JPH0361357A

JPH0361357A - 蒸着装置

Info

Publication number: JPH0361357A
Application number: JP19405389A
Authority: JP
Inventors: Keizo Matsushita; 松下　恵造; Yoshiyuki Mihashi; 善之三橋
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1989-07-28
Filing date: 1989-07-28
Publication date: 1991-03-18
Anticipated expiration: 2013-11-25
Also published as: JP2827302B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は、電子若しくはイオンビームが照射されて蒸
着材料を蒸発させる蒸発源及びこれを用いた蒸着装置に
係り、特に、設置面積を拡大することなく、薄膜形成対
象物への生産性を向上させる上で極めて有効な新方式の
蒸発源及びこれを用いた蒸着装置に関する。

〔従来の技術〕

従来における蒸着装置としては、例えば第１３図に示す
ように、真空チャンバ１０１の中央底部に蒸着材料Ｍが
仕込まれた蒸発源としてのハース１０２を配設すると共
に、ハース１０２内の蒸着材料Ｍに対して電子ビームＢ
ｍが照射される例えば一対の電子ガン１０３を配設する
一方、上記真空チャンバ１０１の上方には例えば薄膜形
成対象物としての基板１０４を複数配設し、電子ビーム
Ｂｍによって蒸着材料Ｍを蒸発させ、基板１０４表面に
蒸着材料Ｍを付着するようにしたものが知られている（
株式会社アグネの「真空技術］シークフリート・シラー
、ウルリッヒ・ハイジッヒ著〔日本真空技術（株）訳〕
第５０〜５１頁参照）。

尚、第１３図中、符号１０５は電子ガン１．０３からの
電子ビームＢｍをハース１０２内の蒸着材料Ｍに向けて
導くための偏向電極である。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、従来の蒸着装置において用いられる蒸発源と
してのハース１０２は主として溶融性の蒸着材料Ｍを想
定して設計され、所謂ルツボ型の受け別構成になってい
たため、ハース１０２の配設姿勢は水平方向に限られ、
必然的に、蒸着材料Ｍの付着可能領域は鉛直上方に制約
されてしまう。

それゆえ、複数の基板１０４を着膜する際には、付着条
件が均一になる範囲で、ハース１０２の鉛直上方におい
て複数の基板１０４を配置することが必要になるが、特
に、薄膜形成対象物である基板１０４自体が大型化して
きた場合には、真空チャンバ１０１自体の設置面積を拡
大しない限り、基板１０４の配置スペースを確保するこ
とが困難であり、真空チャンバ１０１の設置面積当たり
の処理能力そのものが頭打ちになっていた。

この発明は、以上の技術的課題に着目してなされたもの
であって、設備設置面積当たりの蒸着処理能力を向上さ
せることを可能とした蒸発源及びこれを用いた蒸着装置
を提供するものである。

〔課題を解決するための手段〕

すなわち、この発明に係る蒸発源は、昇華性の蒸着材料
に着目したもので、取付はベースに対して傾動自在に支
承され、所定姿勢にて固定される支持部材と、この支持
部材に昇華性蒸着材料が位置決め保持される保持ハース
とを備えたことを特徴とするものである。

更に、この発明に係る蒸着装置は、真空チャンバと、こ
の真空チャンバ内の中央部に配設された上記発明構成の
蒸発源と、この蒸発源に保持された昇華性蒸発材料へ電
子若しくはイオンビームを照射するビームガンと、上記
蒸発源を囲繞して設けられると共に、多数の薄膜形成対
象物が略垂直に着脱自在に保持される薄膜形成対象物保
持手段と、上記蒸発源に対して薄膜形成対象物保持手段
を相対的に回転させる回転駆動手段とを備えたことを特
徴とするものである。

このような技術的手段において、上記蒸発源において用
いられる昇華性の蒸着材料としては、錫ドープ酸化イン
ジウム（ＩＴＯ）を始め用途に応じて適宜選定すること
ができる。

また、上記支持部材の支持構造としては、傾動自在なチ
ルト支持機構にて支持部材を支承し、しかも、支持部材
を任意の位置で拘束し得るものであれば、適宜設計変更
して差し支えない。

更に、上記保持ハースとしては、上記支持部材の傾斜姿
勢に応じて蒸着材料の位置がずれないように保持するこ
とができ、しかも、蒸着材料の蒸発条件を維持する上で
冷却水や電流を導入し得るものであれば、適宜設計変更
して差し支えない。

また、上記蒸着材料の仕込み量を増加して長時間連続蒸
着を実現するという観点に立てば、上記保持ハース構成
として、表面部位に昇華性蒸着材料の受け部が設けられ
る回転可能な回転ノ１−ス本体と、この回転ハース本体
の受け部に位置決めされた昇華性蒸着材料を保持する材
料ホルダとからなるものを用いることが好ましい。この
場合において、上記回転ハース本体の回転動作としては
、蒸着材料の蒸発速度を考慮し、リング状の蒸着材料全
体を順次消費するように連続的に回転させるようにして
もよいし、複数個の単位蒸着材料を個々的に配置した場
合にあっては、各単位蒸着材料を順次消費するように間
欠的に回転させるようにしてもよい。

更にまた、このような蒸発源を利用した蒸着装置発明に
おいて、真空チャンバとしては、薄膜形成対象物の出し
入れが可能で、しかも、所望の真空度を保持し得るよう
に設計したものであれば、適宜設計変更して差し支えな
い。

また、真空チャンバ内に配設される蒸発源の数としては
、必ずしも一つである必要はなく、付着処理面積を上下
方向において拡大する場合には、垂直方向において蒸発
源を複数配設するように設計することが好ましい。

そしてまた、ビームガンの配役位置については、支持部
材の傾斜位置が変化することに伴って、保持ハースにて
保持される蒸着材料へのビーム照射位置も変化するため
、ビームガンと保持ノ＼−スとの相対位置が変化しない
ように、支持部材上にビームガンを固定的に配設するか
、あるいは、上記支持部材の傾斜位置に応じてビームガ
ンの傾斜姿勢あるいはビーム軌跡を変化させるように設
計することが必要である。

また、薄膜形成対象物保持手段としては、所定サイズの
薄膜形成対象物専用に予め製作しても差し支えないが、
蒸着装置としての汎用性を高めるという観点からすれば
、薄膜形成対象物保持手段として、上記蒸発源を囲繞し
て設けられるドラム状取付はフレームと、このドラム状
取付はフレームの円周方向に対して係脱自在に所定数配
置され、上下方向にて所定数の薄膜形成対象物が着脱自
在に保持される対象物ホルダとを備える等、各種サイズ
の薄膜形成対象物に対応できるように設計することが好
ましい。

この場合において、上記対象物ホルダの汎用性をより高
めるという観点からすれば、薄膜形成対象物の上下方向
寸法あるいは幅方向寸法に応じて対象物ホルダの薄膜形
成対象物保持領域を可変設定し得るように設計すること
が好ましい。

更に、上記回転駆動手段としては、蒸発源から蒸発した
蒸着材料が周囲の薄膜形成対象物に均一に付着するよう
に、薄膜形成対象物保持手段及び蒸発源の少なくともい
ずれか一方を所定速度で回転させるようにしたものであ
れば適宜設計変更することができる。

〔作用〕

上述したような技術的手段において、上記蒸発源は、昇
華性蒸着材料を任意の傾斜角度にて保持するものである
ため、蒸着材料の蒸発主方向を鉛直方向に制約すること
なく任意に設定することができる。

また、上記蒸着装置にあっては、蒸発源からの昇華性蒸
着材料の蒸発主方向が真空チャンバの側方に向かう任意
の方向に予め設定され、しかも、回転駆動手段が蒸発源
に対して薄膜形成対象物保持手段を相対的に回転させる
ので、蒸発源から蒸発した蒸着材料は上記蒸発主方向を
中心とした蒸発源の周囲全域に向かい、薄膜形成対象物
表面に均一に付着される。

〔実施例〕

以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの発明の詳細
な説明する。

第１図及び第２図はこの発明が適用された蒸着装置の一
実施例を示す。

同図において、符号１は真空チャンノく、２０（具体的
には２０ａ、２０ｂ）は真空チャンノ＜ｌの中央部鉛直
方向において上下に一対配設される蒸発源、４０（具体
的には４０ａ、４０ｂ）は各蒸発源２０の蒸着材料Ｍ（
この実施例では錫ドープ酸化インジウム［：ＩＴＯ］）
へ電子ビームを照射する電子ガンユニット、５０は薄膜
形成対象物である基板Ｇを保持する基板保持装置、９０
は基板保持装置５０を回転させる回転駆動装置である。

この実施例において、真空チャンノく１は架台２上に設
置されており、上下が塞がれた円筒状のチャンバ本体３
の周壁のうち相対向する部位にドア開口４，５を夫々開
設し、各ドア開口４，５には開閉ドア６．７を開閉自在
に取付け、各開閉ドア６．７を開放することにより、真
空チャンノく１内に薄膜形成対象物となる基板Ｇを出し
入れできる構成になっている。また、上記チャンバ本体
２の底壁には高真空ゲートバルブ９を介して真空ポンプ
ｌＯが連通接続されており、上記真空ポンプＩＯには連
通配管１１を介して粗引き用ポンプユニッｔ−１２が連
通接続されている。更に、上記真空チャンバｌの内周壁
全域には背面ヒータ１３が設けられており、真空チャン
バｌ内の周囲に配置される基板Ｇを所定温度に加熱して
蒸着材料Ｍである錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）の
付着性を維持するようになっている。

また、下側蒸発源２０ａは下側取付はブラケット２１　
（具体的には２１ａ）を介して真空チャンバ１の底部に
設置されており、一方、上側蒸発＃、２０ａは上側取付
はブラケット２１（具体的には２１ｂ）を介して真空チ
ャンバｌの頂部に吊り下げ支持されている。

この実施例において、蒸発源２０は、特に第３図（ａ）
（ｂ）に示すように、上記取付はブラケット２１に傾動
自在に支承される支持プレート２２と、この支持プレー
ト２２上に配設される蒸着材料Ｍ保持用の保持ハース３
０とを備えている。

より具体的に述べると、上記支持プレート２２の支持構
造は、取付はブラケット２１に一対のサポートブラケッ
ト２３を立設すると共に、このサポートブラケット２３
には軸受部材２６を介して一対の中空状の回転シャフト
２４（具体的には２４ａ、２４ｂ）を回転自在に軸支す
る一方、上記支持プレート２２の両側に一対の突出片２
５を突設すると共に、この突出片２５に上記回転シャフ
ト２４を固着し、更に、上記回転シャフト２４の一端に
は回転角調整機構２７を介してアクチュエータとしての
パルスモータ２８の出力軸を連結し、図示外の制御盤上
で指定した位置情報により上記パルスモータ２８を適宜
回転させ、上記支持プレート２２のチルト姿勢を所望の
ものに設定するようにしたものである。

この実施例において、上記回転角調整機構２７は、特に
第３図（ｂ）に示すように、取付はブラケット２１に固
着されるパルスモータ２８の出力軸により回転する上下
方向に延びる駆動シャフト２０１と、この駆動シャフト
２０１の回転をベベルギア２０２を介して略水平方向へ
伝達する伝達シャフト２０３と、この伝達シャフト２０
３の回転を上記回転シャフト２４に伝達する伝達ギア２
０４とを備えている。尚、符号２０５は上記伝達シャフ
ト２０３を回転支承する軸受部材である。

また、上記保持ハース３０は、特に第３図及び第４図に
示すように、支持プレート２２の表面−側に回転軸体３
１を介して回転自在に支承される円柱状の回転ハース本
体３２と、この回転ハース本体３２表面に取り付けられ
、かつ、円周方向に所定角度間隔で複数の円形状材料受
け部３４が例えば六個形成されたベースプレート３３と
、各材料受け部３４にボンディングされた蒸着材料Ｍで
ある円板状の材料ペレット３５を拘束保持すべく、ベー
スプレート３３にねじ３７止めされるクランプリング３
６とを備えている。尚、符号３９は蒸着対象箇所以外の
材料パレット３５を覆うカバーである。

この実施例において、回転軸体３１は、支持プレート２
２の裏面側に設けられた回転支持機構３００を介してア
クチュエータとしてのパルスモータ３０１の出力軸に連
結されており、このパルスモータ３０１にて所定の時間
間隔（この実施例では上記材料ペレット３５が電子ビー
ムによって消費される上で充分な時間）で材料ペレット
３５間の回転角度分だけ間欠的に回転するようになって
いる。

そして、上記回転支持機構３００は、例えば、取付はブ
ラケット２１に固着された上記パルスモータ３０１の出
力軸により回転する上下方向に延びる駆動シャフト３０
２と、この駆動シャフト３０２の回転をベベルギア３０
３を介して略水平方向に伝達し、かつ、上記一方の回転
シャフト２４ａの中空部に軸受部材３０４を介して回転
支承される第一伝達シャフト３０５と、この第一伝達シ
ャフト３０５と略平行に配置され、支持プレート２２に
固着される軸受部材３０６を介して回転支承される第二
伝達シャフト３０７と、第一伝達シャフト３０５から第
二伝達シャフト３０７へ駆動力を伝達するプーリ、ベル
トからなるベルト伝達系３０８と、上記第二伝達シャフ
ト３０７の回転を回転軸体３１に伝達するベベルギア３
０９とで構成されている。

また、上記回転ハース本体３２内には冷却水が導入され
る冷却水路（図示せず）が形成されており、この冷却水
路には冷却水供給装置３２０からの冷却水が供給される
ようになっている。

この実施例において、冷却水供給装置３２０は、上記取
付はブラケット２１に固着されるハース冷却水供給部３
２１と、このハース冷却水供給部３２１からの冷却水を
回転支持機構３００の設けられていない側の回転シャフ
ト２４ｂの中空部を介して上記回転軸体３１の中心部よ
り上記冷却水路へ導く冷却水導入配管３２２と、冷却水
路からの水を回転軸体３１の中心部より上記回転シャフ
ト２４ｂの中空部を介して冷却水供給部３２１へ戻す冷
却水排出配管３２３とを備えている。

そしてまた、回転ハース本体３２は図示外の通電ハーネ
スを介して真空チャンバ１に接続されている。

更に、この実施例においては、上記電子ガンユニット４
０は、上記支持プレート２２の表面他側に固定されてお
り、ユニットケース４Ｉ内に電子ビームＢｍが照射され
る電子ガン４２及び電子ガン４２からの電子ビームＢｍ
が所定角度（この実施例では２７０°）偏向される偏向
電極４３を格納したものである。そして、電子ガン４２
からの電子ビームＢｍは、偏向電極４２にて偏向された
後、ユニットケース４１のビーム開口４４がら外部に導
出されると共に、保持ハース３ｏの特定位置にある材料
ペレット３５部位に照射されるようになっている。尚、
第３図（ｂ）中、符号４５は電子ガンユニット４ｏへの
電力供給用ハーネスである。

また、上記基板保持装置５ｏは、第１図及び第２図に示
すように、真空チャンバ１の周囲に配設されるドラム状
の取付はフレーム５１と、この取付はフレーム５Ｉに係
脱自在な複数の基板ホルダ６０とで構成されている。

この実施例において、上記取付はフレーム５１は、特に
第５図に示すように、真空チャンバ１内の上方に配設さ
れるアッパリング５２と、真空チャンバ１内の下方に配
設されるロアリング５３と、アッパリング５２及びロア
リング５３間を連結する複数の連結バー５４とを備え、
回転駆動リング５５上に複数の連結サポート５６を介し
て固定されている。

そして、上記回転駆動リング５５は下方側へ突出する複
数のガイドローラ５７を有し、真空チャンバｌの底部に
配設されたリング状のガイドレール５８に沿ってガイド
ローラ５７を摺動自在に移動させることにより回転動作
し得るようになっている。

一方、基板ホルダ６０は、第１図、第２図及び第６図に
示すように、取付はフレーム５１の円周方向に沿って所
定数（この実施例では１５個）配列されると共に、所定
数（この実施例では三枚）の基板Ｇを略垂直な姿勢に保
持するようになっている。

より具体的に述べると、この実施例に係る基板ホルダ６
０は、特に第７図ないし第９図に示すように、基板Ｇの
幅方向両側に沿って垂直方向に延びる一対のホルダ縦フ
レーム６１．６２と、このホルダ縦フレーム６１．６２
間にねじ６５止めにて架設される複数（この実施例では
五本）のホルダ横フレーム７１ないし７５とを備えてい
る。

そして、上記ホルダ縦フレーム６１．６２にはホルダ横
フレーム７１ないし７５の取付孔６３が各種基板Ｇサイ
ズを考慮して多数開設されており、上記ホルダ縦フレー
ム６１．６２の上下方向略中央には持ち運び用のハンド
ル６４が設けられている。

また、最上段のホルダ横フレーム７１の略中央には上記
取付はフレーム５１のアッパリング５２に係脱される係
止フック７６が溶接されており、上記アッパリング５２
の各基板ホルダ６０の取付は位置に対応した部位には係
止フック７Ｇを位置決めする位置決めガイド５９が設け
られている。

そしてまた、上記最上段のホルダ横フレーム７１の下縁
両側には第一のホルダクランパ７７が、第二段目、第三
段目のホルダ横フレーム７２，７３には第二のホルダク
ランパ７８が、第四段目のホルダ横フレーム７４には第
三のホルダクランパ７９が夫々ねじ８０止めされている
。尚、この実施例では、付着対象となる基板Ｇの上下方
向寸法の関係から最下段のホルダ横フレーム７５にはホ
ルダクランパが設けられていない。

この実施例において、上記第一のホルダクランパ７７は
、取付は基部８１に基板Ｇの上縁が係止されるフック状
のクランプ板バネ８２をねじ８０止めしたものであり、
また、第二のホルダクランパ７８は、取付は基部８１の
上縁に基板Ｇの下縁が係止される保持溝８３を凹設する
と共に、取付は基部８１に基板Ｇの上縁が係止されるフ
ック状のクランプ板バネ８２をねじ８０止めしたもので
あり、更に、第三のホルダクランパ７９は、取付は基部
の上縁に基板Ｇの下縁が係止される保持溝８３を凹設し
たものである。

また、回転駆動装置９０は、特に第２図及び第５図に示
すように、真空チャンバ１の底部に配設された回転駆動
モータ９１と、この回転駆動モータ９１の回転シャフト
９２に連結されるピニオンギア９３と、上記回転駆動リ
ング５５の内周縁に刻設されて上記ピニオンギア９３が
噛み合うラック９４とで構成されている。

次に、この実施例に係る蒸発源及び蒸着装置の作動につ
いて説明する。

先ず、蒸発源２０の作動について述べると、第３図に示
すように、支持プレート２２は、図示外のチルト支持機
構にて任意のチルト姿勢（チルト角度θ）に設定される
。

このとき、上記保持ハース３０も上記支持プレート２２
のチルト姿勢に応じて傾斜配置されることになるが、材
料ペレット３５は固体状のもので上記保持ハース３０に
確実に保持されているため、材料ペレット３５が保持ハ
ース３０から零れたり、位置ずれしたりする懸念は全く
ない。そして、上記電子ガンユニット４０からの電子ビ
ームＢｍが保持ハース３０の特定位置Ｐにある材料ペレ
ット３５に照射されると、上記材料ペレット３５は上記
支持プレート２２のチルト姿勢に直交する方向を蒸発主
方向Ｓとして順次蒸発していく。

また、上記保持ハース３０は、矢印ｍ方向に向かって間
欠的に回転するため、新しい材料ペレット３５が電子ビ
ーム照射位置Ｐに順次供給されることになり、六個の材
料ペレット３５が総て消費されるまでの間連続蒸着処理
が行われ得る。

次に、蒸着装置の作動について述べると、例えば第１Ｏ
図に示すように、初期設定条件として、下側蒸発源２０
ａの支持プレート２２のチルト姿勢をチルト角度θｌに
設定し、保持ハース３０から蒸発する蒸着材料Ｍの付着
可能領域Ａ１として基板ホルダ６０の下側領域に対応し
たものを選定する一方、上側蒸発源２０ｂの支持プレー
ト２２のチルト姿勢をチルト角度θ２に設定し、保持ハ
ース３０から蒸発する蒸着材料Ｍの付着可能領域Ａ２と
して基板ホルダ６０の上側領域に対応したものを選定す
る。

このような初期設定を行った状態において、真空チャン
バｌ内を開放し、基板保持装置５ｏの取付はフレーム５
１に予め基板Ｇが保持された基板ホルダ６０をセットし
た後、真空チャンバ１内を所定の真空環境に調整する。

この後、上記一対の蒸発源２０ａ、２０ｂにて蒸着材料
Ｍの蒸発動作を行わせると共に、上記回転駆動装置９０
にて基板保持装置５０を矢印ｎ方向で回転させると、蒸
発１１２０ａ、２０ｂからの蒸着材料Ｍは夫々付着可能
領域ＡＩ、Ａ２に向かって蒸発しており、しかも、基板
保持装置５０に保持されている総ての基板Ｇは」二記付
着可能領域Ａ　１．　Ａ２を通過するので、基板保持装
置５０の各基板ホルダ６０に保持された基板Ｇは上記蒸
着材料Ｍにて均一に付着される。

また、基板保持装置５０は真空チャンバｌ内の側方空間
を鉛直方向において基板Ｇの配設スペースとして利用し
たものであるため、付着対象である基板Ｇの数が増加し
たとしても、基板Ｇの配役スペースが水平方向において
拡大することはなく、設備設置面積が不必要に増大する
事態は有効に回避される。

更に、この実施例においては、蒸着材料Ｍの一回の仕込
み量を充分に増加させることができるので、連続蒸着時
間を十分に長いものにして、厚膜蒸着を実現することが
できる。

尚、上記実施例の各構成要素については、基本的な機能
を実現する範囲で適宜設計変更して差し支えない。例え
ば、保持ハース３０の変形例としては、第１１図に示す
ように、回転ハース本体３２上のベースプレート３３表
面に一つの円形状材料受け部３４′　を形成し、この材
料受け部３４゜内にリング状の材料ペレット３５゛を収
容し、この材料ペレット３５′の外周縁をクランプリン
グ３６°で拘束保持すると共に、上記材料ペレット３５
゛の内周縁を円板状のクランププレート３８で拘束保持
するようにしてもよい。

この場合には、上記材料ペレット３５′がリング状に連
続的に露呈しているので、回転ハース本体３２を連続的
に回転させて材料ペレット３５゛を全体的に順次消費さ
せるようにすることができる。

また、上記実施例にあっては、上記支持プレート２２の
チルト動作あるいは上記保持ハース３゜の回転動作を行
うためのアクチュエータとしてのパルスモータ２８，３
０１を真空チャンバ１内に配設しているが、これに限ら
れるものではなく、例えば、第１２図に示すように、真
空チャンバ１の壁に貫通孔２１０（３３０）を開設し、
この貫通孔２１０（３３０）に対応した真空チャンバ１
の外側大気中にパルスモータ２８（３０１）を取付け、
上記貫通孔２１０（３３０）に上記パルスモータ２８（
３０１）からの出力軸２１１（３３Ｉ）を真空シール部
材２１２（３３２）を介して挿通させ、上記出力軸２１
１（３３１）からの駆動力をユニバーサルシャフト２１
３（３３３）。

ベベルギア２１４（３３４）、伝達シャフト２１５（３
３５）等を介して支持プレート２２．保持ハース３３へ
伝達するようにしてもよい。

この場合、アクチュエータとしてのパルスモータ２８，
３０１に関し、真空用のものを使用しなくて済むため、
アクチュエータを安価なものにすることができる。

〔発明の効果〕

以上説明してきたように、請求項１及び２記載の蒸発源
によれば、昇華性蒸着材料の蒸発主方向を任意の方向に
設定し得る構成になっているので、薄膜形成対象物の配
設スペースとして真空チャンバの鉛直上方空間に制約さ
れることなく、真空チャンバの側方空間を有効に利用す
ることができる。

特に、請求項２記載の蒸発源によれば、蒸着材料の一回
の仕込み量が受け皿の容量に制約されてしまう所謂ルツ
ボ聖女は皿構成の蒸発源に比べて、蒸着材料の一回の仕
込み量を増加させることができるので、長時間の連続蒸
着を実現することすることができる。

また、請求項３ないし６いずれかに記載の蒸着装置によ
れば、蒸発源の周囲に位置する真空チャンバ内の側方空
間全域を薄膜形成対象物の配設スペースとして使用する
ことが可能になるため、薄膜形成対象物が大型化したと
しても、設備設置スペースを不必要に拡大することなく
、多数の薄膜形成対象物を′均一に付着することが可能
になり、その分、設備設置面積当たりの蒸着処理能力を
従来方式のものに比べて高めることができる。

そして更に、請求項４記載の蒸着装置によれば、蒸発源
を鉛直方向に複数配置したので、各蒸発源毎に異なる付
着可能領域を設定することが可能になる。このため、設
備設置面積を拡大することなく、蒸発源に基づく付着可
能領域を上下方向において拡大することができる。

また、請求項５記載の蒸着装置によれば、薄膜形成対象
物保持手段として、真空チャンバ内に設けられるリング
状フレームに対し所定数の対象物ホルダを係脱自在とし
た構成のものが用いられるので、各種サイズの薄膜形成
対象物に対応した対象物ホルダを予め用意しておけば、
各種サイズの薄膜形成対象物に対して蒸着装置を汎用的
に使用することができる。

特に、請求項６記載の蒸着装置によれば、薄膜形成対象
物の上下方向寸法変化に対しては一つの対象物ホルダで
吸収できるようにしたので、その分、対象物ホルダの汎
用性を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る蒸発源及びこれを用いた蒸着装
置の一実施例の概略構成を示す斜視説明図、第２図は第
１図中■−■線断面図、第３図（ａ）（ｂ）は実施例で
用いられる蒸発源の詳細を示す一部破断正面説明図及び
一部破断平面説明図、第４図は実施例で用いられる保持
ハースの詳細を示す斜視図、第５図は実施例で用いられ
る基板保持手段のリング状フレーム及び回転駆動手段の
詳細を示す第２図中ｖ部矢視図、第６図は実施例で用い
られる基板ホルダの配設位置関係を示す第２図中■方向
から見た矢視図、第７図は上記基板ホルダの詳細を示す
斜視図、第８図は第７図中■方向から見た矢視図、第９
図は第７図中ＩＸ−ＩＸ線断面図、第１０図は実施例に
係る蒸着装置の作動状態を示す説明図、第１１図は蒸発
源の保持ハースの変形例を示す分解斜視図、第１２図は
実施例で用いられる支持プレート２２のチルト動作ある
いはは保持ハース３０の回転動作を行うための駆動系の
変形例を示す模式図、第１３図は従来における蒸着装置
の一例を示す説明図である。〔符号の説明〕Ｍ・・・蒸着材料Ｂｍ・・・電子ビームト・・真空チャンバ２０・・・蒸発源２１・・・取付はブラケット２２・・・支持プレート３０・・・保持ハース３２・・・回転ハース本体３・１・・・材料受け部３６．３６’　・・・クランプリング３８・・・クランププレート４２・・・電子ガン５０・・・基板保持装置５１・・・取付はフレーム６０・・・基板ホルダ６１．６２・・・ホルダ縦フレームエないし７５・・・ホルダ横フレーム６・・・係止フックマないし７９・・・ホルダクランパ０・・・回転駆動装置

Claims

【特許請求の範囲】１）電子若しくはイオンビームが照射されて蒸発する蒸
着材料（Ｍ）を保持する蒸発源（２０）であって、取付
けベース（２１）に対して傾動自在に支承され、所定姿
勢にて固定される支持部材（２２）と、この支持部材（
２２）に昇華性蒸着材料（Ｍ）が位置決め保持される保
持ハース（３０）とを備えたことを特徴とする蒸発源。２）請求項１記載のものにおいて、上記保持ハース（３０）は、表面部位に昇華性蒸着材料
（Ｍ）の受け部（３４，３４’）が設けられ、連続的若
しくは間欠的に回転する回転ハース本体（３２）と、こ
の回転ハース本体（３２）の受け部（３４，３４’）に
位置決めされた昇華性蒸着材料（Ｍ）を保持する材料ホ
ルダ（３６，３６’，３８）とで構成されていることを
特徴とする蒸発源。３）真空チャンバ（１）と、この真空チャンバ（１）内の中央部に配設された請求項
１若しくは２記載の蒸発源（２０）と、この蒸発源（２
０）に保持された昇華性蒸発材料（Ｍ）へ電子若しくは
イオンビーム（Ｂｍ）を照射するビームガン（４２）と
、上記蒸発源（２０）を囲繞して設けられると共に、多数
の薄膜形成対象物（Ｇ）が略垂直に着脱自在に保持され
る薄膜形成対象物保持手段（５０）と、上記蒸発源（２
０）に対して薄膜形成対象物保持手段（５０）を相対的
に回転させる回転駆動手段（９０）とを備えたことを特
徴とする蒸着装置。４）請求項３記載のものにおいて、蒸発源（２０）が鉛直方向において複数配置されている
ことを特徴とする蒸着装置。５）請求項３若しくは４記載のものにおいて、上記薄膜
形成対象物保持手段（５０）は、上記蒸発源（２０）を
囲繞して設けられるドラム状取付けフレーム（５１）と
、このドラム状取付けフレーム（５１）の円周方向に対し
て係脱自在に所定数配置され、上下方向にて所定数の薄
膜形成対象物（Ｇ）が着脱自在に保持される対象物ホル
ダ（６０）とを備えていることを特徴とする蒸着装置。６）請求項５記載のものにおいて、上記対象物ホルダ（６０）は、薄膜形成対象物（Ｇ）の
幅方向両側に沿って延びる一対のホルダ縦フレーム（６
１，６２）と、このホルダ縦フレーム（６１，６２）間に架設されると
共に薄膜形成対象物（Ｇ）の上下端を保持するホルダク
ランパ（７７，７８，７９）が設けられる複数のホルダ
横フレーム（７１，７２，７３，７４，７５）とを備え
、上記薄膜形成対象物（Ｇ）の上下方向寸法に応じて上
記ホルダ横フレーム（７１，７２，７３，７４，７５）
位置をホルダ縦フレーム（６１，６２）に沿って移動調
整し得るようにしたことを特徴とする蒸着装置。