JPH0361392A - 低融点組成物およびその浴を用いる電気アルミニウムめっき方法 - Google Patents
低融点組成物およびその浴を用いる電気アルミニウムめっき方法Info
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- JPH0361392A JPH0361392A JP19386289A JP19386289A JPH0361392A JP H0361392 A JPH0361392 A JP H0361392A JP 19386289 A JP19386289 A JP 19386289A JP 19386289 A JP19386289 A JP 19386289A JP H0361392 A JPH0361392 A JP H0361392A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、アルミニウムを含有する新規な低融点組成物
およびこの組成物を用いてアルミニウムを効率的に電気
めっきする方法に関する。
およびこの組成物を用いてアルミニウムを効率的に電気
めっきする方法に関する。
（従来の技術）
アルミニウムの電気めっきは、アルミニウムの酸素に対
する親和力が大きく、電位が水素より低いので、水ｌ８
液系のめっき浴で行うことは困難である。このため、従
来よりアルミニウムの電気めっきは非水溶液系のめっき
浴、特に有機溶媒系のめっき浴で検討が行われている。
する親和力が大きく、電位が水素より低いので、水ｌ８
液系のめっき浴で行うことは困難である。このため、従
来よりアルミニウムの電気めっきは非水溶液系のめっき
浴、特に有機溶媒系のめっき浴で検討が行われている。
この有機溶媒系のめっき浴としては、塩化アルミニウム
とＬｉＡｊ２Ｈ−またはＬｉＨとをエーテルに：ｌ 溶
解Ｌ タモ（１） ヤ、Ａ、ｅＣ！２．とＩ−ｉ Ａ
１２ Ｈ４とをテトラヒドロフランに溶解したものが代
表的な一例である（例えば、Ｄ 、 Ｅ 、 ＣＯＬ
Ｉ Ｃｈら、Ｊ、Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ、、９９巻（
６）、２３４頁）。しかし、これらのめっき浴はいずれ
も浴中に非常に活性なＬｉＡｊ２Ｈ４またはＬｉＨを含
んでいるため、酸素や水分が存在すると、それらと反応
して分解し、電流効率が低下したり、浴の寿命が短くな
ってしまう欠点があった。また、使用する有機溶媒の沸
点が低く、爆発や燃焼の危険性が高いという問題点を有
していた。
とＬｉＡｊ２Ｈ−またはＬｉＨとをエーテルに：ｌ 溶
解Ｌ タモ（１） ヤ、Ａ、ｅＣ！２．とＩ−ｉ Ａ
１２ Ｈ４とをテトラヒドロフランに溶解したものが代
表的な一例である（例えば、Ｄ 、 Ｅ 、 ＣＯＬ
Ｉ Ｃｈら、Ｊ、Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ、、９９巻（
６）、２３４頁）。しかし、これらのめっき浴はいずれ
も浴中に非常に活性なＬｉＡｊ２Ｈ４またはＬｉＨを含
んでいるため、酸素や水分が存在すると、それらと反応
して分解し、電流効率が低下したり、浴の寿命が短くな
ってしまう欠点があった。また、使用する有機溶媒の沸
点が低く、爆発や燃焼の危険性が高いという問題点を有
していた。
さらに、他の一例として、トリエチルアルミニウムとＮ
ａＦをトノレニンに溶解しためつきン谷も提案されてい
る（Ｒ，５ｕｃｈｅｎｔｒｕｎｋ。
ａＦをトノレニンに溶解しためつきン谷も提案されてい
る（Ｒ，５ｕｃｈｅｎｔｒｕｎｋ。
Ｚ、Ｗｅｒｋｓｔｏｆｆｔｅｃｈ、、１２巻。
１９０頁）、シかしながら、この場合も危険性の高いト
リエチルアルミニウムの取り扱いが非常に問題であり、
実用化は困難であると考えられる。
リエチルアルミニウムの取り扱いが非常に問題であり、
実用化は困難であると考えられる。
（発明が解決しようとする課題）
上記の従来の技術では、アルミニウムをめっきするとい
う課題は一応成功しているものの、用いられる化学物質
の取り扱いの難しさから、実用化技術として広＜一般に
利用できるものとは言い難い。
う課題は一応成功しているものの、用いられる化学物質
の取り扱いの難しさから、実用化技術として広＜一般に
利用できるものとは言い難い。
本発明は、取り扱いが容易でかつ効率的にアルミニウム
のめっきができる新しい電気アルミニウムめっき浴とそ
の浴を用いるめっき方法を提供するものである。
のめっきができる新しい電気アルミニウムめっき浴とそ
の浴を用いるめっき方法を提供するものである。
（課題を解決するための手段）
本発明は、アルミニウムハロゲン化物と、１．３−ジア
ルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物とを混合して
なる新規な低融点組成物であり、さらにこの新規な組成
物をめっき浴として用いる電気アルミニウムめっき方法
である。
ルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物とを混合して
なる新規な低融点組成物であり、さらにこの新規な組成
物をめっき浴として用いる電気アルミニウムめっき方法
である。
本発明による新規な組成物の特徴の一つは、ふたつの化
合物の広い組成範囲において低融点化合物を形成し、常
温においても取り扱いの容易な液体となること、また、
第二の特徴として、この新規な組成物は溶融状態におい
てかなり高いイオン伝導性を有していることである。
合物の広い組成範囲において低融点化合物を形成し、常
温においても取り扱いの容易な液体となること、また、
第二の特徴として、この新規な組成物は溶融状態におい
てかなり高いイオン伝導性を有していることである。
すなわち、これらの特徴はめっき浴としての優れた重要
な基本的特徴であり、新規な組成物は電気アルミニウム
めっき浴として非常に優れた特性を有するものであると
いえる。
な基本的特徴であり、新規な組成物は電気アルミニウム
めっき浴として非常に優れた特性を有するものであると
いえる。
ここで述べる１、３−ジアルキルベンズイミダゾリウム
ハロゲン化物は、次の一般式で示される化合物である。
ハロゲン化物は、次の一般式で示される化合物である。
（式中、Ｒ’およびＲ２はそれぞれ炭素ＩＪ［ｌ〜６の
アルキル基を表し、Ｘ−は陰イオンを表す）１．３−ジ
アルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物の具体的な
例としては、１．３−ジメチルベンズイミダゾリウムブ
ロマイド、１．３−ジメチルベンズイミダゾリウムアイ
オダイド、ｌ−メチル−３−エチルベンズイミダゾリウ
ムブロマイド、ｌ−メチル−３−エチルベンズイミダゾ
リウムクロライド、１−メチル−３−ブチルベンズイミ
ダゾリウムフルオライド、ｌ−エチル−３−プロピルベ
ンズイミダゾリウムブロマイドなどを挙げることができ
る。
アルキル基を表し、Ｘ−は陰イオンを表す）１．３−ジ
アルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物の具体的な
例としては、１．３−ジメチルベンズイミダゾリウムブ
ロマイド、１．３−ジメチルベンズイミダゾリウムアイ
オダイド、ｌ−メチル−３−エチルベンズイミダゾリウ
ムブロマイド、ｌ−メチル−３−エチルベンズイミダゾ
リウムクロライド、１−メチル−３−ブチルベンズイミ
ダゾリウムフルオライド、ｌ−エチル−３−プロピルベ
ンズイミダゾリウムブロマイドなどを挙げることができ
る。
また、アルミニウムハロゲン化物とは、Ａ４２Ｘ、（Ｘ
はハロゲン原子を表す）で示される化合物で、具体的に
はＡ Ｉ Ｆ ｓ 、 Ａ Ｑ ＣＱ ３、Ａ Ｑ Ｂ
ｒ ３および／ＩＩ３を挙げることができる。
はハロゲン原子を表す）で示される化合物で、具体的に
はＡ Ｉ Ｆ ｓ 、 Ａ Ｑ ＣＱ ３、Ａ Ｑ Ｂ
ｒ ３および／ＩＩ３を挙げることができる。
本発明によるアルミニウムを含有する新規な組成物は、
アルミニウムハロゲン化物と、１．３−ジアルキルベン
ズイミダゾリウムハロゲン化物とを混合溶融することに
より製造される。この場合、２０〜８０モル％のアルミ
ニウムハロゲン化物と、８０〜２０モル％の１．３−ジ
アルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物を混合する
ことにより、低融点組成物とすることができる。例えば
、塩化アルミニウムと１−メチル−３−エチルベンズイ
ミダゾリウムブロマイドとの組成物では、塩化アルミニ
ウム濃度が５５〜８０モル％の全域において、常温で液
体であり、かなり低粘度のものが得られる。
アルミニウムハロゲン化物と、１．３−ジアルキルベン
ズイミダゾリウムハロゲン化物とを混合溶融することに
より製造される。この場合、２０〜８０モル％のアルミ
ニウムハロゲン化物と、８０〜２０モル％の１．３−ジ
アルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物を混合する
ことにより、低融点組成物とすることができる。例えば
、塩化アルミニウムと１−メチル−３−エチルベンズイ
ミダゾリウムブロマイドとの組成物では、塩化アルミニ
ウム濃度が５５〜８０モル％の全域において、常温で液
体であり、かなり低粘度のものが得られる。
なお、上記組成物をめっき浴として電気アルミニウムめ
っきを効率的に実施するために、好ましい組成比は、ア
ルミニウムハロゲン化物が５０〜７５モル％で、１．３
−ジアルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物が２５
〜５０モル％、より好ましくはアルミニウムハロゲン化
物が５５〜７０モル％で、１３−ジアルキルベンズイミ
ダゾリウムハロゲン化物が３０〜４５モル％である。ア
ルミニウムハロゲン化物が少なすぎる系では１．３−ジ
アルキルベンズイミダゾリウムカチオンの分解と思われ
る反応が起り、また、アルミニウムハロゲン化物が多す
ぎる系ではめつき浴の粘度が上昇する傾向があるので、
好ましくなし）。
っきを効率的に実施するために、好ましい組成比は、ア
ルミニウムハロゲン化物が５０〜７５モル％で、１．３
−ジアルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化物が２５
〜５０モル％、より好ましくはアルミニウムハロゲン化
物が５５〜７０モル％で、１３−ジアルキルベンズイミ
ダゾリウムハロゲン化物が３０〜４５モル％である。ア
ルミニウムハロゲン化物が少なすぎる系では１．３−ジ
アルキルベンズイミダゾリウムカチオンの分解と思われ
る反応が起り、また、アルミニウムハロゲン化物が多す
ぎる系ではめつき浴の粘度が上昇する傾向があるので、
好ましくなし）。
新規な組成物の製造は一般に以下に述べる二工程からな
る方法によって行うことができる。
る方法によって行うことができる。
第１工程として、アルキルハライドと１−アルキルベン
ズイミダゾールとを反応溶媒とともに撹拌機つきオート
クレーブに仕込み、３０〜２００℃、好ましくは５０−
１５０℃で反応させ、四級化させる０反応後、溶媒およ
び未反応物を除去して１．３−ジアルキルベンズイミダ
ゾリウムハロゲン化物を得る。この場合の反応溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素溶
媒、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの
極性溶媒などが使用可能である。
ズイミダゾールとを反応溶媒とともに撹拌機つきオート
クレーブに仕込み、３０〜２００℃、好ましくは５０−
１５０℃で反応させ、四級化させる０反応後、溶媒およ
び未反応物を除去して１．３−ジアルキルベンズイミダ
ゾリウムハロゲン化物を得る。この場合の反応溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素溶
媒、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの
極性溶媒などが使用可能である。
第２工程では、第１工程で製造した１、３−ジアルキル
ベンズイミダゾリウムハロゲン化物とアルミニウムハロ
ゲン化物を所定の量混合し、不活性ガスの雰囲気下で加
熱するか、適当な溶媒に両者を懸濁させた状態で加熱混
合したのち、溶媒を除去することにより目的の電気アル
ミニウムめっき浴を製造することができる。いずれの場
合に６、混合時にかなりの発熱を伴うので、反応温度が
暴走しないように注意する必要がある。
ベンズイミダゾリウムハロゲン化物とアルミニウムハロ
ゲン化物を所定の量混合し、不活性ガスの雰囲気下で加
熱するか、適当な溶媒に両者を懸濁させた状態で加熱混
合したのち、溶媒を除去することにより目的の電気アル
ミニウムめっき浴を製造することができる。いずれの場
合に６、混合時にかなりの発熱を伴うので、反応温度が
暴走しないように注意する必要がある。
電気アルミニウムめっきは、めっき浴の安定性の維持お
よびめっき性状などの点から、 ｆｆ１Ｑに乾燥無酸素
雰囲気下で行われる。めっき条件としては、直流もしく
はパルス電流により浴温Ｏ〜３００℃、電流密度０．０
１〜５０Ａ／ｄｍ２で行うと、電流効率がよくかつ均一
なめっきをすることができる。浴温か低すぎると均一な
めっきとならず、また浴温が高すぎたり、電流密度が高
すぎると、１．３−ジアルキルベンズイミダゾリウムカ
チオンの分解、めっき層の不均一化、さらには電流効率
の低下が起り好ましくない。
よびめっき性状などの点から、 ｆｆ１Ｑに乾燥無酸素
雰囲気下で行われる。めっき条件としては、直流もしく
はパルス電流により浴温Ｏ〜３００℃、電流密度０．０
１〜５０Ａ／ｄｍ２で行うと、電流効率がよくかつ均一
なめっきをすることができる。浴温か低すぎると均一な
めっきとならず、また浴温が高すぎたり、電流密度が高
すぎると、１．３−ジアルキルベンズイミダゾリウムカ
チオンの分解、めっき層の不均一化、さらには電流効率
の低下が起り好ましくない。
ストリップなどを均一に連続めつきする場合、めっき浴
にへβイオンを補給して、洛中のＡＩ２イオン濃度を一
定の範囲に保つ必要があるが、この場合、陽極をアルミ
ニウム製可溶性電極にすると通電量に応じてＡＪ２イオ
ンが自動的に補給され、ハロゲン化アルミニウムの補給
によらずどもＡｆｆイオン濃度を一定の範囲に保つこと
ができる。
にへβイオンを補給して、洛中のＡＩ２イオン濃度を一
定の範囲に保つ必要があるが、この場合、陽極をアルミ
ニウム製可溶性電極にすると通電量に応じてＡＪ２イオ
ンが自動的に補給され、ハロゲン化アルミニウムの補給
によらずどもＡｆｆイオン濃度を一定の範囲に保つこと
ができる。
低温で効率的にめっきする場合、めっき浴の粘度を低下
させるために、めっき浴に有機溶媒を添加する方法が有
効である。この場合、有機溶媒としてベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロルベンゼンなどの不活性溶媒が好ま
しく、通常５ないし１００Ｖｏｌ−を添加して用いられ
る。
させるために、めっき浴に有機溶媒を添加する方法が有
効である。この場合、有機溶媒としてベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロルベンゼンなどの不活性溶媒が好ま
しく、通常５ないし１００Ｖｏｌ−を添加して用いられ
る。
また、めっき浴の導電率をあげるために、あるいはアル
ミニウムめっき層の均一化を図るために、アルカリ金属
またはアルカリ土類金属のハロゲン化物を添加する方法
も効果的である。この場Δ アＬ−ｈＩＩ全匣主ｔ−Ｌ
土アルカリ十類全圧のハロゲン化物の例として、ＬｉＣ
ｆｆ、ＮａＣｌ２、ＮａＦ、ＣａＣｆｆｚなどを挙げる
ことができ、通常これらの化合物をめっき浴に０．１〜
３０モル％添加して用いられる。
ミニウムめっき層の均一化を図るために、アルカリ金属
またはアルカリ土類金属のハロゲン化物を添加する方法
も効果的である。この場Δ アＬ−ｈＩＩ全匣主ｔ−Ｌ
土アルカリ十類全圧のハロゲン化物の例として、ＬｉＣ
ｆｆ、ＮａＣｌ２、ＮａＦ、ＣａＣｆｆｚなどを挙げる
ことができ、通常これらの化合物をめっき浴に０．１〜
３０モル％添加して用いられる。
（実施例１）
ｌ−メチルベンズイミダゾール１．０モル（１３２，２
ｇ）と臭化エチル１．１モル（ｔｔ９．９ｇ）および溶
媒としメタノール１００ｇをステンレス製オートクレー
ブに仕込み、撹拌しながら９０℃で５時間反応させた。
ｇ）と臭化エチル１．１モル（ｔｔ９．９ｇ）および溶
媒としメタノール１００ｇをステンレス製オートクレー
ブに仕込み、撹拌しながら９０℃で５時間反応させた。
反応生成物からロータリーエバポレーターを用いて溶媒
および未反応物を留去し、固形物２３６．７ｇを得た。
および未反応物を留去し、固形物２３６．７ｇを得た。
この固形物はｌ−メチル−３−エチルベンズイミダゾリ
ウムブロマイドであり、ｌ−メチルベンズイミダゾール
基準の反応収率は９８モル％であった。
ウムブロマイドであり、ｌ−メチルベンズイミダゾール
基準の反応収率は９８モル％であった。
次に、得られたｌ−メチル−３−エチルベンズイミダゾ
リウムブロマイド２４．１ｇ （０，１０モル）を窒素
雰囲気中でガラス製反応器に入れ、塩化アルミニウム２
６．６ｇ （（Ｌ ２０モル）を徐々に混合した。塩化
アルミニウムを投入することにより１−メチル−３−エ
チルベンズイミダゾリウムブロマイドとの固体界面で反
応が起り、徐々に液化が進行するが、この反応は発熱を
伴うので、反応温度が８０°Ｃを超えないように注意し
ながら塩化アルミニウムを全量投入した。この混合物は
常温で液体であり、電導塵は２５°Ｃで２．６ｍＳ／ｃ
ｍを示した６また、この系において、塩化アルミニウム
と１−メチル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマ
イドのモル比をｌから２まで変化させた場合の温度と電
導塵の関係は表１に示すようになり、全モル比の範囲に
おいて常温で溶液状態であり、また高い電導塵を示すこ
とから、電気アルミニウムめっきン谷としてｆｉれてい
る。
リウムブロマイド２４．１ｇ （０，１０モル）を窒素
雰囲気中でガラス製反応器に入れ、塩化アルミニウム２
６．６ｇ （（Ｌ ２０モル）を徐々に混合した。塩化
アルミニウムを投入することにより１−メチル−３−エ
チルベンズイミダゾリウムブロマイドとの固体界面で反
応が起り、徐々に液化が進行するが、この反応は発熱を
伴うので、反応温度が８０°Ｃを超えないように注意し
ながら塩化アルミニウムを全量投入した。この混合物は
常温で液体であり、電導塵は２５°Ｃで２．６ｍＳ／ｃ
ｍを示した６また、この系において、塩化アルミニウム
と１−メチル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマ
イドのモル比をｌから２まで変化させた場合の温度と電
導塵の関係は表１に示すようになり、全モル比の範囲に
おいて常温で溶液状態であり、また高い電導塵を示すこ
とから、電気アルミニウムめっきン谷としてｆｉれてい
る。
表１
モル比と電導塵の関係
モル比
１．０
１．５
２．０
温度２５ （°Ｃ） １．０ １．７ ２．
６３０ １．４ ２．０
３．１４０ ２．６ ３．６
４．６５０ ４．３
５．５ ６．４６０ ６．１
７．５ ８．５（実施例２．３および４） 実施例１と同様の反応方法により、１−メチルベンズイ
ミグゾールと塩化エチルからｌ−メチル−３−エチルベ
ンズイミダゾリウムクロライド（実施例２）、ｌ−イソ
プロピルベンズイミダゾールとエチルブロマイドからｌ
−イソプロピル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロ
マイド（実施例３）を合成した。
６３０ １．４ ２．０
３．１４０ ２．６ ３．６
４．６５０ ４．３
５．５ ６．４６０ ６．１
７．５ ８．５（実施例２．３および４） 実施例１と同様の反応方法により、１−メチルベンズイ
ミグゾールと塩化エチルからｌ−メチル−３−エチルベ
ンズイミダゾリウムクロライド（実施例２）、ｌ−イソ
プロピルベンズイミダゾールとエチルブロマイドからｌ
−イソプロピル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロ
マイド（実施例３）を合成した。
これらの四級塩を実施例１と同様の方法により塩化アル
ミニウムと混合し、塩化アルミニウムと四級塩のモル比
が２．０の組成物を調製した。これらの組成物の電導塵
を測定した結果を表２に示した。
ミニウムと混合し、塩化アルミニウムと四級塩のモル比
が２．０の組成物を調製した。これらの組成物の電導塵
を測定した結果を表２に示した。
さらに、臭化アルミニウムと実施例１で合成したｌ−メ
チル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマイドのモ
ル比が２．０の組成物を調製しく実施例４）、電導塵を
測定した結果を表２に示した。
チル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマイドのモ
ル比が２．０の組成物を調製しく実施例４）、電導塵を
測定した結果を表２に示した。
表２ 各種組成物の電導塵
（実施例５）
板厚０．５ｍｍの冷延鋼板に常法により溶媒蒸気洗浄、
アルカリ脱脂および酸洗などを施したものを乾燥後、直
ちに予め窒素雰囲気に保っておいた上記の実施例に示し
た組成物を電気アルミニウムめっき浴として、これに浸
漬した。
アルカリ脱脂および酸洗などを施したものを乾燥後、直
ちに予め窒素雰囲気に保っておいた上記の実施例に示し
た組成物を電気アルミニウムめっき浴として、これに浸
漬した。
その後、冷延鋼板を陰極、アルミニウム板（純度９９．
９９％、板厚１．Ｏｎ＋ｎ＋）を陽極にして、直流によ
り冷延鋼板にアルミニウムめっきを行った。
９９％、板厚１．Ｏｎ＋ｎ＋）を陽極にして、直流によ
り冷延鋼板にアルミニウムめっきを行った。
めっき浴として実施例１の塩化アルミニウムとｌ−メチ
ル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマイドのモル
比が２．０の組成物のめっき浴を用い、電解条件として
浴温２５℃、電流密度ＬＡ／ｄｍ”、電解時間３０分で
めっきを行ったところ、電流効率９５％以上でめっき層
の厚み６ミクロンの緻密なアルミニウムめっきが得られ
た。
ル−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマイドのモル
比が２．０の組成物のめっき浴を用い、電解条件として
浴温２５℃、電流密度ＬＡ／ｄｍ”、電解時間３０分で
めっきを行ったところ、電流効率９５％以上でめっき層
の厚み６ミクロンの緻密なアルミニウムめっきが得られ
た。
（実施例６）
宝胞伶１″）１７里−制出１ｅイＰア１シ５ニカ八Ｐ１
−１羊ルー３−エチルベンズイミダゾリウムクロライド
のモル比が２．０の組成物のめっき浴を用い、実施例５
と同様な方法で冷延鋼板にアルミニウムめっきを行った
。
−１羊ルー３−エチルベンズイミダゾリウムクロライド
のモル比が２．０の組成物のめっき浴を用い、実施例５
と同様な方法で冷延鋼板にアルミニウムめっきを行った
。
電解条件として浴温５０℃、電流密度
４Ａ／ｄｍ２．電解時間ｌＯ分でめっきを行ったところ
、電流効率９５％以上でめっき層の厚み８ミクロンの緻
密なアルミニウムめっきが得られた。
、電流効率９５％以上でめっき層の厚み８ミクロンの緻
密なアルミニウムめっきが得られた。
（実施例７）
実施例３に記載の塩化アルミニウムと１−イソプロピル
−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマイドのモル比
が２．０の組成物と有機溶媒としてトルエンをｌ：１
（容量比）で混合しためつき浴を調製した。このめっき
浴は２５°Ｃで８． １ｍｓ／ｃｍの電導度を示し、ト
ルエンを混合しないものに比ベロ倍以上高い値を示した
。
−３−エチルベンズイミダゾリウムブロマイドのモル比
が２．０の組成物と有機溶媒としてトルエンをｌ：１
（容量比）で混合しためつき浴を調製した。このめっき
浴は２５°Ｃで８． １ｍｓ／ｃｍの電導度を示し、ト
ルエンを混合しないものに比ベロ倍以上高い値を示した
。
このめっき浴を用い、実施例５で行っためっき方法と同
様にしてアルミニウムめっきを行った。
様にしてアルミニウムめっきを行った。
電解条件として浴温２５℃、電流密度
ＬＡ／ｄｍ”、電解時間３０分でめっきを行ったヒころ
、電流効率９５％以上でめっき層の厚み６ミクロンの緻
密で光沢性のあるアルミニウムめっきが得られた。
、電流効率９５％以上でめっき層の厚み６ミクロンの緻
密で光沢性のあるアルミニウムめっきが得られた。
（発明の効果）
本発明によれば、高い電流効率でかつ高電流密度で生産
性良くアルミニウムめっきが可能である。
性良くアルミニウムめっきが可能である。
さらに、本発明の電気アルミニウムめっき浴とその浴に
よるめっき方法において、陽極にアルミニウムを使用す
ると、めっきによって消費されたＡβイオンが陽極から
のＡｆｆ溶解によって自動的に補給されるので、浴管理
が簡単であり、この点においても他の方法よりも作業性
が優れている。
よるめっき方法において、陽極にアルミニウムを使用す
ると、めっきによって消費されたＡβイオンが陽極から
のＡｆｆ溶解によって自動的に補給されるので、浴管理
が簡単であり、この点においても他の方法よりも作業性
が優れている。
Claims (2)
- （１）アルミニウムハロゲン化物と、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞれ炭素数１〜６の
アルキル基を表し、Ｘ＾−は陰イオンを表す）で示され
る１，３−ジアルキルベンズイミダゾリウムハロゲン化
物とを混合してなる低融点組成物。 - （２）請求項１記載の低融点組成物をめっき浴として用
いる電気アルミニウムめっき方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19386289A JPH0361392A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 低融点組成物およびその浴を用いる電気アルミニウムめっき方法 |
| US07/523,361 US5041194A (en) | 1989-05-18 | 1990-05-15 | Aluminum electroplating method |
| DE69007163T DE69007163T2 (de) | 1989-05-18 | 1990-05-18 | Verfahren zur Elektroplattierung von Aluminium. |
| EP90109469A EP0398358B1 (en) | 1989-05-18 | 1990-05-18 | Aluminum electroplating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19386289A JPH0361392A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 低融点組成物およびその浴を用いる電気アルミニウムめっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0361392A true JPH0361392A (ja) | 1991-03-18 |
Family
ID=16314990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19386289A Pending JPH0361392A (ja) | 1989-05-18 | 1989-07-28 | 低融点組成物およびその浴を用いる電気アルミニウムめっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0361392A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006161154A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Hitachi Metals Ltd | 電解アルミニウムめっき液 |
| US20130168258A1 (en) * | 2010-09-30 | 2013-07-04 | Hitachi, Ltd. | Aluminum electroplating solution |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP19386289A patent/JPH0361392A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006161154A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Hitachi Metals Ltd | 電解アルミニウムめっき液 |
| US20130168258A1 (en) * | 2010-09-30 | 2013-07-04 | Hitachi, Ltd. | Aluminum electroplating solution |
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