(1951)に記載
されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るも
のである。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上
組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる
方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜
硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損
なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルアミ
ン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合そ
の使用量は現像液1Q当たり5〜500gが好ましく、
より好ましくは20〜200gである。
ラフィック・プロセス第4版 (The Theory of Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he American Chemical 5oci
ety)第73巻、第3.100頁(1951)に記載
されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るも
のである。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上
組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる
方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜
硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損
なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルアミ
ン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合そ
の使用量は現像液1Q当たり5〜500gが好ましく、
より好ましくは20〜200gである。
又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、l、4−フ゛タンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11+当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、l、4−フ゛タンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11+当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下が好ましく、特に25℃〜40°C前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現像
、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、
ハンガー現像など機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下が好ましく、特に25℃〜40°C前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現像
、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、
ハンガー現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例!
下引き処理したポリエチレンテレフタレートに8 w/
m”minのエネルギーでコロナ放電した後下記構成の
帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/n+in
の速さでロールフィツトコーティングパン及びエアーナ
イフを使用して塗布した。
m”minのエネルギーでコロナ放電した後下記構成の
帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/n+in
の速さでロールフィツトコーティングパン及びエアーナ
イフを使用して塗布した。
水溶性導電性ポリマー (A ) 0.6g/
m”本発明の疎水性ポリマー粒子(B ) 0.4
g/m2硬膜剤(H) 90°C12分間乾燥し140°0190秒間熱処理し
た。
m”本発明の疎水性ポリマー粒子(B ) 0.4
g/m2硬膜剤(H) 90°C12分間乾燥し140°0190秒間熱処理し
た。
この帯電防止層の上にゼラチンを2゜Og/+n”にな
る様に塗布しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤と
しては、ホルマリン、2,4−ジクロロ−6−ビトロキ
シ−S−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表1に
示す。
る様に塗布しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤と
しては、ホルマリン、2,4−ジクロロ−6−ビトロキ
シ−S−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表1に
示す。
(ヘーズ試験)
東京電色株式会社製濁度計Model T−260OD
Aを用いフィルム支持体を測定してヘーズを百分率で示
表 特開昭 55−84658号記載 表 の結果から本発明の試料はへ−ズに優れていることがわ
かる。
Aを用いフィルム支持体を測定してヘーズを百分率で示
表 特開昭 55−84658号記載 表 の結果から本発明の試料はへ−ズに優れていることがわ
かる。
実施例2
(乳剤の調製)
pH3,0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジェ
ット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり10−’モ
ル含有する平均粒径0.llpm、 /’ロゲン化銀組
組成分散度15、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を
作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニンを1%のゼ
ラチン水溶液lQ当Iこり30mg含有する系で行った
。銀とハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ
−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲン化銀1
モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
ット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり10−’モ
ル含有する平均粒径0.llpm、 /’ロゲン化銀組
組成分散度15、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を
作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニンを1%のゼ
ラチン水溶液lQ当Iこり30mg含有する系で行った
。銀とハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ
−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲン化銀1
モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−テトラザイン
デンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当Iこり15Bの
チオ硫酸ナトリウムを加え、60℃でイオウ増感をした
。イオウ増感後安定剤として6−メチル−4−ヒドロキ
シ−1,3,3a、7−テトラザインデンをハロゲン化
銀1モル当たり600mg加えた。
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−テトラザイン
デンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当Iこり15Bの
チオ硫酸ナトリウムを加え、60℃でイオウ増感をした
。イオウ増感後安定剤として6−メチル−4−ヒドロキ
シ−1,3,3a、7−テトラザインデンをハロゲン化
銀1モル当たり600mg加えた。
得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、特開昭59−19941号の実施例1によりラテ
ックス下引処理した厚さ1100pのポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
加し、特開昭59−19941号の実施例1によりラテ
ックス下引処理した厚さ1100pのポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/m”テトラフ
ェニルホスホニウムクロライド30 mg/11” サポニン 200 mg/m”
ポリエチレングリコール 100 mg/m”
ハイドロキノン 200 mg/+
”スチレン−マレイン酸共重合体 20 mg/m”
ヒドラジン化合物(表2に示す) 50 mg/m
25−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/m
2減感色素(M) 20 mg
/m2アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5
g/m’ ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15 mg
/m” 銀量 2.8 g/m”(乳
剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/m”テトラフ
ェニルホスホニウムクロライド30 mg/11” サポニン 200 mg/m”
ポリエチレングリコール 100 mg/m”
ハイドロキノン 200 mg/+
”スチレン−マレイン酸共重合体 20 mg/m”
ヒドラジン化合物(表2に示す) 50 mg/m
25−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/m
2減感色素(M) 20 mg
/m2アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5
g/m’ ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15 mg
/m” 銀量 2.8 g/m”(乳
剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル200mg/
m’ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100B/m’ マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3゜5μ
m) 100 B/a”硝酸
リチウム塩 30 □/−没食子酸
−プロピルエステル 300 mg/m22−メ
ルカグトベンツィミダゾール−5−スルホン酸ナトリウ
ム 30 mg/m”アルカリ処
理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/m”コロイ
ダルシリカ 30 n+g/m”スグ
ーレンーマレインH共I! 合体100 n+g/m
”ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15 m
g/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/s”minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(ス
チレン−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレー
ト)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬
膜剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例1と
同様に塗布し、ついで下記組成のバッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
m’ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100B/m’ マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3゜5μ
m) 100 B/a”硝酸
リチウム塩 30 □/−没食子酸
−プロピルエステル 300 mg/m22−メ
ルカグトベンツィミダゾール−5−スルホン酸ナトリウ
ム 30 mg/m”アルカリ処
理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/m”コロイ
ダルシリカ 30 n+g/m”スグ
ーレンーマレインH共I! 合体100 n+g/m
”ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15 m
g/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/s”minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(ス
チレン−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレー
ト)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬
膜剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例1と
同様に塗布し、ついで下記組成のバッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
(バッキング層)
ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体 0.5 g/m”スチレン−マレイ
ン酸共重合体 100 mg/m”クエン酸(塗布後
pH5,4に調製) 40 mg7m2サポニン
200 mg/m”キング染料 (a) (b) (c) アルカリ処理ゼラチン 2.0g/m” ビス (ビニルスルホニルメチル) エーテル t5mg/+” (バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
重合体 0.5 g/m”スチレン−マレイ
ン酸共重合体 100 mg/m”クエン酸(塗布後
pH5,4に調製) 40 mg7m2サポニン
200 mg/m”キング染料 (a) (b) (c) アルカリ処理ゼラチン 2.0g/m” ビス (ビニルスルホニルメチル) エーテル t5mg/+” (バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル
パツキン
200 mg/m”
マット剤:ポリメタクリル酸メチル
(平均粒径4.0μff1) 50
mg/m’アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1
.0g/m” 弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50 mg/m’
ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル 20 mg/m”
なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製して
から塗布した。
mg/m’アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1
.0g/m” 弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50 mg/m’
ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル 20 mg/m”
なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製して
から塗布した。
以上のようにして得られた試料をそれぞれ2つに分け、
一方は23°C相対湿度55%で3日間保存した。残り
の一方は23℃相対湿度55%で3時間調湿後、重ねた
状態で防湿袋に封入し、55℃で3日間保存して強制劣
化させ経時代用試料を作成した。
一方は23°C相対湿度55%で3日間保存した。残り
の一方は23℃相対湿度55%で3時間調湿後、重ねた
状態で防湿袋に封入し、55℃で3日間保存して強制劣
化させ経時代用試料を作成した。
両方の試料を、ステップウェッジを通して露光後、下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
現像処理条件
工程 温度 時間
現像 34°O15秒
定着 32°0 10秒
水洗 常温 10秒
現像液処方
ハイドロキノン 25 gl−7
エニルー4.4ジメチル−3 ピラゾリドン 0.4 g臭化ナ
トリウム 3g5−メチルベンゾト
リアゾール 0.3g5−ニトロインダゾール
0.05gジエチルアミノプロパン−1,2−
ジオール0 g 亜硫酸カリウム 0 5−スルホサリチル酸ナトリウム 5 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水で112に仕上げた。
エニルー4.4ジメチル−3 ピラゾリドン 0.4 g臭化ナ
トリウム 3g5−メチルベンゾト
リアゾール 0.3g5−ニトロインダゾール
0.05gジエチルアミノプロパン−1,2−
ジオール0 g 亜硫酸カリウム 0 5−スルホサリチル酸ナトリウム 5 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水で112に仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5と
定着液処方
(組fRA)
チオ硫酸アンモニウム(72,5w%
し Iこ 。
水溶液)
240 mo
7 g
6.5g
g
g
13 、6m(2
亜硫酸ナトリウム
酢酸ナトリウム・3水塩
硼酸
クエン酸ナトリウム・2水塩
酢酸(90w%水溶液)
11成り)
純水(イオン交換水)
硫酸(50W%の水溶液)
硫酸アルミニウム(Aff、O,換算含量が8.1w%
の水溶液) 17fflI2 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500m(2中に上記組成A1組 成りの順に溶かし、 Qに仕上げて用いた。
の水溶液) 17fflI2 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500m(2中に上記組成A1組 成りの順に溶かし、 Qに仕上げて用いた。
この
表2の結果から本発明の試料は、経時保存による感度低
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
実施例3
実施例2と同様にして、ロジウム塩を銀1モル当たりl
o−5モルを含有し、平均粒径0.20μm、単分散度
20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。
o−5モルを含有し、平均粒径0.20μm、単分散度
20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。
これを実施例2と同様に脱塩後イオウ増感を施した。
得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、実施例1で用いた下引加工済ポリエチレンテレフ
タレート支持体上に塗布した。
加し、実施例1で用いた下引加工済ポリエチレンテレフ
タレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:
スチレン−ブチルアクリレートアクリル酸3元共重合ポ
リマー 1.0g/m”フェノール
l mg/m”サポニン
200mg/m”ドデシルベン
ゼン スルホン酸ナトリウム 50mg/m”テ
トラゾリウム化合物(表3に示す) 50mg/m’
化合物(N) 化合物(0) スチレン−マレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)銀量 ホルマリン 40mg/m” 50mg/□2 20mg/m2 2.0g/m” 3.5g/m2 10mg/m’ 化合物(O) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6,5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
リマー 1.0g/m”フェノール
l mg/m”サポニン
200mg/m”ドデシルベン
ゼン スルホン酸ナトリウム 50mg/m”テ
トラゾリウム化合物(表3に示す) 50mg/m’
化合物(N) 化合物(0) スチレン−マレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)銀量 ホルマリン 40mg/m” 50mg/□2 20mg/m2 2.0g/m” 3.5g/m2 10mg/m’ 化合物(O) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6,5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
弗素化ジオクチル
スルホコハク酸エステル 100mg/m”ジ
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m”マ
ット剤:不定型シリカ 50mg/m”化
合物(0) 30mg/m”
5−メチルベンゾトリアゾール 20mg/m
’化合物(P)500mg/m” 没食子酸プロピルエステル 30On+g/m
”スチレン−マレイン酸共重合体 100mg/
m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.
Og/m”ホルマリン lo
mg/m2ポリアクリルアミド 500
mg/m”尚、あらかじめクエン酸でpH5,4に調整
したのち塗布した。
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m”マ
ット剤:不定型シリカ 50mg/m”化
合物(0) 30mg/m”
5−メチルベンゾトリアゾール 20mg/m
’化合物(P)500mg/m” 没食子酸プロピルエステル 30On+g/m
”スチレン−マレイン酸共重合体 100mg/
m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.
Og/m”ホルマリン lo
mg/m2ポリアクリルアミド 500
mg/m”尚、あらかじめクエン酸でpH5,4に調整
したのち塗布した。
化合物(P)
次に乳剤層とは、反対側の支持体上に、実施例2と全く
同様にして帯電防止層、バッキング層を設けた。ただし
この時のバッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
。
同様にして帯電防止層、バッキング層を設けた。ただし
この時のバッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
。
実施例2と同様に処理し、評価した。
ただし、現像液は下記のものを用いた。得られた結果を
表3に示す。
表3に示す。
(組成A)
純水(イオン交換水) l 50mf
fエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチ
レングリコール 50g亜硫酸カリウ
ム(55%w/v水溶液) 100m12炭酸カ
リウム 50gハイドロキノ
ン 15g1−フェニル−3
−ピラゾリドン 0.5g1−フェニル−
5−メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム
使用液のpHを10.4にする量臭化カリウム
4.5g(組成B) 純水(イオン交換水) 3mgジエ
チレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二 ナ ト リ ラム塩 5mg 酢酸(90% 水溶液) 0.3m2 現像液の使用時に水500mI2中に上記組J*A。
fエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチ
レングリコール 50g亜硫酸カリウ
ム(55%w/v水溶液) 100m12炭酸カ
リウム 50gハイドロキノ
ン 15g1−フェニル−3
−ピラゾリドン 0.5g1−フェニル−
5−メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム
使用液のpHを10.4にする量臭化カリウム
4.5g(組成B) 純水(イオン交換水) 3mgジエ
チレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二 ナ ト リ ラム塩 5mg 酢酸(90% 水溶液) 0.3m2 現像液の使用時に水500mI2中に上記組J*A。
組
表3の結果からも実施例2のヒドラジン化合物の場合と
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
本発明によりヘーズのない透明性に優れた帯電防止層を
有し、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物の
ような超硬調化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化
が少なく、かつ減感せず、安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができた。
有し、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物の
ような超硬調化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化
が少なく、かつ減感せず、安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができた。
Claims (2)
- (1)[1]水溶性導電性ポリマー、[2]疎水性ポリ
マー粒子、[3]硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がシアノ基含有のラテックスとし
て帯電防止層中に分散安定化されていることを特徴とす
る帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)請求項1記載の感光性乳剤層中に、テトラゾリウ
ム化合物またはヒドラジン化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19718489A JPH0359645A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19718489A JPH0359645A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0359645A true JPH0359645A (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=16370202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19718489A Pending JPH0359645A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0359645A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008311399A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Ibaraki Univ | ヒートシンク |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP19718489A patent/JPH0359645A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008311399A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Ibaraki Univ | ヒートシンク |
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