JPH0362262B2 - - Google Patents

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JPH0362262B2
JPH0362262B2 JP9527583A JP9527583A JPH0362262B2 JP H0362262 B2 JPH0362262 B2 JP H0362262B2 JP 9527583 A JP9527583 A JP 9527583A JP 9527583 A JP9527583 A JP 9527583A JP H0362262 B2 JPH0362262 B2 JP H0362262B2
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JP
Japan
Prior art keywords
water
erasing
printing plate
lithographic printing
photosensitive lithographic
Prior art date
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Expired
Application number
JP9527583A
Other languages
English (en)
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JPS59220398A (ja
Inventor
Akira Nishioka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9527583A priority Critical patent/JPS59220398A/ja
Priority to DE19843420284 priority patent/DE3420284A1/de
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Publication of JPH0362262B2 publication Critical patent/JPH0362262B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性平版印刷版(以下、PS版と
称す。)の処理方法に関するものであり特にPS版
を画像露光した後、不必要な画像部分を消去液を
塗布し、しかる後に現像液で現像し、次いで必要
により更にガム引き処理を行なうことを特徴とす
るPS版の処理方法に関するものである。 従来PS版、特にポジ型PS版を処理する場合、
フイルム原画と重ねて露光後、現像液にて現像
し、次いで水洗した後に、不必要な画像部分(フ
イルムや焼枠のガラスのゴミつきによるもの、フ
イルムエツジ、レジスターマーク等)に消去液を
塗布し、水洗し、しかる後ガム引きを行なつてか
ら印刷を行なつていた。 所で、近年低コスト、低公害性の目的で、現像
後水洗工程を省いたシステムが開発されている。 たとえば特開昭54−8002号公報には画像露光さ
れたPS版を現像し、水洗することなく直ちにガ
ム引きする製版方法が開示されている。更に、特
開昭55−115045号公報には画像露光されたPS版
を現像し、水洗せずに直ちに界面活性剤を含む水
溶液で処理したのち、消去液を塗布し、水洗し、
次いでガム引きする製版方法が開示されている。 しかしながらこのシステムにおいても消去を必
要とする場合はリンス処理後、消去液の塗布、水
洗、およびガム引きの各工程が必要となり作業工
程が多くなつてしまうという欠点を有してした。 従つて本発明の目的は製版工程がより簡略化さ
れ、省コスト、省力化されたPS版の処理方法を
提供することである。 本発明者は種々検討を重ねた結果、PS版を画
像露光した後、不必要な画像部分に消去液を塗布
し、しかる後に現像液で現像処理を行なうことに
よつて、上記目的を達することができることを見
い出した。 従来より消去液は現像後の不要部分を消去する
ことを目的とし、消去後水洗除去した後、ガム引
きが必要であつた。しかしながら本発明者は、画
像露光後に現出する焼き出し画像を調べることに
よつて不必要な画像部分を検出し、これへ消去液
を塗布した後、この消去液を水洗除去することな
く現像液で処理し、次いで必要によりガム引きす
ることにより、消去部分のガム引きと画像露光に
よる非画像部のガム引きとを同時に行なうことが
できることを発見したのである。 本発明に従えば、特に先に述べた現像後の水洗
工程を省いたシステムにおいて、現像後に水洗せ
ずに直ちにガム引き処理することによつて製版工
程が終了するため、その効果は非常に大きいもの
である。つまり消去後の水洗およびガム引き工程
がなく、又流し台およびガムコーター等が不要と
なる。 以下、本発明によるPS版の処理方法について
順を追つて詳細に説明する。 本発明に使用されるPS版としては、通常ポジ
PS版として市販されているものなどが使用でき
るが、露光後不必要な画像部を検出する必要があ
るため、露光により変色又は色素濃度変化が大き
いものであることが有利である。また特に必然的
に消去部分が多くなるポジ型PS版に適している。
ポジ型PS版の感光層として使われているo−キ
ノンジアジド化合物は本来薄い黄色を帯びており
露光により無色になるが、これはごく弱いもので
あるため、近年多くのポジ型PS版は露光によつ
て変色又は色濃度変化を示すように作られてお
り、画像露光後に直ちに不要画像部を検出するこ
とができる。具体的には富士写真フイルム(株)製
PS版、FPD、FPD−V、FPS、FPP等、小西六
工業(株)製SLP、SMP、カレー社のP7S、P3S、ホ
ーソンアルグラフイ社のアリンピツク、ポリクロ
ーム社のGP−3、GP−5など多数上げることが
できる。 これらの版材をまずフイルムと完全に密着させ
た後紫外線光源により露光を行なう。 露光を行なつた版材の不要画像部分(ゴミつき
部分、フイルムエツジ、レジスターマーク等)に
消去液を塗布して消去する。消去後、消去液を除
去することなしにまたは必要に応じて水洗除去し
た後現像液で現像を行なう。 現像液は通常ポジPS版用現像液として市販さ
れている現像液又はケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機ア
ルカリ剤やモノエタノールアミン又はジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液な
どが使用できる。 現像方法は現像−ガム部両方をもつ自現機およ
び水洗部をもつ通常の自現機または皿現像、手現
像でもよいが、本発明の効果が充分発揮するため
には、自動現像機、特に現像−ガム部両方もつ現
像機で消去液を除去することなく直接現像を行な
い、現線液によつて消去液を除去する方法が最も
良い。 消去液は通常ポジPS版用修正液として市販さ
れているものを使用した場合、次の欠点を有して
いることが判明した。 すなわち消去液を除去することなく自現機に通
した場合、自現機の第一ローラーによつて消去液
が圧し広げられ、現像方向に対して消去した部分
の特に後の所が現像不良となることがわかつた。
したがつて通常市販の消去液を使用の場合は、現
像前に消去液を水洗除去する必要がある。 本発明者等は検討の結果粘度が200cp以下であ
る消去液によつて問題を解決することができた。
すなわち粘度が200cp以下であれば押し広げられ
た消去液は容易に現像液で除去することができる
のに対し、粘度が200cp以上では除去されにくい
ため、現像に先だち水洗除去する必要が生じる。 本発明における消去液は1つはアルカリ可溶な
酸性物質を含み、水に可溶な溶剤より成るもので
あり、さらに他の1つはアルカリ可溶な酸性物質
を含み、水に不溶な溶剤を水に乳化分散または可
溶化したものより成るものが使用できる。 本発明で消去する場合、不要画像を溶剤で溶解
し、その後現像液で置換させればよいわけである
が、置換しにくい場合すなわち水不溶な溶剤より
成る場合、ローラーでおし広げられた部分は溶剤
が現像を遅らせるため現像不良となり、さらにま
た消去部分でも一度溶解した現像液不溶解成分を
再びアルミニウム支持体表面に吸着させやすくな
るため、消去不良となりやすい。したがつて現像
液と置換させやすくするための方法として、1つ
は水に可溶な溶剤を使用するものであり、さらに
他の1つは水に不溶な溶剤を水に乳化分散または
可溶化したものを使用することである。 水に可溶な溶剤としては感光層を溶解するもの
が使用できるが、アルコール、ケトン、グリコー
ル、ラクトン、エステルその他のもの、具体的に
はメタノール、エタノール、アセトン、メチルエ
チルケトン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミ
ドなどがある。水に不溶な溶剤も同様に感光層を
溶解する必要があり、具体的にはシクロヘキサノ
ン、酢酸ブチル、ベンジルアルコールなどを上げ
ることができ、これらをアニオン系界面活性剤ま
たはノニオン系界面活性剤具体的には高級脂肪酸
塩、第2級高級脂肪酸塩、高級アルキルジカルボ
ン酸塩、第1級高級アルコール硫酸エステル塩、
第2級高級アルコール硫酸エステル塩、第1級ア
ルキル・スルフオン酸塩、第2級アルキル・スル
フオン酸塩、高級アルキル・ジスルフオン酸塩、
硫酸化脂肪および脂肪酸塩、スルフオン化高級脂
肪酸塩、高級アルキル燐酸エステル塩、高級脂肪
酸のグリセリンエステル、高級脂肪酸のグリコー
ル・エステル、高級脂肪酸のペンタエリスリツト
ール・エステル、高級脂肪酸の蔗糖エステル、高
級脂肪酸のソルビタンおよびマンニタン・エステ
ルなどの水溶液で乳化分散または可溶化すればよ
い。水に不溶の溶剤は、水/界面活性剤/溶剤の
総重量に対して20〜80重量%、界面活性剤は1〜
50重量%含ませることが好ましい。 消去液としてはさらにアルカリに可溶な酸生物
質を含むのが好ましい。すなわち水可溶な溶剤た
とえばエチレングリコールモノメチルエーテルお
よびγ−ブチロラクトンなどを単独で使用した場
合でもかなりの場合消去されるが、時々、消去さ
れているように見えても印刷によつてインキが上
がつてくる場合が起る。これは溶剤だけでは、ま
だアルミニウム支持体への再吸着を防止できてい
ないのである。これに対しアルカリ可溶の酸性物
質を溶解させることにより、アルミニウム支持体
表面への再吸着を防ぎ、完全に消去できることを
見出した。アルカリ可溶な酸性物質としては燐
酸、硫酸、硝酸、弗化水素酸、などの無機酸、p
−トルエンスルホン酸、酢酸、トリクロル酢酸、
有機ホスホン酸等の有機酸ならびにカルボン酸、
スルホン酸、ホスホン酸をもつ有機高分子たとえ
ばポリアクリル酸などがあり、燐酸、弗化水素酸
が特に好ましい。 これらの溶剤、界面活性剤、酸性物質は単独あ
るいは2種以上併用して使用することができる
し、また必要に応じて種々の化合物や分散剤を添
加溶解、分散することができる。たとえば着色の
目的の染料や顔料、プレート上への塗布性、広が
り防止のための界面活性剤、高分子化合物、二酸
化珪素等の微粒子等などがある。 このような消去液は、筆又ははけ等によつてプ
レート上に塗布するか、消去ペン等の方法で塗布
することができる。また現像の前に水洗除去して
も、除去しないで現像と同時に除去してもかまわ
ない。 以上のようにして現像処理を行なつた版材は水
洗処理の後ガム引きを行なうかまたは現像後ただ
ちにガム引きを行なうことによつて印刷版とする
ことができる。ガム液としては市販されているも
のが使用できるが、水洗後のガム液としては、た
とえば富士写真フイルム(株)製GP、GU、GU−2
等を上げることができ、ガムコーター又は手塗り
によつてガム引きをすることができる。また現像
後ただちにガム引きする方法のガムとしては同社
製FPがあり、水洗工程のない自動現像機によつ
て処理することができる。 次に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明
する。 実施例 1 富士写真フイルム(株)製FPDをフイルム原画と
密着させた状態で30アンペアのカーボンアーク灯
で70cmの距離から露光した。露光された非画像部
は退色が起り、その画像濃度差は0.15であつた。
このプレートの不必要画像部を次の消去液を消去
し、水洗除去することなく同社製800Eに現像液
DP−3(水で1対6に希釈)とガムFP(水で1対
1に希釈)を仕込んで現像−ガム引き処理を行な
つた。 γ−ブチロラクトン 90g 水 6g リン酸(85%) 4g エチレングリコールモノメチルエーテル90g 水 6g リン酸(85%) 4g γ−ブチロラクトン 100g エチレングリコールモノメチルエーテル
100g シクロヘキサノン 100g RP−1(富士写真フイルム(株)製)
粘度 約30000cp RP−2
(富士写真フイルム(株)製) 粘度 約2000cp γ−ブチロラクトン 68g メトローズHS−2 1g (信越化学(株)製ヒドロキシプロピル化メチルセ
ルローズ)プルロニツクF−108 15g (旭電化(株)製ノニオン系界面活性剤)水 5g リン酸 6g アエロジル#380 5g (日本アエロジル(株)製二酸化珪素微粉末)
粘度 約400cp なお粘度は25℃におけるB型粘度計での6rpm
の粘度であり)〜)は非常に低粘度であつ
た。 これらのプレートを印刷機で印刷評価したとこ
ろ次のような結果を得た。
【表】 なお表中不必要画像部消去性は10ケ所消去した
場合消去不良となつた個数である。 本発明における消去液は)および)であつ
てどちらも消去性および現像性において良好な結
果を得た。しかし水可溶溶剤だけの)および
)または水不溶溶剤)では消去不良が起り、
見た目に消えたように見えても印刷でインキが上
がつてきた。また従来の消去液),)および
粘度200cp以上のもの)では消去性は良好であ
つたが、現像性を悪くし消去部の後部に汚れが発
生した。 実施例 2 次の組成のものを乳化分散して消去液)実施
例1と同様に処理したところ消去性、現像性とも
良好であつた。 シクロヘキサノン 56g ペレツクスNBL 30g (花王アトラス(株)製アルキルナフタレンスルフ
オン酸ソーダ水溶液) 水 10g リン酸(85%) 4g 実施例 3 実施例1の消去液)を使つて現像の皿現像で
行なつた後水洗、アラビアガム引きを行なつた後
印刷したところ良好な結果を得た。 実施例 4 実施例1の消去液)を使つて消去後水洗除去
した後、富士写真フイルム(株)製800Uを使つて同
社製現像液DP−3を水で7倍に希釈した現像液
で現像し、水洗した後、同社製ガムコーター
G800にて同社ポジ用ガムGPを水で1対1に希釈
したガム液を塗布、乾燥後印刷したところ良好な
結果を得た。 実施例 5 次の組成の消去液)又はXI)を使つて実施例
1と同様に処理したところ良好な結果を得た。 エチレングリコールモノメチルエーテル80g 水 18g 弗化水素酸(40%) 2g XI γ−ブチロラクトン 85g 水 13g 弗化水素酸(40%) 2g

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 感光性平版印刷版を画像露光した後、不必要
    な画像部分に消去液を塗布し、しかる後に現像液
    で現像し、次いでガム引きすることを特徴とする
    感光性平版印刷版の処理方法。 2 該感光性平版印刷版がポジ型感光性平版印刷
    版であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の処理方法。 3 該消去液の粘度が200cp以下であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の処理方法。 4 該消去液がアルカリ可容な酸性物質を含み、
    水に可溶な溶剤より成ることを特徴とする特許請
    求の範囲第3項記載の処理方法。 5 該消去液がアルカリ可溶な酸性物質を含み、
    水に不溶な溶剤を水に乳化分散または可溶化させ
    たものより成ることを特徴とする特許請求の範囲
    第3項記載の処理方法。 6 感光性平版印刷版を画像露光した後、不必要
    な画像部分に消去液を塗布し、次いで現像液で現
    像することを特徴とする感光性平版印刷版の処理
    方法。
JP9527583A 1983-05-30 1983-05-30 感光性平版印刷版の処理方法 Granted JPS59220398A (ja)

Priority Applications (2)

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JP9527583A JPS59220398A (ja) 1983-05-30 1983-05-30 感光性平版印刷版の処理方法
DE19843420284 DE3420284A1 (de) 1983-05-30 1984-05-30 Verfahren zur behandlung von lichtempfindlichen flachdruckformen

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JPS59220398A JPS59220398A (ja) 1984-12-11
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DE3908764C2 (de) * 1989-03-17 1994-08-11 Basf Ag Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen
US6701843B2 (en) * 2000-09-18 2004-03-09 Agfa-Gevaert Method of lithographic printing with a reusable substrate
CN105466748B (zh) * 2015-12-31 2018-12-25 中铝西南铝冷连轧板带有限公司 Ps板基表面条纹检测方法

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