JPH0361938B2 - - Google Patents
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- JPH0361938B2 JPH0361938B2 JP57148613A JP14861382A JPH0361938B2 JP H0361938 B2 JPH0361938 B2 JP H0361938B2 JP 57148613 A JP57148613 A JP 57148613A JP 14861382 A JP14861382 A JP 14861382A JP H0361938 B2 JPH0361938 B2 JP H0361938B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- film
- weight
- developer
- molecular weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポリビニルブチラール、ポリビニル
ホルマール又はポリ酢酸ビニルと、有機溶剤に可
溶なアジド化合物とを含有する感光性組成物の画
像形成方法に関するものであり、さらに詳細には
感光皮膜が強靭で水系現像液で現像可能な感光性
組成物の画像形成方法に関するものである。
ホルマール又はポリ酢酸ビニルと、有機溶剤に可
溶なアジド化合物とを含有する感光性組成物の画
像形成方法に関するものであり、さらに詳細には
感光皮膜が強靭で水系現像液で現像可能な感光性
組成物の画像形成方法に関するものである。
従来より高分子化合物と芳香族アジド化合物と
を含有する感光性組成物が知られており、例えば
環化ゴムと芳香族アジド化合物の組合せ、アルカ
リ可溶性ホルマリン縮合樹脂と芳香族アジド化合
物の組合せなどがある。これらはフオトレジス
ト、フオトレリーフなどの用途に利用されてい
る。
を含有する感光性組成物が知られており、例えば
環化ゴムと芳香族アジド化合物の組合せ、アルカ
リ可溶性ホルマリン縮合樹脂と芳香族アジド化合
物の組合せなどがある。これらはフオトレジス
ト、フオトレリーフなどの用途に利用されてい
る。
しかしながら環化ゴムと芳香族アジド化合物の
組合せでは耐蝕性、密着性にはすぐれているが、
有機溶剤によつて現像されるため人体への毒性、
引火性等、作業環境の面からみて、好ましいとは
言えない。
組合せでは耐蝕性、密着性にはすぐれているが、
有機溶剤によつて現像されるため人体への毒性、
引火性等、作業環境の面からみて、好ましいとは
言えない。
又アルカリ可溶性ホルマリン縮合樹脂と芳香族
アジド化合物の組合せでは、アルカリ水溶液で現
像可能であるが、感光皮膜が脆く、きずがつきや
すいなど機械的強度が不十分である。
アジド化合物の組合せでは、アルカリ水溶液で現
像可能であるが、感光皮膜が脆く、きずがつきや
すいなど機械的強度が不十分である。
本発明の目的は、これらの問題点を解決し、感
光皮膜が強靭でしかも水系現像液で現像可能な感
光性組成物の画像形成方法を提供することにあ
る。
光皮膜が強靭でしかも水系現像液で現像可能な感
光性組成物の画像形成方法を提供することにあ
る。
本発明者は、前記の問題点を解決すべく鋭意研
究を進めた結果、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、又はポリ酢酸ビニルと、有機溶
剤に可溶なアジド化合物とを含有する感光性組成
物を使用するときは前記目的を達成し得ることを
発見した。本発明はかかる知見に基づいてなされ
たものである。
究を進めた結果、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、又はポリ酢酸ビニルと、有機溶
剤に可溶なアジド化合物とを含有する感光性組成
物を使用するときは前記目的を達成し得ることを
発見した。本発明はかかる知見に基づいてなされ
たものである。
本発明において使用する高分子化合物は、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、又は
ポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれた１種以上
が用いられる。これら高分子化合物は有機溶剤に
可溶であれば使用可能であるが、その分子量が少
なすぎると、露光部の硬化が弱く、現像した場合
に露光部分の膨潤あるいは流出が発生し、実用に
耐えないし、被膜強度も低下する。また、分子量
が大きくなるにしたがい、露光部の光硬化は良く
なり、水系現像液に対する耐性は向上するが、未
露光部の水系現像液に対する溶解性が低下し、現
像時間が長くなり、極端な場合には現像が不可能
となるほか、感光液が高粘度になりその調液、塗
工等が困難になるため好ましくない。ブチラール
化度及びホルマール化度については、それらが低
い場合には有機溶剤に不溶であり、有機溶剤に可
溶なアジド化合物との混合が困難であり、また被
膜の耐水性が悪くなり、一方、高くなると水系現
像液に対する溶解性が低下し、極端な場合には現
像が不可能となる。以上の理由により、ポリビニ
ルブチラールにおいては平均分子量10000から
230000で、ブチラール化度が20から80mol％、ポ
リビニルホルマールにおいては、平均分子量9000
から150000でホルマール化度が20から80mol％、
ポリ酢酸ビニルにおいては平均分子量15000から
270000である高分子化合物が好ましい。
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、又は
ポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれた１種以上
が用いられる。これら高分子化合物は有機溶剤に
可溶であれば使用可能であるが、その分子量が少
なすぎると、露光部の硬化が弱く、現像した場合
に露光部分の膨潤あるいは流出が発生し、実用に
耐えないし、被膜強度も低下する。また、分子量
が大きくなるにしたがい、露光部の光硬化は良く
なり、水系現像液に対する耐性は向上するが、未
露光部の水系現像液に対する溶解性が低下し、現
像時間が長くなり、極端な場合には現像が不可能
となるほか、感光液が高粘度になりその調液、塗
工等が困難になるため好ましくない。ブチラール
化度及びホルマール化度については、それらが低
い場合には有機溶剤に不溶であり、有機溶剤に可
溶なアジド化合物との混合が困難であり、また被
膜の耐水性が悪くなり、一方、高くなると水系現
像液に対する溶解性が低下し、極端な場合には現
像が不可能となる。以上の理由により、ポリビニ
ルブチラールにおいては平均分子量10000から
230000で、ブチラール化度が20から80mol％、ポ
リビニルホルマールにおいては、平均分子量9000
から150000でホルマール化度が20から80mol％、
ポリ酢酸ビニルにおいては平均分子量15000から
270000である高分子化合物が好ましい。
又、本発明において使用する有機溶剤に可溶な
アジド化合物としては、４，4′−ジアジドカルコ
ン、２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−シクロ
ヘキサノン、２，６−ジ（4′−アジドベンザル）
−４−メチル−シクロヘキサノン、４，4′−ジア
ジドスチルベン、４，4′−ジアジドベンゾフエノ
ン、Ｐ−フエニレンジアジド、４，4′−ジアジド
フエニルメタン等をあげることができる。
アジド化合物としては、４，4′−ジアジドカルコ
ン、２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−シクロ
ヘキサノン、２，６−ジ（4′−アジドベンザル）
−４−メチル−シクロヘキサノン、４，4′−ジア
ジドスチルベン、４，4′−ジアジドベンゾフエノ
ン、Ｐ−フエニレンジアジド、４，4′−ジアジド
フエニルメタン等をあげることができる。
これら、有機溶剤に可溶なアジド化合物の、高
分子化合物に対する添加量は、重量で、通常１か
ら60％、好適な添加量は４から30％である。
分子化合物に対する添加量は、重量で、通常１か
ら60％、好適な添加量は４から30％である。
さらに、必要に応じ、これらアジド化合物の増
加剤、染料、顔料等を添加しても差支えない。
又、使用目的に応じ、現像性、耐蝕性等の改善の
必要が有れば、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、又はポリ酢酸ビニルと相溶性のあ
るフエノール樹脂、スチレン−マレイン酸共重合
樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹脂等をポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、又はポ
リ酢酸ビニルに対して等量まで添加しても良い。
加剤、染料、顔料等を添加しても差支えない。
又、使用目的に応じ、現像性、耐蝕性等の改善の
必要が有れば、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、又はポリ酢酸ビニルと相溶性のあ
るフエノール樹脂、スチレン−マレイン酸共重合
樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹脂等をポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、又はポ
リ酢酸ビニルに対して等量まで添加しても良い。
本発明の感光性組成物は、一般的には有機溶剤
に溶解し、基材に塗布して使用する。有機溶剤の
具体例としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール、トルエン、
キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジメチルホルムアミド
等、又はこれら有機溶剤の混合物をあげることが
できる。
に溶解し、基材に塗布して使用する。有機溶剤の
具体例としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール、トルエン、
キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジメチルホルムアミド
等、又はこれら有機溶剤の混合物をあげることが
できる。
本発明の感光性組成物の現像液としては、芳香
族カルボン酸、芳香族スルホン酸、フエノール
類、又はアルキル硫酸の各アルカリ金属塩化合物
の水溶液を使用することができる。これらの化合
物の具体例を示せば、芳香族カルボン酸としては
Ｐ−クロル安息香酸、サリチル酸、アントラニル
酸等、芳香族スルホン酸としては１−ナフトール
−４−スルホン酸等、フエノール類としてはＰ−
ヒドロキシ安息香酸エチル、ペンタクロルフエノ
ール等、アルキル硫酸としてはラウリル硫酸等が
有り、これらの化合物のナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属塩化合物をあげることができる。
現像液の現像性、安定性等からみて、最も好まし
いものとしては、Ｐ−クロル安息香酸ナトリウ
ム、サリチル酸ナトリウムをあげることができ
る。現像液の濃度としては通常４から40重量％の
水溶液として使用することができるが、現像性を
改善する目的で、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ベンジルアル
コール等の有機溶剤をこれら現像液に対し重量で
１から40％添加することもできる。
族カルボン酸、芳香族スルホン酸、フエノール
類、又はアルキル硫酸の各アルカリ金属塩化合物
の水溶液を使用することができる。これらの化合
物の具体例を示せば、芳香族カルボン酸としては
Ｐ−クロル安息香酸、サリチル酸、アントラニル
酸等、芳香族スルホン酸としては１−ナフトール
−４−スルホン酸等、フエノール類としてはＰ−
ヒドロキシ安息香酸エチル、ペンタクロルフエノ
ール等、アルキル硫酸としてはラウリル硫酸等が
有り、これらの化合物のナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属塩化合物をあげることができる。
現像液の現像性、安定性等からみて、最も好まし
いものとしては、Ｐ−クロル安息香酸ナトリウ
ム、サリチル酸ナトリウムをあげることができ
る。現像液の濃度としては通常４から40重量％の
水溶液として使用することができるが、現像性を
改善する目的で、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ベンジルアル
コール等の有機溶剤をこれら現像液に対し重量で
１から40％添加することもできる。
本発明の感光性組成物の画像形成方法によれ
ば、皮膜が強靭でレリーフがシヤープな良好な画
像が得られ、又有機溶剤を使用しないので作業性
も良い。
ば、皮膜が強靭でレリーフがシヤープな良好な画
像が得られ、又有機溶剤を使用しないので作業性
も良い。
次に本発明を実施例によつて更に詳細に説明す
る。なお、本発明は以下の実施例によつて制限を
受けるものではない。
る。なお、本発明は以下の実施例によつて制限を
受けるものではない。
実施例 １
コロナ放電処理した厚さ100μのポリエチレン
フタレートフイルム上に、下記組成の感光液を乾
燥後の塗膜が3μになるように塗布し、次いで乾
燥した。
フタレートフイルム上に、下記組成の感光液を乾
燥後の塗膜が3μになるように塗布し、次いで乾
燥した。
感光液
ポリビニルブチラール・エスレツクBX−Ｌ
（積水化学（株）社製） 10重量部 ４，4′−ジアジドカルコン ２ 〃 メチルエチルケトン 50 〃 トルエン 40 〃 酢酸ブチル 30 〃 オイルブルー603（保土ヶ谷化学（株）製）
0.2〃 このようにして得られた感光性フイルムにネガ
原稿を密着させ２〓の超高圧水銀灯で１ｍの距離
より１分間露光を行つた後、次に示した現像液で
現像を行い未露光部を除去し鮮明なポジ画像を得
た。
（積水化学（株）社製） 10重量部 ４，4′−ジアジドカルコン ２ 〃 メチルエチルケトン 50 〃 トルエン 40 〃 酢酸ブチル 30 〃 オイルブルー603（保土ヶ谷化学（株）製）
0.2〃 このようにして得られた感光性フイルムにネガ
原稿を密着させ２〓の超高圧水銀灯で１ｍの距離
より１分間露光を行つた後、次に示した現像液で
現像を行い未露光部を除去し鮮明なポジ画像を得
た。
現像液
サリチル酸ナトリウム 40重量部
水 60 〃
実施例 ２
100μのポリエチレンフタレートフイルムの片
面に真空蒸着により0.1μのアルミニウム膜を設
け、その上に下記組成感光液を乾燥後の塗膜が
3μになる様に塗布し、乾燥した。
面に真空蒸着により0.1μのアルミニウム膜を設
け、その上に下記組成感光液を乾燥後の塗膜が
3μになる様に塗布し、乾燥した。
感光液
ポリ酢酸ビニル・ゴーセニールM35−X6（メチ
ルアルコール35％溶液、日本合成化学工業（株）
社製） 40重量部 メチルエチルケトン 60 〃 トルエン 40 〃 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−４−メチ
ルシクロヘキサノン ３ 〃 このフイルムにネガ原稿を密着させ、2kWの
超高圧水銀灯で１ｍの距離より２分間露光を行つ
た後、次に示す現像液で、現像を行つた。次いで
50重量％リン酸水溶液で、アルミニウムのエツチ
ングを行つた。露光部の感光層は十分にレジスト
としての機能を果たし、画像遮光性の高い鮮明な
アルミニウムのポジ画像が得られた。
ルアルコール35％溶液、日本合成化学工業（株）
社製） 40重量部 メチルエチルケトン 60 〃 トルエン 40 〃 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−４−メチ
ルシクロヘキサノン ３ 〃 このフイルムにネガ原稿を密着させ、2kWの
超高圧水銀灯で１ｍの距離より２分間露光を行つ
た後、次に示す現像液で、現像を行つた。次いで
50重量％リン酸水溶液で、アルミニウムのエツチ
ングを行つた。露光部の感光層は十分にレジスト
としての機能を果たし、画像遮光性の高い鮮明な
アルミニウムのポジ画像が得られた。
現像液
Ｐ−クロル安息香酸ナトリウム 20重量部
水 80 〃
実施例 ３
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム上に下記の組成の皮膜形成液を乾燥後の膜厚
が10μになるように塗布、乾燥し、アルコール可
溶性ポリアミド層を形成した。
ルム上に下記の組成の皮膜形成液を乾燥後の膜厚
が10μになるように塗布、乾燥し、アルコール可
溶性ポリアミド層を形成した。
皮膜形成液
アルコール可溶性ポリアミド・ウルトラミド
IC（BASF社製） 10重量部 赤色有機染料 ３ 〃 メチルアルコール 70 〃 トルエン 20 〃 次に上記ポリアミド層の上に下記組成の感光液
を乾燥後の塗膜が3μになるように塗布、乾燥し
て感光性フイルムを得た。
IC（BASF社製） 10重量部 赤色有機染料 ３ 〃 メチルアルコール 70 〃 トルエン 20 〃 次に上記ポリアミド層の上に下記組成の感光液
を乾燥後の塗膜が3μになるように塗布、乾燥し
て感光性フイルムを得た。
感光液
ポリビニルブチラール・エスレツクBL−３（積
水化学（株）社製） ４重量部 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−シクロヘ
キサノン 0.6 〃 メチルエチルケトン 60 〃 トルエン 40 〃 この感光性フイルムをポジ原稿と密着させ、超
高圧水銀灯2kWで１ｍの距離より、40秒露光を
行つた後、実施例２で用いた現像液で処理するこ
とにより、感光層の現像及びポリアミド層のエツ
チングを一液で行うことができ、良好なネガフイ
ルムが得られた。
水化学（株）社製） ４重量部 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−シクロヘ
キサノン 0.6 〃 メチルエチルケトン 60 〃 トルエン 40 〃 この感光性フイルムをポジ原稿と密着させ、超
高圧水銀灯2kWで１ｍの距離より、40秒露光を
行つた後、実施例２で用いた現像液で処理するこ
とにより、感光層の現像及びポリアミド層のエツ
チングを一液で行うことができ、良好なネガフイ
ルムが得られた。
実施例 ４
銅張り積層板上に下記組成の感光液を乾燥後の
塗膜が4μになるように塗布し、乾燥した。
塗膜が4μになるように塗布し、乾燥した。
感光液
ポリビニルホルマール・ビニレツクＫ（チツソ
（株）社製） 10重量部 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−４−メチ
ルシクロヘキサノン １ 〃 トルエン 45 〃 メチルアルコール 20 〃 エチレングリコールモノメチルエーテル
30 〃 これをネガ原稿と密着させ2kWの超高圧水銀
灯で１ｍの距離より２分間露光を行つた。実施例
２で用いた現像液で現像を行つた後、40重量％の
塩化第二鉄水溶液に浸漬し、非画線部の銅のエツ
チングを行つたが、露光部の感光層は十分にレジ
ストとしての機能を果たした。その後レジスト層
の除去はジメチルホルムアミドに浸漬することに
より簡単に行うことができた。
（株）社製） 10重量部 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−４−メチ
ルシクロヘキサノン １ 〃 トルエン 45 〃 メチルアルコール 20 〃 エチレングリコールモノメチルエーテル
30 〃 これをネガ原稿と密着させ2kWの超高圧水銀
灯で１ｍの距離より２分間露光を行つた。実施例
２で用いた現像液で現像を行つた後、40重量％の
塩化第二鉄水溶液に浸漬し、非画線部の銅のエツ
チングを行つたが、露光部の感光層は十分にレジ
ストとしての機能を果たした。その後レジスト層
の除去はジメチルホルムアミドに浸漬することに
より簡単に行うことができた。
実施例 ５
実施例１で露光まで行つたフイルムを、次に示
した現像液１〜３で現像を行つたが、現像液１〜
３のいずれによつても実施例１と同様鮮明なポジ
画像が得られた。
した現像液１〜３で現像を行つたが、現像液１〜
３のいずれによつても実施例１と同様鮮明なポジ
画像が得られた。
現像液 １
ラウリル硫酸ナトリウム 25重量部
水 75 〃
現像液 ２
アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩
（ペレツクスNBL・花王アトラス（株）社製有効
成分34％以上） 50重量部 水 50 〃 現像液 ３ Ｐ−ヒドロキシ安息香酸η−プロピル36重量部 水酸化ナトリウム ８ 〃 水 100 〃 比較例 実施例３で製造したアルコール可溶性ポリアミ
ド層を有するポリエチレンテレフタレートフイル
ムのポリアミド層の上に、下記組成の公知の感光
液を乾燥後の塗膜が3μになるように塗布、乾燥
して感光性フイルムを得た。
（ペレツクスNBL・花王アトラス（株）社製有効
成分34％以上） 50重量部 水 50 〃 現像液 ３ Ｐ−ヒドロキシ安息香酸η−プロピル36重量部 水酸化ナトリウム ８ 〃 水 100 〃 比較例 実施例３で製造したアルコール可溶性ポリアミ
ド層を有するポリエチレンテレフタレートフイル
ムのポリアミド層の上に、下記組成の公知の感光
液を乾燥後の塗膜が3μになるように塗布、乾燥
して感光性フイルムを得た。
感光液
フエノール樹脂MP−707（群栄化学（株）社
製） ４重量部 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−シクロヘ
キサノン 0.6 〃 メチルエチルケトン 60 〃 トルエン 40 〃 この感光性フイルムをポジ原稿と密着させ超高
圧水銀灯2kWで１ｍの距離より１分30秒露光を
行つた後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で感
光層の現像を行つた。次いで実施例２で用いた現
像液でポリアミド層のエツチングを行つたが、感
光層に亀裂が生じ、亀裂が生じた部分のポリアミ
ド層までエツチングが行われてしまい、実施例３
のような良好なネガフイルムが得られなかつた。
製） ４重量部 ２，６−ジ（4′−アジドベンザル）−シクロヘ
キサノン 0.6 〃 メチルエチルケトン 60 〃 トルエン 40 〃 この感光性フイルムをポジ原稿と密着させ超高
圧水銀灯2kWで１ｍの距離より１分30秒露光を
行つた後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で感
光層の現像を行つた。次いで実施例２で用いた現
像液でポリアミド層のエツチングを行つたが、感
光層に亀裂が生じ、亀裂が生じた部分のポリアミ
ド層までエツチングが行われてしまい、実施例３
のような良好なネガフイルムが得られなかつた。
Claims (1)
- １ 高分子化合物として、平均分子量10000から
230000でブチラール化度が20から80mol％である
ポリビニルブチラール、平均分子量9000から
150000でホルマール化度が20から80mol％である
ポリビニルホルマール、又は平均分子量15000か
ら270000であるポリ酢酸ビニルよりなる群から選
ばれた１種以上と、前記高分子化合物に対し１か
ら60重量％の有機溶剤に可溶なアジド化合物とを
含有する感光性組成物を、露光して光硬化させ、
次いで芳香族カルボン酸、芳香族スルホン酸、フ
エノール類、又はアルキル硫酸の各アルカリ金属
塩化合物の水溶液である水系現像液で現像するこ
とを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14861382A JPS5937540A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 感光性組成物及びその現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14861382A JPS5937540A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 感光性組成物及びその現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5937540A JPS5937540A (ja) | 1984-03-01 |
| JPH0361938B2 true JPH0361938B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=15456694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14861382A Granted JPS5937540A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 感光性組成物及びその現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5937540A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2849622B2 (ja) * | 1988-12-26 | 1999-01-20 | コニカ株式会社 | 画像形成方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3767409A (en) * | 1971-08-02 | 1973-10-23 | Eastman Kodak Co | Photographic triorganophosphine-azide dye forming composition and article |
| JPS5936245A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-02-28 | Hitachi Ltd | 感光性組成物 |
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14861382A patent/JPS5937540A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5937540A (ja) | 1984-03-01 |
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