JPH036160B2 - - Google Patents

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JPH036160B2
JPH036160B2 JP62320742A JP32074287A JPH036160B2 JP H036160 B2 JPH036160 B2 JP H036160B2 JP 62320742 A JP62320742 A JP 62320742A JP 32074287 A JP32074287 A JP 32074287A JP H036160 B2 JPH036160 B2 JP H036160B2
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JP
Japan
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acid
arg
pro
ethyl acetate
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JP62320742A
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Masahiko Fujino
Tadashi Nishimura
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
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Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Peptides Or Proteins (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、グアニジノ基を保護することによる
ペプチドの製造法に関する。
【式】を含有する原 料化合物(例えばアルギニンなどを)を用いてペ
プチドを製造するためには、グアニジノ基を保護
しておく必要がある。グアニジノ基の保護は、従
来、ニトロ基またはトシル基を導入することによ
り行なわれてきた。 これらの従来法においては、保護基を脱離する
際の収率が低く、また、トシル基を脱離させるに
は、液体アンモニア−金属ナトリウムあるいは無
水弗化水素などを用いて強い条件で行なわなけれ
ばならないのでペプチドの他の部分が分解し副生
物が生じ、目的とするペプチドの収率の低下をき
たす等の欠点があつた。 本発明者らは、これら欠点を解消する方法とし
て先にグアニジノ基の保護基として、メタンスル
フオン酸で容易に除去できるp−メトキシベンゼ
ンスルフオニル、メジチレンスルフオニル基等を
利用する方法(特開昭51−100030)を紹介し、実
用に供した。その後も、本発明者らはグアニジノ
基の保護について研究をつづけたところ、グアニ
ジノ基の保護基として、4−メトキシ−2,6−
ジメチルベンゼンスルフオニル基を用いると、ペ
プチド縮合後、緩和な酸処理によつても該保護基
を脱離できることを見い出し、さらに研究をした
結果本発明を完成した。 すなわち本発明は、グアニジノ基を有するペプ
チドの製造にあたり、グアニジノ基含有原料化合
物(例:アルギニン)のグアニジノ基を4−メト
キシ−2,6−ジメチルベンゼンスルフオニル基
で保護して、ペプチド合成した後保護基を酸で脱
離せしめることを特徴とするペプチドの製造法で
ある。 本発明においては、次の一般式() (式中RはHまたは−アミノ基の保護基を表わ
す)で示されるアルギニン誘導体およびその塩が
有利に用いられる。 本発明において、グアニジノ基含有化合物のグ
アニジノ基に4−メトキシ−2,6−ジメチルベ
ンゼンスルフオニル基を導入するに際しては、グ
アニジノ基含有化合物のα−アミノ基を保護した
反応に供せられる。このα−アミノ基の保護基
は、従来から公知の保護基、例えば一般式()
におけるRで示される保護基としてカルボベンゾ
キシ基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル
基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
t−ブトキシカルボニル基、t−アミロキシカル
ボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル
基、イソニコチニルオキシカルボニル基、o−ニ
トロフエニルスルフエニル基、2−(p−ビフエ
ニル)−イソプロピルオキシカルボニル基を常法
により導入したものがあげられ、特にアルギニン
をカルボベンゾキシ基、t−ブトキシカルボニル
基で保護したものが有利に用いられる。 次に、α−アミノ基が保護されたグアニジノ基
含有化合物のグアニジノ基に4−メトキシ−2,
6−ジメチルベンゼンスルフオニル基を反応させ
る。この反応はグアニジノ基含有化合物に4−メ
トキシ−2,6−ジメチルベンゼンスルフオン酸
基をグアニジノ基含有化合物1当量に対し約1〜
5当量、さらに好ましくは約1〜2当量になるよ
うに反応させるのがよい。 4−メトキシ−2,6−ジメチルベンゼンスル
フオン酸基は、通常そのハロゲニド形で反応に供
せられる。ハロゲニドとしては、クロリド、フル
オリド、プロミド、ヨージドのいずれも使用でき
る。通常、反応は塩基の存在下に行うのが好まし
い。塩基としては、たとえば水酸化ナトリウム水
酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられ、
グアニジノ基含有化合物1当量に対し約1〜10当
量、さらに好ましくは約1〜5当量用いられる。
該反応は、通常適当な溶媒たとえば、水,アセト
ン,ジオキサン,ジメチルホルムアミド,テトラ
ヒドロフラン,あるいはそれらの混合溶媒中など
で行うのがよい。該反応は、−10℃乃至25℃、好
ましくは−5℃乃至10℃で行なわれる。 このようにして得られる4−メトキシ−2,6
−ジメチルベンゼンスルフオニル基で保護された
グアニジノ基を有する化合物は、遊離のままある
いは常法に従つてシクロヘキシルアミン、ジシク
ロヘキシルアミン、ナトリウムなどの塩としてペ
プチド縮合に供せられる。 本発明において、グアニジノ基を4−メトキシ
−2,6−ジメチルベンゼンスルフオニル基で保
護されたグアニジノ基を有する化合物とは、前記
の一般式()で示されるアルギニン誘導体およ
びその塩である。 このようにして得られる4−メトキシ−2,6
−ジメチルベンゼンスルフオニル基で保護された
グアニジノ基を有する化合物は常套手段によりペ
プチド縮合反応させる。この常套手段としては、
例えばM.Bodansky 及びM.A.Ondetti著,ペプ
チド・シンセシス(Peptide Synthesis),Inter
science,New York,1966年;F.M.Finn及びK.
Hofmann著ザ・プロテインズ(The Proteins),
第2巻,H.Nenrath,R.Hill編集,Academic
Press Inc,New York,1976年;泉屋信夫他著
“ペプチド合成”丸善(株)1975年などに記載された
方法、たとえばアジド法,クロライド法,酸無水
物法,混酸無水物法,DCC法,活性エステル法,
ウツドワード試薬Kを用いる方法,カルボジイミ
ダゾール法,酸化還元法,DCC/HONB法など
が挙げられる。 次に、ペプチド縮合後、本発明の保護基を酸に
よつて脱離させる。この脱離方法としては、無水
弗化水素法、メタンスルフオン酸法、トリフルオ
ロメタンスルフオン酸法等の公知の酸処理方法が
適用できる。さらに、本発明方法の場合には、新
しい酸処理方法としてトリフルオロ酢酸が有利に
使用でき、特にチオアニソールまたはアニソール
の存在下でトリフルオロ酢酸を用いると脱離反応
が非常に有利に進行する。 上記のトリフルオロ酢酸およびチオアニソー
ル,アニソールは溶媒をかね保護基を脱離しうる
に十分な量を用いればよい。たとえば、保護され
たグアニジノ基を有する化合物1当量に対し1〜
105当量,さらに好ましくは1〜103当量用いら
れ、脱離反応は、酢酸、クロロホルム、メチレン
クロリドなどの溶媒中で行つてもよく、また温度
は−10℃乃至300℃程度、さらに好ましくは10゜乃
至100℃程度で行なわれる。 本発明方法は、グアニジノ基を有するいかなる
ペプチドの製造にも適用できる。具体的な例とし
ては、以下の実施例にも示すとおり、Dea−
Gly10−〔D−Leu6〕−LH−RH−ethylamide(特
公昭53−14072参照)、Des−Gly10−LH−RH−
ethylamide(特公昭53−24423参照),Tuftsin
〔Nature,228,672(1970)参照〕,Substance
P,Kyotorphinなどの生理活性ペプチドを有利
に製造できる。その他のペプチドとして、MSH,
ACTH,Glucagon−Secretin Bradykinin,
Dynorphin,a−Neoendorphinおよびそれらの
活性断片なども有利に製造できる。 本発明方法において用いる4−メトキシ−2,
6−ジメチルスルフオニル基は、従来行なわれて
いた酸処理によるグアニジノ保護基の脱離方法は
もちろんのこと、さらに緩和な条件下でも容易に
脱離される。例えば、トリフルオロ酢酸のような
緩和な酸処理は、従来知られたグアニジノ保護基
の脱離には適用することができないが、4−メト
キシ−2,6−ジメチルスルフオニル基で保護し
た場合はよく脱離が進行し充分に適用できる。と
ころで、従来の方法により、p−メトキシベンゼ
ンスルフオニル基、メジチレンスルフオニル基で
グアニジノ基を保護しペプチド縮合後、メタンス
ルフオン酸を用いて保護基を脱離する場合、その
ペプチド中に、アスパラギンやアスパラギン酸残
基を含有する場合には、サクシンイミド型の副反
応が生ずることがあり、またセリンやスレオニン
残基が存在するとN→Oアシル転位が起る。本発
明方法の場合、これらのアミノ酸残基を含むペプ
チドであつてもトリフルオロ酢酸のような緩和な
酸を用いることにより上記のような副反応が起こ
ることなく脱離することができる。 次に、本発明を実施例および試験例を挙げてさ
らに詳しく説明する。それぞれの実施例の合成工
程は末尾の表にまとめて記載した。なお、本明細
書においては4−メトキシ−2,6−ジメチルベ
ンゼンスルフオニル基をMDSと略記することが
あり、またアミノ酸、ペプチド、保護基、活性基
等に関し、IUPAC−IUB commission on
Biological、Nomenclatureに基づく略号あるい
は当該分野における慣用略号で表示する場合があ
る。それらを例示する。 pGlu:ピログルタミン酸;His:ヒスチジン;
Trp:トリプトフアン;Ser:セリン;Tyr:チ
ロシン;Leu:ロイシン;Gly:グリシン;
Arg:アルギニン;Pro:プロリン;Lys:リジ
ン;Gln:グルタミン;Phe:フエニルアラニ
ン;Met:メチオニン;Thr:スレオニン(以上
特に表示のない場合はアミノ酸はL体をさすもの
とし、D体はその旨明記する。但しGlyを除
く);Z:カルボベンゾキシ;Boc:t−ブトキ
シカルボニル;Et:エチル;HONBおよび
ONB:N−ハイドロキシ−5−ノルボルネン−
2,3−ジカルボキシイミドおよびそのエステ
ル;HOBt:N−ハイドロキシベンツトリアゾー
ル;DCC:N,N−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド;H2/Pd:接触還元;TFA:トリフルオ
ロ酢酸;CHA:シクロヘキシルアミン;
OTCP:2,4,5−トリクロロフエニルエステ
ル;OSu:N−ハイドロキシスクシンイミドエス
テル 参考例 1 (1) Z−Arg(MDS)−OH−CHA saltの合成 Z−Arg−OH46.2g(0.15M)を4N
NaOH150mlとアセトン400の混液に、室温でで
溶かし、氷冷する。これに4−メトキシ−2,6
−ジメチルベンゼンスルフオニルクロリド70.7g
(0.30M)をアセトン150mlに溶かした溶液を1時
間かけて滴下する。室温で2時間かきまぜたあ
と、反応液に結晶クン酸を加えて酸性とする。ア
セトン留去し、生じた油状物を酢酸エチルで抽出
する。酢酸エチル層は水で2回洗浄する。重曹水
で、酢酸エチル層から目的物を抽出する。水層を
クエン酸で酸性としたあと、生ずる油状物を酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は十分水で洗浄
し、乾燥後、酢酸エチルを減圧で留去すると、
63gの油状物を得る。これを酢酸エチル300mlに
溶かし、冷時、シクロヘキシルアミン(CHA)
14.3mlを加え、室温に一晩放置し、生ずる結晶を
取し、アセトリトリルから再結晶する。 収量 48.0g(52.8%”,融点140〜141℃ 旋光度:〔α〕23 D+5.7゜(c=0.5,メタノール中) 薄層クロマトグラフイー(TLC):Rf1 (CHCl3:メタノール:酢酸=9:1:0.5)=
0.25 元素分析値:C23H30O7N4S・C6 H13Nとして 計算値:C 57.50;H 7.15;N 11.56; S 5.29 実験値:C 57.23;H 6.96;N 11.66 S 5.32 (2) H−Arg(MDS)−OH)の合成 Z−Afg(MDS)−OH−CHA salt4.23g
(0.007M)を150mlのメタノールに溶かし、パラ
ジウム黒を触媒として、常法に従つて接触還元を
行う。触媒を別し、液は減圧で濃縮する。残
留物に水を加え、生ずる結晶を取する。水から
再結晶する。 収量 2.15g(80.5%),融点120〜122℃(分解) 旋光度:〔α〕23 D−7.8°(c=0.7,メタノール) TLC:Rf2(酢酸エチル:ピリジン{酢酸:
水=30:20:6:11)=0.16,Rf4 (n−ブタノール:酢酸エチル:酢酸:水=
1:1:1:1)=0.52 元素分析値:C15H24O5N4S.1/2H2Oとして 計算値:C 47.23;H 6.61;N 14.69; S 8.41 実験値:C 47.68;H 6.58;N 14.69; S 8.47 (3) Boc−Arg(MDS)−OHの合成 H−Afg(MDS−OH1.12g(0.003M)を1.65ml
の水に溶かし、冷時、トリエチルアミン0.63ml
(0.0045M)を加える。これにt−ブチル S−
4,6−ジメチルピリジン−2−イルチオ−ルカ
−ボネイト793mg(0.0033M)をジオキサン1.65
mlに溶かした溶液を激しくかきまぜながら加え
る。室温で、12時間かきまぜたあと、ジオキサン
を留去し、残留物を水でうすめ、水層を酢酸エチ
ルで洗浄する。すいて水層を6M塩酸で、冷時酸
性にし、生ずる油状物を酢酸エチルで抽出する。
酢酸エチル層は水で2回洗浄したあと、乾燥し、
酢酸エチルを減圧で留去する。生ずる結晶に石油
ベンジンを加えて取する。酢酸エチルから再結
晶する。 収量 1.35g(95.7%),融点175〜176℃(分解) 旋光度:〔α〕26 D+3.5゜(c=0.5,メタノール中) TLC:Rf1=0.34 元素分析値:C20H32O7N4Sとして 計算値:C 50.83;H 6.83;N 11.86; S 6.79 実験値:C 50.96;H 7.07;N 11.56; S 6.63 試験例 H−Arg(MDS)−OH100μmoleを(1)トリフル
オロ酢酸(2ml)とチオアニソール(0.1ml)の
混液中、50℃、1時間、(2)トリフルオロ酢酸(2
ml)とチオアニソール(0.1ml)の混液中、室温
(21℃),5時間、(3)トリフルオロ酢酸(2ml)と
アニソール(0.1ml)の混液中、50℃,1時間、
(4)トリフルオロ酢酸(2ml)中、50℃,1時間の
各条件下で処理し、それぞれトリフルオロ酢酸を
減圧で留去後、残留物を水に溶かし、エーテルで
一回洗浄したあと、全体を100mlに秤量し、アミ
ノ酸分析に供し、生成したアルギニンの量を測定
した。結果は表1に示した。
【表】 実施例 1 Z−Arg(MDS).Pro−NHEtの合成 Z−Pro−NHEt 2.76g(0.01M)を70mlのメタ
ノールに溶かし、p−トルエンスルフオン酸
1.90g(0.01M)を加え、パラジウム黒を触媒とし
て、常法に従つて接触還元を行う。触媒を別
し、液は濃縮する。残留物をジメチルホルムア
ミド50mlに溶かし、氷冷下、トリエチルアミン
1.40〓(0.01M)を加え、ついで、Z−Arg
(MDS)−OH〔Z−Arg(MDS)−OH−CHA salt
6.06g(0.01M)から調製〕ととハイドロキシベン
ツトリアゾール1.54g(0.01M)を加えて溶かす。
ジシクロヘキシルカルボジイミド2.06g(0.01M)
を加え、そのまま24時間かきまぜる。生じた尿素
を別し、液は真空で濃縮する。残留物に酢酸
エチルを加え、酢酸エチル層は重曹水,0.2N塩
酸で洗浄する。酢酸エチルを減圧で留去し、残留
物は石油ベンジンで粉末として別する。これを
シリカゲルのクロマトグラフイーで精製する。 (展開溶媒:クロロホルム) 収量 3.5g(56.6%),融点65〜67℃ 旋光度:〔α〕23 D−13.8゜(c=0.5,ジメチルホルム
アミド) TLC:Rf1=0.47 元素分析値:C29H42O7N6Sとして 計算値:C 56.29;H 6.84;N 13.58; S 5.18 実験値:C 56.56;H 6.81;N 13.40; S 4.93 実施例 2 Z−Leu−Arg(MDS)−Pro−NHEtの合成 Z−Arg(MDS)−Pro−NHEt3.16g(0.0051M)
を70mlのメタノールに溶かし、p−トルエンスル
フオン酸969mg(0.0051M)を加え、パラジウム
黒を触媒として、常法に従つて接触還元を行う。
解媒を別し、液は濃縮する。残留物を30mlの
ジメチルホルムアミドに溶かし、冷時、トリエチ
ルアミン0.71ml(0.0051M)を加え、ついでZ−
Leu−ONB2.40g(0.0051M×1.1)を加え、そのま
ま12時間かきまぜる。溶媒を真空で留去し、残留
物を酢酸エチルに溶かす。酢酸エチル層は重曹
水、0.2N塩酸で洗浄し、乾燥後、減圧留去する。
残留物にエーテルを加え、生ずる沈殿を取す
る。酢酸エチルとエーテルから再沈殿する。 収量 2.5g(67.0%),融点95〜100℃ 旋光度:〔α〕23 D−22.0゜(c=0.6,ジメチルホルム
アミド) TLC:Rf1=0.50 元素分析値:C35H53O8N7Sとして 計算値:C 57.44;H 7.31;N 13.40; S 4.38 実験値:C 57.60;H 7.29;N 13.15; S 4.28 実施例 3 pGlu−His−Trp−Ser−Tyr−(D)Leu−
Leu−Arg(MDS)−Pro−NHBtの合成 Z−Leu−Arg(MDS)−Pro−NHEt732mg
(0.001M)を50mlのメタノールに溶かし、パラジ
ウム黒を触媒として、常法に従つて、接触還元を
行う。触媒を別し、液は濃縮する。残留物を
10mlのジメチルホルムアミドに溶かし、これに
pGlu−His−Trp−Ser−Tyr−(D)−Leu−
OH816mg(0.001M)とHONB717mg(0.004M)
を加えて溶かす、氷−食塩で−10℃に冷却し、ジ
シクロヘキシルカルボジイミド412mg(0.002M)
を加え、−10℃で3時間,0℃で10時間、室温で
24時間かきまぜる。生じた尿素を別し、液は
真空で濃縮する。残留物にエーテルを加え、生ず
る沈殿を取する。アセトニトリルから2回再沈
殿する。 収量 1.15g(81.6%),融点105〜110℃(分解) 旋光度:〔α〕23 D−28.2゜(c=0.6,ジメチルホルム
アミド),TLC:Rf2=0.20 元素分析値:C68H93O15N16S.H2Oとして 計算値:C 57.33;H 6.72;N 15.73; S 2.25 実験値:C 57.29;H 7.18;N 15.32; S 2.02 実施例 4 pGLu−His−Trp−Ser−Tyr−(D)Leu−
Leu−Arg−Pro−NHEtの合成 pGlu−His−Trp−Ser−Tyr−(D)−Leu−
Leu−Afg(ADS)−Pro−NHEt300mgを0.5mlのチ
オアニソールと10mlのトリフルオロ酢酸の混液に
溶かし、50〜55℃で、1時間放置する。トリフル
オロ酢酸を減圧で留去し、残留物にエーテルを加
え、生ずる沈殿を取する。これを少量の水に溶
かし、アンバーライトRA−410(酢酸型)のカラ
ム(1.5×10cm)を通過させる。通過液と洗液を
合し、そのままカルボキシメチルセルロースのカ
ラム(1.5×12cm)に注ぎ込む。50mlの水でカラ
ムを洗つたあと、水(500ml)と0.15M酢酸アン
モニウム(500ml,PH6.9)の間で直線勾配をかけ
て溶出する。主要溶出画分(240〜390ml)を集め
て凍結乾燥する。これを少量のN酢酸に溶かし、
セフアデツクスLH−20のカラム(2.5×120cm)
にかけ、同じ溶媒系で展開する。主要溶出画分
(290〜350ml)を集めて凍結乾燥する。 収量 120mg 旋光度:〔α〕23 D−34.1゜(c=0.4,5%酢酸) TLC:Rf3(n−ブタノール:ピリジン:酢
酸:水=30:20:6:24)=0.56 アミノ酸分析(酸分解):His 1.01(1); Arg+エチルアミン1.75(1+1);Trp0.90
(1);Ser0.86(1);Glu1.05(1);Pro1.04(1);
Leu2.03;Tyr1.11(1),平均回収率85.0% 実施例 5 pGlu−His−Trp−Ser−Tyr−Gly−Leu−
Arg(MDS)−Pro−NHEtの合成 Z−Leu−Arg(MDS)−Pro−NHEt476mg
(0.00065M)とpGlu−His−Trp−Ser−Tyr−
Gly−OH494mg(0.00065M)を用い、実施例3
と同様の方法で調製した。 収量 710mg(80.9%),融点135〜140℃(分解) 旋光度:〔α〕23 D−26.7゜(c=0.5,ジメチルホルム
アミド),Rf2=0.16 元素分析値:C64H85O15N16S・H2Oとして 計算値:C 56.16;H 6.41;N 16.38; S 2.34 実験値:C 56.15;H 6.71;N 16.11; S 2.18 実施例 6 pGlu−His−Trp−Ser−Tyr−Gly−Leu×
Arg−Pro−NHEtの合成 pGlu−His−Trp−Ser−Tyr−Gly−Leu−
Arg(MDS)−Pro−NHEt300mgを用い。実施例
4と同様の方法で合成した。 収量 122mg 旋光度:〔α〕23 D−55.2゜(c=0.5,5%酢酸水) TLC:Rf4=0.48(アビセル) アミノ酸分析(酸分解):His1.02(1);Arg+エチ
ルアミン,1.83(1+1);Trp1.01(1);Ser0.81
(1);Glu1.04(1);Pro1.00(1);Leu1.03(1);Tyr1.03
(1);Gly1.06(1),平均回収率90.0% 実施例 7 Boc−Arg(MDS)−Pro−Lys(Boc)−Pro−
OHの合成 H−Pro−OMeにZ−Lys(Boc)−ONBとZ−
Pro−ONBを順次縮合することにより合成した
油状のZ−Pro−ONB590mg(0.001M)をメタノ
ール50mlに溶かし、パラジウム黒を触媒として、
常法に従つて、接触還元を行う。触媒を別し、
液は減圧で濃縮する。残留物を10mlのジメチル
ホルムアミドに溶かし、これにBoc−Arg
(MDS)−OH473mg(0.001M)とハイドロキシベ
ンツトリアゾール153mg(0.001M)を加え、室温
で12時間反応する。生じた尿素を別し、液は
真空で濃縮する。残留物を酢酸エチルに溶かし、
酢酸エチル層は重曹水,0.2N塩酸で洗浄する。
乾燥後、減圧で酢酸エチルを留去する。残留する
油状物〔Boc−Arg(MDS)−Pro−Lys(Boc)−
Pro−OMe〕は石油ベンジンでよく洗つて、10ml
のメタノールに溶かす。冷時、2mlのN−苛性ソ
ーダを加え、室温で2時間ケン化を行う。N−塩
酸2mlを冷時、滴下し、反応液を水でうすめ、生
ずる油状物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
層は水で洗浄し、乾燥する。減圧で、酢酸エチル
を留去し、残留物は石油ベンジンで粉末として
取する。酢酸エチルとエーテルから再沈殿する。 収量 530mg(58.3%),融点85〜90℃ 旋光度:〔α〕26 D−35.6゜(c=0.5,ジメチルホルム
アミド),TLC:Rf1=0.33 元素分析値:C42H68O12N8Sとして 計算値:C 54.94;H 7.58;N 12.21; S 3.49 実験値:C 55.02;H 7.65;N 12.08 S 3.63 実施例 8 Boc−Arg(MDS)−Pro−Lys(Boc)−Pro−
Gln−Gln−Phe−Phe−Gly−Leu−Met−
NH2の合成 Boc−Gln−Gln−Phe−Phe−Gly−Leu−Met
−NH2〔J.Bergmann,M,Bienert,H.
Niedvich,B.Mehlis and P.Oehme,
Experientia,30,401(1974)〕485mg(0.0005M)
をトリフルオロ酢酸(4.5ml)と水(0.5ml)の混
液に溶かし、10℃で20分間ふりまぜる。0.5mlの
N−塩酸を加え、減圧留去を行う。残留物にエー
テルを加え生ずる沈殿を取し、苛性ソーダ上で
乾燥する。乾燥粉末を15mlのジメチルホルムアミ
ドに溶かし、冷時、トリエチルアミン0.07ml
(0.0005M)を加える。これにBoc−Arg(MDS)
−Pro−Lys(Boc)−Pro−OH448mg(0.0005M)
とHONB179mg(0.001M)を加えて溶かす。ジ
シクロヘキシルカルボシイミド155mg(0.0075M)
を加え、そのまま24時間かきまぜる。生じた尿素
を別し、液は濃縮する、残留物に水を加え、
生ずる沈殿を取する。エタノールから2回沈殿
する。 収量 500mg(56.8%),融点245〜247℃)(分解) 旋光度:〔α〕26 D−34.0゜(c=0.5ジメチルホルムア
ミド),TLC:Rf2=0.83 元素分析値:C83CH126O20N18S2として 計算値:C 56.64;H 4.22;N 14.32; S 3.63 実験値:C 56.50;H 7.15;N 14.28 S 3.73 実施例 9 H−Arg−Pro−Lys−Pro−Gln−Gln−Phe−
Phe−Gly−Leu−Met−NH2(SubStancep)
の合成 Boc−Arg(MDS)−Pro−Lys(Boc)−Pro−
Gln−Gln−Phe−Phe−Gly−Leu−Met−
NH2100mgをチオアニソール1mlとトリフルオロ
酢酸10mlの混液に溶かし、50℃で2時間振りまぜ
る。トリフルオロ酢酸を減圧で留去し、残留物に
エーテルを加え、生ずる沈殿を取する。苛性ソ
ーダ上、真空で乾燥したあと、少量の水に溶か
し、アンバーライトIRA−410(酢酸型)3mlを加
え、しばらく振りまぜる。樹脂を別し、液は
凍結乾燥する。凍結乾燥粉末を少量の30%酢酸水
に溶かし、セフアデツクスG−25のカラム(2.5
×120cm)に注ぎ込む。同じ溶媒系で展開し、主
要溶出画分(240〜280ml)を集めて、凍結乾燥す
る。 収量 67mg 旋光度:〔α〕24 D−80.7゜(c=0.5,5%酢酸) TLC:Rf3=0.53(アビセル)アミノ酸分析
(酸分解):Lys0.99(1);Arg0.99(1);Gln2.03
(2);Pro2.10(2);Gly0.99(1);Met0.99(1);
Leu0.98(1);Phe1.96(2) 平気回収率90.4% 実施例 10 Z−Pro−Arg(MDS)−OHの合成 H−Arg(MDS)−OH3.72g(0.01M)をジメチ
ルホルムアミド50mlに溶かし、冷時、トリエチル
アミン1.40ml(0.01M)を加え、ついでZ−Pro
−ONB4.5g(0.011M)を加え、室温で12時間かき
まぜる。酢酸5mlを反応液に加え、溶媒を真空で
留去する。残留物を酢酸エチルに溶かし、酢酸エ
チル層は水で2回洗浄する。酢酸エチルを減圧で
留去し、残留物に石油ベンジンを加え、粉末とし
て取する。酢酸エチルと石油ベンジンから再沈
殿する。 収量 5.6g(93.3%),融点75〜80℃ 旋光度:〔α〕23 D−16.0゜(c=0.6,ジメチルホルム
アミド),TLC:Rf1=0.22 元素分析値:C28H37O8N5Sとして 計算値:C 55.71;H 6.18;N 11.60; S 5.31 実験値:C 56.18;H 6.58;N 11.26 S 4.73 実施例11 H−Pro−Arg(MDS)−OHの合成 Z−Pro−Arg(MDS)−OH5.4g(0.009M)を
100mlのメタノールに溶かし、バラジウム黒を触
媒として、常法に従つて接触還元を行う。触媒を
別し、液は濃縮する。残留物を水に溶かし、
冷所に放置する。生ずる結晶を取する。 収量 2.80g(66.0%)融点173〜174℃(分解) 旋光度:〔α〕23 D−15.8゜(c=0.6,ジメチルホルム
アミド),TLC:Rf2=0.03,Rf4=0.46 元素分析値:C20H32O6N5Sとして 計算値:C 51.05;H 6.86;N 14.88; S 6.81 実験値:C 51.22;H 6.95;N 14.99 S 6.86 実施例 12 Z−Lys(Boc)−Pro−Arg(MDS)−OHの合
成 H−Pro−Arg(MDS)−OH2.35g(0.005M)
を30mlのジメチルホルムアミドに溶かし、冷時、
トリエチルアミン0.7ml(0.005M)を加え、つい
でZ−Lys(Boc)−OTCP2.80g(0.005M)を加
え、室温で12時間かきまぜる。3mlの酢酸を反応
液に加え、ジメチルホルムアミドを真空で留去す
る。残留物を酢酸エチルに溶かし、酢酸エチル層
は水で2回洗浄する。溶媒を減圧で留去し、残留
物にエーテルを加え、生ずる沈殿を取する。酢
酸エチルとエーテルから再沈殿する。 収量 3.30g(79.3%),融点85〜90℃ 旋光度:〔α〕23 D−19.3゜(c=0.6,ジメチルホルム
アミド)TLC:Rf1=0.25 元素分析値:C39H57O11N7S・1/2H2Oとして 計算値:C 55.70;H 6.95;N 11.66; S 3.81 実験値:C 55.77;H 7.03;N 11.77 S 3.65 実施例 13 Boc−Thr−Lys(Boc)−Pro−Arg(MDS)−
OHの合成 Z−Lys(Boc)−Pro−Arg(MDS)−OH3.0g
(0.0036M)をメタノール100mlに溶かし、パラジ
ウム黒を触媒として、常法に従つて、接触還元を
行う。触媒を別し、液は減圧で濃縮する。残
留物を50mlのジメチルホルムアミドに溶かし、冷
時、トリエチルアミン0.50ml(0.0036M)を加え
る。これにBoc−Thr−ONB〔Boc;Thr−
OH877mg(0.004M)から調製〕を加え、室温で
12時間かきまぜる。3mlの酢酸を反応液に加え、
溶媒を真空で留去する。残留物を酢酸エチルに溶
かし、酢酸エチル層は水で2回洗浄する。酢酸エ
チルを減圧で留去し、残留物はエーテルで粉末と
して、取する。酢酸エチルとエーテルから再沈
殿する。 収量 2.3g(71.0%),融点85〜90℃ 旋光度:〔α〕23 D−20.2゜(c=0.6,ジメチルホルム
アミド),TLC:Rf1=0.14 元素分析値C40H66O13N8Sとして 計算値:C 53.44;H 7.40;N 12.46; S 3.57 実験値:C 53.30;H 7.65;N 12.47; S 3.36 実施例 14 H−Thr−Lys−Pro−Arg−OH(Tuftsin)の
合成 BoC−Thr−Lys(Boc)−Pro−Arg(MDS)−
OH300mgを0.5mlのチオアニソールとトリフルオ
ロ酢酸10mlの混液に溶かし、、50℃で1時間放置
する。トリフルオロ酢酸を減圧で留去し、残留物
にエーテルを加え、生ずる沈殿を取する。乾燥
後、少量の水に溶かし、アンバーライトIRA−
410(酢酸型)10mlと30分間ふりまぜる。樹脂を
別し、液は凍結乾燥する。乾燥粉末を少量の水
に溶かし、カルボキシメチルセルロースのカラム
(1.5×10cm)に注ぎ込む、水(300ml)と0.2M酢
酸アンモニウム(300ml,PH6.9)の間で、直線勾
配をかけて溶出する。主要溶出部分(290〜350
ml)を集めて、凍結乾燥する。粉末はN酢酸に溶
かし、セフアデツクスLH−20(2.5×120cm)のカ
ラムに注ぎ込み、同じ溶媒系で展開する。主要溶
出画分(270〜310ml)を集めて凍結乾燥する。 収量 180mg 旋光度:〔a〕23 D−63.1゜(c=0.6,5%酢酸) TLC:Rf3=0.22(アゼセル) アミノ酸分析(酸分析):Lys1.00(1);Arg1.02
(1);Thr1.01(1);Pro0.67(1),平均回収率92.0% 実施例15 Boc−Tyr−Arg(MDS)−OHの合成 H−Arg(MDS)−OH1.91g(0.005M)をジメチ
ルホムムアミド30mlに溶かし、冷時、トリエチル
アミン0.7ml(0.005M)を加え、Boc−Tyr−
OSu1.89g(0.005M)を加え、室温で12時間きま
ぜる。酢酸5mlを加え、ジメチルホルムアミドを
真空で留去する。残留物を酢酸エチルに溶かし、
酢酸エチル層は水で2回洗浄する。減圧で酢酸エ
チルを留去し、残留物にエーテルを加え、生ずる
沈殿を取する。酢酸エチルとエーテルから再沈
殿する。 収量 2.70g(84.9%),融点85〜90℃ 旋光度:〔α〕23 D+0.6゜(c=0.5,ジメチルホルム
アミド),TLC:Rf1=0.14 元素分析値:C29H41O9N5Sとして 計算値:C 54.79;H 6.50;N 11.02; S 5.04 実験値:C 54.94;H 7.01;N 10.66 S 4.54 実施例 16 H−Tyr−Arg−OH(Kyotorphin)の合成 Boc−Tyr−Arg(MDS)−OH300mgをチオアニ
ソール0.5mlとトリフルオロ酢酸10mlの混液に溶
かし、50〜55℃で1時間放置する。トリフルオロ
酢酸を減圧で留去し、残留物にエーテルを加え、
生ずる沈殿を取する。これを少量の水に溶か
し、アンバーライトIRA−410(酢酸型)10mlと30
分間ふりまぜる。樹脂を別し、液は凍結乾燥
する。乾燥粉末を少量の水に溶かし、カルボキシ
メチルセルロースのカラム(1.5×10cm)に注ぎ
込む。水(300ml)と0.1M酢酸アンモニウム
(300ml,PH6.9)の間で、直線勾配をかけて溶出
を行う。主要溶出画分(100〜150ml)を集めて、
凍結乾燥する。乾燥粉末を少量のN酢酸に溶か
し、セフアデツクスLH−20(2.5×120cm)のカラ
ムに注ぎ込む。同じ溶媒系で展開し、主要溶出画
分を集めて、凍結乾燥する。 収量 150mg 旋光度:〔α〕21 D−17.6゜(c=0.4,H2O) TLC:Rf3=0.45(アゼセル) アミノ酸分析(酸分解):Arg1.06(1);Tyr0.64
(1),平均回収率90.6%
【表】 ↓

pGlu−His−Trp−Ser−Tyr
−X−Leu−Arg−Pro−NHEt
【表】 ↓

H−Arg−Pro−Lys−Pro−Gl−Gl
−Phe−Phe−Gly−Leu−Met−NH
【表】 ↓
H−Thr−Lys−Pro−Agr−OH
【表】 ↓
H−Tyr−Arg−OH

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 グアニジノ基を有するペプチドの製造にあた
    り、グアニジノ基含有原料化合物のグアニジノ基
    を4−メトキシ−2,6−ジメチルベンゼンスル
    フオニル基で保護して、ペプチド縮合した後保護
    基を酸で脱離せしめることを特徴とするペプチド
    の製造法 2 酸としてトリフルオロ酢酸を用いる特許請求
    の範囲第1項記載の製造法 3 チオアニソールまたはアニソールの存在下で
    保護基を脱離せしめることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項または第2項記載の製造法。
JP62320742A 1987-12-17 1987-12-17 ペプチドの製造法 Granted JPS63198697A (ja)

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