JPH036231A - 新規な重合体およびその用途 - Google Patents
新規な重合体およびその用途Info
- Publication number
- JPH036231A JPH036231A JP14070089A JP14070089A JPH036231A JP H036231 A JPH036231 A JP H036231A JP 14070089 A JP14070089 A JP 14070089A JP 14070089 A JP14070089 A JP 14070089A JP H036231 A JPH036231 A JP H036231A
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- JP
- Japan
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- group
- bis
- naphthalene
- formula
- polymer
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- Pending
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- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はケイ素−ケイ素結合を主鎖に有する新規かつ有
用な重合体およびその用途に関する。さらに詳しくは1
本発明はケイ素−ケイ素結合と1゜5−ナフチレン基と
を交互に縁返し単位として含む新規かつ有用な重合体、
およびこの重合体からなる導電性材料に関する。
用な重合体およびその用途に関する。さらに詳しくは1
本発明はケイ素−ケイ素結合と1゜5−ナフチレン基と
を交互に縁返し単位として含む新規かつ有用な重合体、
およびこの重合体からなる導電性材料に関する。
高分子の主鎖にSi −Si結合を有する重合体は。
感光性材料や絶縁材料として極めて有用な材料である。
この種の重合体としてはジャーナル・オブ・ポリマー・
サイエンス、ポリマー・レター・エデイジョン(J、
Po1y+mer Sci、、 Polymer La
tt。
サイエンス、ポリマー・レター・エデイジョン(J、
Po1y+mer Sci、、 Polymer La
tt。
Ed、)22.669〜671(1984)に下記式(
II)で表わされる構成単位よりなる重合体などが示さ
れているが、有機溶媒に対する溶解性や塗膜を形成する
ときの(式中、R1およびR″は、それぞれ独立にアル
キル均−性に問題を有し、実用に供されていない。
II)で表わされる構成単位よりなる重合体などが示さ
れているが、有機溶媒に対する溶解性や塗膜を形成する
ときの(式中、R1およびR″は、それぞれ独立にアル
キル均−性に問題を有し、実用に供されていない。
また、特開昭60−61744号公報には光および放射
線感応性有機高分子材料として、下記式Cm)で表わさ
れる構成単位の繰り返しからなる高分子材料が開示され
ているが、実施例としてはR,=Qの場合に限定され、
特に導電性材料として使用する場合には改善が望まれて
いる。
線感応性有機高分子材料として、下記式Cm)で表わさ
れる構成単位の繰り返しからなる高分子材料が開示され
ているが、実施例としてはR,=Qの場合に限定され、
特に導電性材料として使用する場合には改善が望まれて
いる。
一方、従来から導電性を必要とする用途には専ら金属が
使用され、有機高分子化合物は一般には絶縁材料として
取扱われていた。ところが従来絶縁材料として認識され
ていた有機高分子化合物のうち、ケイ素原子を含む高分
子化合物が導電性を有していることが見出され、このよ
うなケイ素含有高分子化合物を導電性材料として使用し
ようとする試みがなされている。
使用され、有機高分子化合物は一般には絶縁材料として
取扱われていた。ところが従来絶縁材料として認識され
ていた有機高分子化合物のうち、ケイ素原子を含む高分
子化合物が導電性を有していることが見出され、このよ
うなケイ素含有高分子化合物を導電性材料として使用し
ようとする試みがなされている。
例えば1981年には、ポリシランの一種であるメチル
フェニルポリシランに光照射することにより架橋構造を
形成させた化合物にドーパント(ドーピングエージェン
ト)を添加することにより、この化合物が高い導電率を
示すことが発見されている。ところが、ここで使用され
るドーパントとしては、AsF、のような化合物が使用
されている。そしてこのようなドーパントを使用するこ
とにより、上記のケイ素含有化合物は、 0.5 S/
cm程度の導電率を示すことが開示されている(JAC
S、103.7352−7354)。
フェニルポリシランに光照射することにより架橋構造を
形成させた化合物にドーパント(ドーピングエージェン
ト)を添加することにより、この化合物が高い導電率を
示すことが発見されている。ところが、ここで使用され
るドーパントとしては、AsF、のような化合物が使用
されている。そしてこのようなドーパントを使用するこ
とにより、上記のケイ素含有化合物は、 0.5 S/
cm程度の導電率を示すことが開示されている(JAC
S、103.7352−7354)。
しかしながら、このようなケイ素含有化合物を導電性材
料として使用する場合には、ドーパントとして毒性の高
いAsF、を使用しなければならない。
料として使用する場合には、ドーパントとして毒性の高
いAsF、を使用しなければならない。
また上記のようなケイ素含有化合物を製造する際、光照
射の制御が麺しく、良好な特性を有する化合物を再現性
よく製造することが難しいといった問題もある。
射の制御が麺しく、良好な特性を有する化合物を再現性
よく製造することが難しいといった問題もある。
また特開昭62−59632号公報にはAsF、を使用
せずに優れた導電性を示すマトリックス状のポリアルキ
ルシランが開示されている。ここではドーパントとして
ポリアルキルシラン中に硫酸イオンを含有させることに
より、導電性が賦与されたポリシランが開示されている
。このときのポリアルキルシランの導電率は10′″′
〜10 S/am程度である。
せずに優れた導電性を示すマトリックス状のポリアルキ
ルシランが開示されている。ここではドーパントとして
ポリアルキルシラン中に硫酸イオンを含有させることに
より、導電性が賦与されたポリシランが開示されている
。このときのポリアルキルシランの導電率は10′″′
〜10 S/am程度である。
しかしながら、上記のようなポリシランからなる導電性
材料においても、導電率等の特性や製造条件などに改善
の余地を残している。
材料においても、導電率等の特性や製造条件などに改善
の余地を残している。
本発明の目的は、ケイ素−ケイ素結合およびナフチレン
結合を繰返し単位に有する新規かつ機能性高分子材料と
して有用な重合体を提供することである。
結合を繰返し単位に有する新規かつ機能性高分子材料と
して有用な重合体を提供することである。
また本発明の他の目的は、上記のポリシラン化合物から
なる導電性材料を提供することである。
なる導電性材料を提供することである。
本発明は次の新規な共重合体およびその用途である。
(1)下記−数式(13で表わされるポリシラン化金物
からなることを特徴とする新規な重合体。
からなることを特徴とする新規な重合体。
(2)下記−数式〔I〕で表わされる重合体からなるこ
とを特徴とする導電性材料。
とを特徴とする導電性材料。
1
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立にアルキル基
、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選ばれ
た基を表わし、nは2以上の整数を表わす。) 本発明の重合体は上記−数式〔I〕で表わされるポリシ
ラン化合物であり、優れた導電性を有している。
、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選ばれ
た基を表わし、nは2以上の整数を表わす。) 本発明の重合体は上記−数式〔I〕で表わされるポリシ
ラン化合物であり、優れた導電性を有している。
一般式〔!〕において nl、nlで表わされるアルキ
ル基としては、通常炭素数1〜10のアルキル基。
ル基としては、通常炭素数1〜10のアルキル基。
好ましくは1〜6のアルキル基がある。このようなアル
キル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、ローブチル基、n−ヘキシル基なとの直鎖状アル
キル基; igo−プロピル基、5aG−ブチル基、5
ee−アミル基などの2級アルキル基;ならびにtar
t−ブチル基、tart−アミル基などの3級アルキル
基などをあげることができる。
キル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、ローブチル基、n−ヘキシル基なとの直鎖状アル
キル基; igo−プロピル基、5aG−ブチル基、5
ee−アミル基などの2級アルキル基;ならびにtar
t−ブチル基、tart−アミル基などの3級アルキル
基などをあげることができる。
アリール基は少なくとも1個の芳香族環を有する1価の
基であり、この芳香族環は置換基を有していてもよい。
基であり、この芳香族環は置換基を有していてもよい。
このようなアリール基の具体的な例としては、フェニル
基、ナフチル基、トリル基およびキシリル基などをあげ
ることができる。これらのアリール基のうち、本発明の
ポリシラン化合物を導電性材料として使用する場合には
、フェニル基が好ましい。
基、ナフチル基、トリル基およびキシリル基などをあげ
ることができる。これらのアリール基のうち、本発明の
ポリシラン化合物を導電性材料として使用する場合には
、フェニル基が好ましい。
またアラルキル基は少なくとも1個の芳香族環を有する
脂肪族炭化水素からなる1価の基であり、ここで含まれ
る芳香族環は置換基を有していてもよい、このようなア
ラルキル基の具体的な例としてはベンジル基、フェネチ
ル基、α−メチルベンジル基、トリル基などをあげるこ
とができる。
脂肪族炭化水素からなる1価の基であり、ここで含まれ
る芳香族環は置換基を有していてもよい、このようなア
ラルキル基の具体的な例としてはベンジル基、フェネチ
ル基、α−メチルベンジル基、トリル基などをあげるこ
とができる。
上記のようなR1、R2のうち、同時に存在する基とし
ては、重合体の有機溶媒に対する溶解性を考慮して選択
することができ、中でもR1およびR3がそれぞれメチ
ルおよびエチル、メチルおよびローへキシル、メチルお
よびフェニルの組合せが好ましい。
ては、重合体の有機溶媒に対する溶解性を考慮して選択
することができ、中でもR1およびR3がそれぞれメチ
ルおよびエチル、メチルおよびローへキシル、メチルお
よびフェニルの組合せが好ましい。
また上記式(r)において、nは2以上の整数であり、
好ましくは10以上の整数である。
好ましくは10以上の整数である。
本発明の一般式〔I〕で示されるポリシラン化合物から
なる重合体の典型的なものをあげると、次のものがあげ
られる。
なる重合体の典型的なものをあげると、次のものがあげ
られる。
ポリ〔(テトラメチルジシラニレン)−t、S−ナフチ
レン〕、ポリ((1,2−ジメチル−1,2−ジフェニ
ルジシラニレン)−1,5−ナフチレン〕、ポリ〔(テ
トラブエニルジシラニレン)−t、S−ナフチレン〕、
ポリ[(1,2=ジエチル−1,2−ジメチルジシラニ
レン)−1,5−ナフチレン]、ポリ[(1,2−ジメ
チル−1,2−ジヘキシルジシラニレン)−1,5−ナ
フチレン]。
レン〕、ポリ((1,2−ジメチル−1,2−ジフェニ
ルジシラニレン)−1,5−ナフチレン〕、ポリ〔(テ
トラブエニルジシラニレン)−t、S−ナフチレン〕、
ポリ[(1,2=ジエチル−1,2−ジメチルジシラニ
レン)−1,5−ナフチレン]、ポリ[(1,2−ジメ
チル−1,2−ジヘキシルジシラニレン)−1,5−ナ
フチレン]。
上記のような本発明の重合体の物性は後の実施例に示す
通りである。
通りである。
上記のような本発明のポリシラン化合物は、例えば次の
一般式[IV]で表わされる1、5−ビス(クロロシリ
ル)ナフタレン誘導体と、該誘導体中における塩素原子
と反応しうる量のアルカリ金属とを反応させることによ
り製造することができる。
一般式[IV]で表わされる1、5−ビス(クロロシリ
ル)ナフタレン誘導体と、該誘導体中における塩素原子
と反応しうる量のアルカリ金属とを反応させることによ
り製造することができる。
炉
(式中、R′およびR2は前記式〔I〕におけるR1お
よびR2と同じものを表わす、) 上記式(IV)で表わされるビス(クロロシリル)ナフ
タレン誘導体は、所定の置換基(R1,R2)を有する
モノクロロヒドロシランと1.5−ジブロモナフタレン
とをマグネシウムを用いて反応させ、ビス(ヒドロシリ
ル)ナフタレンとした後、これを四塩化炭素中PdCQ
、またはBPO(ベンゾイルペルオキシド)存在下に加
熱して得られる 例えば上記のようにして得られる1、5−ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体の例としては、1.5−ビス
(ジメチルクロロシリル)ナフタレン、1゜5−ビス(
メチルエチルクロロシリル)ナフタレン、1.5−ビス
(メチルn−ヘキシルクロロシリル)ナフタレン、1,
5−ビス(メチルフェニルクロロシリル)ナフタレン、
1,5−ビス(エチルフェニルクロロシリル)ナフタレ
ン、1j5−ビス(プロピルフェニルクロロシリル)ナ
フタレン、1,5−ビス(iso−プロピルフェニルク
ロロシリル)ナフタレン、1,5−ビス(ジフェニルク
ロロシリル)ナフタレン、1,5−ビス(ナフチルフェ
ニルクロロシリル)ナフタレン、 1,5−ビス(トリ
ルフェニルクロロシリル)ナフタレン、1゜5−ビス(
ベンジルフェニルクロロシリル)ナフタレン、■、5−
ビス(メチルベンジルクロロシリル)ナフタレンなどを
あげることができる。
よびR2と同じものを表わす、) 上記式(IV)で表わされるビス(クロロシリル)ナフ
タレン誘導体は、所定の置換基(R1,R2)を有する
モノクロロヒドロシランと1.5−ジブロモナフタレン
とをマグネシウムを用いて反応させ、ビス(ヒドロシリ
ル)ナフタレンとした後、これを四塩化炭素中PdCQ
、またはBPO(ベンゾイルペルオキシド)存在下に加
熱して得られる 例えば上記のようにして得られる1、5−ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体の例としては、1.5−ビス
(ジメチルクロロシリル)ナフタレン、1゜5−ビス(
メチルエチルクロロシリル)ナフタレン、1.5−ビス
(メチルn−ヘキシルクロロシリル)ナフタレン、1,
5−ビス(メチルフェニルクロロシリル)ナフタレン、
1,5−ビス(エチルフェニルクロロシリル)ナフタレ
ン、1j5−ビス(プロピルフェニルクロロシリル)ナ
フタレン、1,5−ビス(iso−プロピルフェニルク
ロロシリル)ナフタレン、1,5−ビス(ジフェニルク
ロロシリル)ナフタレン、1,5−ビス(ナフチルフェ
ニルクロロシリル)ナフタレン、 1,5−ビス(トリ
ルフェニルクロロシリル)ナフタレン、1゜5−ビス(
ベンジルフェニルクロロシリル)ナフタレン、■、5−
ビス(メチルベンジルクロロシリル)ナフタレンなどを
あげることができる。
本発明のポリシラン化合物を導電性材料として使用する
場合には、上記のような化合物のうち、1.5−ビス(
メチルエチルクロロシリル)ナフタレン、1.5−ビス
(メチルフェニルクロロシリル)ナフタレンを使用する
ことが好ましい。
場合には、上記のような化合物のうち、1.5−ビス(
メチルエチルクロロシリル)ナフタレン、1.5−ビス
(メチルフェニルクロロシリル)ナフタレンを使用する
ことが好ましい。
これらの化合物は通常は単独で使用されるが、例えば得
られるポリシラン化合物の導電性を調整することなどを
目的として、2種類以上の化合物を組合わせて使用する
こともできる。
られるポリシラン化合物の導電性を調整することなどを
目的として、2種類以上の化合物を組合わせて使用する
こともできる。
本発明のポリシラン化合物の製造方法において、上記の
1.5−ビス(クロロシリル)ナフタレン誘導体と反応
させるアルカリ金属としては、金属ナトリウム、金属リ
チウム、金属カリウムなどをあげることができる。これ
らのアルカリ金属は、単独で使用することもできるし1
組合わせて使用することもできる。特に本発明において
は、金属ナトリウムを使用することが好ましい。
1.5−ビス(クロロシリル)ナフタレン誘導体と反応
させるアルカリ金属としては、金属ナトリウム、金属リ
チウム、金属カリウムなどをあげることができる。これ
らのアルカリ金属は、単独で使用することもできるし1
組合わせて使用することもできる。特に本発明において
は、金属ナトリウムを使用することが好ましい。
上記のビス(クロロシリル)ナフタレン誘導体とアルカ
リ金属との反応の例を次に示す。
リ金属との反応の例を次に示す。
上記式に示すように、アルカリ金属は少なくともビス(
クロロシリル)ナフタレン誘導体中の塩素原子と反応す
るような量で使用することが必要であり、ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体1モルに対して通常は2モル
以上、好ましくは2〜3モルの量で使用される。
クロロシリル)ナフタレン誘導体中の塩素原子と反応す
るような量で使用することが必要であり、ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体1モルに対して通常は2モル
以上、好ましくは2〜3モルの量で使用される。
このようなアルカリ金属は、通常アルカリ金属に対して
反応性を有しない溶媒中に分散させて、ディスバージョ
ンの形態で使用される。従って本発明の製造方法は1通
常液相で行われる。そして、この場合に使用される溶媒
は、上記のようにアルカリ金属に対して反応性を有しな
い溶媒であり、さらに原料である1、5−ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体に対しても反応性を有してい
ない溶媒が使用される。
反応性を有しない溶媒中に分散させて、ディスバージョ
ンの形態で使用される。従って本発明の製造方法は1通
常液相で行われる。そして、この場合に使用される溶媒
は、上記のようにアルカリ金属に対して反応性を有しな
い溶媒であり、さらに原料である1、5−ビス(クロロ
シリル)ナフタレン誘導体に対しても反応性を有してい
ない溶媒が使用される。
このような溶媒の例としては、芳香族炭化水素系溶媒、
飽和炭化水素系溶媒、不飽和炭化水素系溶媒、エーテル
系溶媒などをあげることができ、特にトルエン、ベンゼ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素が好ましい。これら
の溶媒は、単独で、あるいは組合わせて使用することが
できる。また上記の反応は溶媒を用いずに行うこともで
きる。
飽和炭化水素系溶媒、不飽和炭化水素系溶媒、エーテル
系溶媒などをあげることができ、特にトルエン、ベンゼ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素が好ましい。これら
の溶媒は、単独で、あるいは組合わせて使用することが
できる。また上記の反応は溶媒を用いずに行うこともで
きる。
上記の反応における反応温度は、通常−20〜200℃
、好ましくは50〜150℃範囲が好ましい。
、好ましくは50〜150℃範囲が好ましい。
また、この反応は、減圧〜加圧のいずれの圧力条件で行
うことができるが、反応圧力は通常減圧〜60kg/a
l、好ましくはO〜30kg/ cd、さらに好ましく
は0〜5kg/cdの範囲に設定するのが好ましい。
うことができるが、反応圧力は通常減圧〜60kg/a
l、好ましくはO〜30kg/ cd、さらに好ましく
は0〜5kg/cdの範囲に設定するのが好ましい。
このような反応における反応時間は圧力および温度を考
慮して適宜設定できるが、通常5分〜100時間、好ま
しくは1〜10時間である。
慮して適宜設定できるが、通常5分〜100時間、好ま
しくは1〜10時間である。
さらにこのような反応は、通常不活性雰囲気下で行われ
る。そして、この反応は、通常アルゴン雰囲気下あるい
は窒素雰囲気下に行われる。
る。そして、この反応は、通常アルゴン雰囲気下あるい
は窒素雰囲気下に行われる。
例えば上記のようにして得られた一般式(11で表わさ
れる本発明のポリシラン化合物は、導電性を有するため
、導電性材料として使用することができる。
れる本発明のポリシラン化合物は、導電性を有するため
、導電性材料として使用することができる。
本発明のポリシラン化合物を導電性材料として、使用す
る場合、このポリシラン化合物にドーパントを添加して
使用するのが好ましい。
る場合、このポリシラン化合物にドーパントを添加して
使用するのが好ましい。
本発明のポリシラン化合物の導電率(σ)は通常104
S−C11−1以下であるが、ドーパントを添加するこ
とにより、その導電率(σ)は通常o、oi〜IS・c
ut−”程度になる。
S−C11−1以下であるが、ドーパントを添加するこ
とにより、その導電率(σ)は通常o、oi〜IS・c
ut−”程度になる。
本発明において使用することができるドーパントとして
は特に限定はなく、従来から使用されているI2、SO
l、AsF、などを用いることができる他。
は特に限定はなく、従来から使用されているI2、SO
l、AsF、などを用いることができる他。
5bFsなとも使用することができる。これらのドーパ
ントは、単独で、あるいは組み合わせて使用することが
できる。このようなドーパントのうち、本発明において
は、SbF、を使用することが好ましい。
ントは、単独で、あるいは組み合わせて使用することが
できる。このようなドーパントのうち、本発明において
は、SbF、を使用することが好ましい。
上記のようなドーパントの使用方法には特に限定はなく
、例えばポリシラン化合物からなる膜を形成した後、こ
の膜にドーパントを塗布する方法など種々の方法を採用
することができる。
、例えばポリシラン化合物からなる膜を形成した後、こ
の膜にドーパントを塗布する方法など種々の方法を採用
することができる。
このようにドーパントを使用することにより、本発明の
ポリシラン化合物は良好な導電性を示すようになる。し
たがって、このポリシラン化合物を導電性材料として好
適に使用することができる。
ポリシラン化合物は良好な導電性を示すようになる。し
たがって、このポリシラン化合物を導電性材料として好
適に使用することができる。
本発明のポリシラン化合物は、上記のように導電性材料
として使用できる他、5i−Si結合の有する光機能性
を利用して、感光材料などとしても使用できる。
として使用できる他、5i−Si結合の有する光機能性
を利用して、感光材料などとしても使用できる。
本発明は新規かつ有用なポリシラン化合物であり、利用
価値は大きい。
価値は大きい。
そしてこのポリシラン化合物は、主鎖中に5i−5L結
合およびナフタレン環の両者を有するため、導電材料と
して有効に使用することができ、特にSbF、などのド
ーパントを使用することにより、優れた導電性を有する
ようになる。
合およびナフタレン環の両者を有するため、導電材料と
して有効に使用することができ、特にSbF、などのド
ーパントを使用することにより、優れた導電性を有する
ようになる。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1
■、5−ビスメチルフェニルシリル)ナフタレンの旦
反応容器にマグネシウム7.7gを入れ、乾燥させた後
、THF 50mQを加えた。これに1,5−ジブロモ
ナフタレン33.8gとクロロメチルフェニルシラン5
5.8 gを200mQのTI(Fに溶解したものを滴
下した。
、THF 50mQを加えた。これに1,5−ジブロモ
ナフタレン33.8gとクロロメチルフェニルシラン5
5.8 gを200mQのTI(Fに溶解したものを滴
下した。
終夜かくはんの後、加水分解し、エーテル抽出を行った
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除き。
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除き。
減圧蒸留を行って1.5−ビス(メチルフェニルシリル
)ナフタレンを27.4g(収率63%)を得た。
)ナフタレンを27.4g(収率63%)を得た。
この化合物の沸点は220〜235℃(O,OS〜0.
080Hg)で、融点は69〜72℃であった。
080Hg)で、融点は69〜72℃であった。
この化合物の機器分析の結果を以下に示す。
111核磁気共鳴スペクトル(Cg D、溶媒中で測定
、δppm) 0.66(6H,d、 J=42Hz、 Mesi)、
6.59(2H,q。
、δppm) 0.66(6H,d、 J=42Hz、 Mesi)、
6.59(2H,q。
J=4.2Hz、 H5i)、7.07.8(14Hy
II、 ringprotons)、8.33(2H
,d、 J=8.0Hz、 ringprotons) 赤外吸収スペクトル v 5i−)12098cm−19Me−3L 125
3cm−’マススペクトル m/a=368(M”)元
素分析 C34H,、SL□ Ca1c’d C7g、20. H6,56F
ound C78,16,H6,43塩化パラジウ
ム59 、6m12の四塩化炭素100m+2を加え、
これに1,5−ビス(メチルフェニルシリル)ナフタレ
ン27.4gを四塩化炭素200mgに溶解したものを
滴下、3時間リフラックスさせた後、室温で終夜かくは
んした。反応溶液を濃縮し、得られた結晶を四塩化炭素
から再結晶して1,5−ビス(メチルフェニルクロロシ
リル)ナフタレン22.3g(収率69%)を得た。こ
の化合物の融点は205℃であった。得られた化合物の
機器分析の結果は、以下のとおりである。
II、 ringprotons)、8.33(2H
,d、 J=8.0Hz、 ringprotons) 赤外吸収スペクトル v 5i−)12098cm−19Me−3L 125
3cm−’マススペクトル m/a=368(M”)元
素分析 C34H,、SL□ Ca1c’d C7g、20. H6,56F
ound C78,16,H6,43塩化パラジウ
ム59 、6m12の四塩化炭素100m+2を加え、
これに1,5−ビス(メチルフェニルシリル)ナフタレ
ン27.4gを四塩化炭素200mgに溶解したものを
滴下、3時間リフラックスさせた後、室温で終夜かくは
んした。反応溶液を濃縮し、得られた結晶を四塩化炭素
から再結晶して1,5−ビス(メチルフェニルクロロシ
リル)ナフタレン22.3g(収率69%)を得た。こ
の化合物の融点は205℃であった。得られた化合物の
機器分析の結果は、以下のとおりである。
1H核磁気共鳴スペクトル(CCL溶液中で測定、δp
pm) 0.72(68,s、 MeSi)、6.84〜7.6
(14H,rn。
pm) 0.72(68,s、 MeSi)、6.84〜7.6
(14H,rn。
ring protons)
7.70(2B、 d、 J=8.2Hz、 ring
protons)ZRスペクトル(KBr法により測
定)v Me−Si 1259c+a−’マススペ
クトル 膳/e=436(M”)元素分析 C24H,
、Si、CQ。
protons)ZRスペクトル(KBr法により測
定)v Me−Si 1259c+a−’マススペ
クトル 膳/e=436(M”)元素分析 C24H,
、Si、CQ。
Ca1c’d C[i5.89、 H5,07F
ound C65,72、H5,0315−ビスメ
チルフェニルクロロシリルナフタナトリウム0.58g
を15rmuのトルエン リフラックス中で激しくかく
はんし、ディスバージョンにした後室温まで冷却した。
ound C65,72、H5,0315−ビスメ
チルフェニルクロロシリルナフタナトリウム0.58g
を15rmuのトルエン リフラックス中で激しくかく
はんし、ディスバージョンにした後室温まで冷却した。
1,5−ビス(クロロメチルフェニルシリル)ナフタレ
ン3.0gを固体のまま滴下し、8時間リフラックス、
かくはんした後。
ン3.0gを固体のまま滴下し、8時間リフラックス、
かくはんした後。
室温まで放冷した。酢酸、エタノール、水を順に用いて
ナトリウムを処理し、ベンゼンで抽出した。
ナトリウムを処理し、ベンゼンで抽出した。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶液を濃縮し、エタノール
中に滴下して再沈を行った。得られた固体をろ過、乾燥
し、 ポリ[(1,2−ジメチル−1,2−ジフェニル
ジシラニレン)−1,5−ナフチレン〕(式〔l〕中R
1=メチル基、R2=フェニル基) 1.1g(収率4
4%)を得た。
中に滴下して再沈を行った。得られた固体をろ過、乾燥
し、 ポリ[(1,2−ジメチル−1,2−ジフェニル
ジシラニレン)−1,5−ナフチレン〕(式〔l〕中R
1=メチル基、R2=フェニル基) 1.1g(収率4
4%)を得た。
このようにして得られたポリシラン化合物について、
GPCを用いて分子量を測定した結果、重量平均分子
jt(Mw)は25400であった。また、このポリシ
ラン化合物の融点は195〜206℃であった。このポ
リシラン化合物についての機器分析の結果を以下に示す
。
GPCを用いて分子量を測定した結果、重量平均分子
jt(Mw)は25400であった。また、このポリシ
ラン化合物の融点は195〜206℃であった。このポ
リシラン化合物についての機器分析の結果を以下に示す
。
1H核磁気共鳴スペクトル(CCQ、溶液中で測定、δ
ppm) 0.111(6H,brs、 MaSi)、6.5−8
.1(16H,II、 ringprotons) 13G核磁気共鳴スペクトル(CDCら溶液中で測定、
δppm) −2,75,−2,11(MeSi)、124.47.
127.63゜128.58.131.43.134.
98.135.23.135.61.135.86.1
38.08(ring carbons)赤外吸収スペ
クトル v Me−5i 1252cm−1 実施例2 実施例1で得られたポリジシラニレンナフチレン(式(
1)中R1=メチル基、R1=フェニル基)1gを10
m12のジクロロエタンに溶解した。この溶液を用いて
スピンコード液により絶縁基板上に7300人の厚さの
膜を形成した。
ppm) 0.111(6H,brs、 MaSi)、6.5−8
.1(16H,II、 ringprotons) 13G核磁気共鳴スペクトル(CDCら溶液中で測定、
δppm) −2,75,−2,11(MeSi)、124.47.
127.63゜128.58.131.43.134.
98.135.23.135.61.135.86.1
38.08(ring carbons)赤外吸収スペ
クトル v Me−5i 1252cm−1 実施例2 実施例1で得られたポリジシラニレンナフチレン(式(
1)中R1=メチル基、R1=フェニル基)1gを10
m12のジクロロエタンに溶解した。この溶液を用いて
スピンコード液により絶縁基板上に7300人の厚さの
膜を形成した。
この膜にSbF、を気相にて供給してドーピングを行っ
た後、膜の導電性を測定した。導電性は四探針法を採用
して、膜に電圧を印加して流れる電流および電圧を測定
することにより評価した。この結果、この膜の導電率は
(σ)は0.58S/cn+であった。
た後、膜の導電性を測定した。導電性は四探針法を採用
して、膜に電圧を印加して流れる電流および電圧を測定
することにより評価した。この結果、この膜の導電率は
(σ)は0.58S/cn+であった。
Claims (2)
- (1) 下記一般式〔 I 〕で表わされるポリシラン化
合物からなることを特徴とする新規な重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は、それぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選
ばれた基を表わし、nは2以上の整数を表わす。) - (2) 下記一般式〔 I 〕で表わされる重合体からな
ることを特徴とする導電性材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は、それぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基およびアラルキル基よりなる群から選
ばれた基を表わし、nは2以上の整数を表わす。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14070089A JPH036231A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 新規な重合体およびその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14070089A JPH036231A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 新規な重合体およびその用途 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH036231A true JPH036231A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15274704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14070089A Pending JPH036231A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 新規な重合体およびその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH036231A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0781079A4 (en) * | 1994-09-06 | 1999-03-24 | Toshiba Silicone | METHOD FOR PRODUCING AN ELECTRONIC CIRCUIT |
| JP4916552B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2012-04-11 | 東芝キヤリア株式会社 | 天井埋込形空気調和機 |
-
1989
- 1989-06-02 JP JP14070089A patent/JPH036231A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0781079A4 (en) * | 1994-09-06 | 1999-03-24 | Toshiba Silicone | METHOD FOR PRODUCING AN ELECTRONIC CIRCUIT |
| JP4916552B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2012-04-11 | 東芝キヤリア株式会社 | 天井埋込形空気調和機 |
| US8636566B2 (en) | 2007-09-07 | 2014-01-28 | Toshiba Carrier Corporation | Ceiling-embedded air conditioner |
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