JPH0363736B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0363736B2 JPH0363736B2 JP57009539A JP953982A JPH0363736B2 JP H0363736 B2 JPH0363736 B2 JP H0363736B2 JP 57009539 A JP57009539 A JP 57009539A JP 953982 A JP953982 A JP 953982A JP H0363736 B2 JPH0363736 B2 JP H0363736B2
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- JP
- Japan
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- meth
- component
- weight
- polyvinyl acetate
- acrylate
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な水現像のできる感光性樹脂組成
物に関するものであり、高度の画像再現性と柔軟
性を有する印刷版材を与えるところの部分ケン化
ポリ酢酸ビニル系感光性樹脂組成物に関するもの
である。
物に関するものであり、高度の画像再現性と柔軟
性を有する印刷版材を与えるところの部分ケン化
ポリ酢酸ビニル系感光性樹脂組成物に関するもの
である。
光重合による光不溶化反応を利用し、中性水で
現像できる感光性樹脂組成物として部分ケン化ポ
リ酢酸ビニルを主樹脂として使用する系について
は、いくつかの既知例がある。既知例は大別して
2つの系統に区別することができる。第1の系統
は、部分ケン化ポリ酢酸ビニルに水酸基を有する
単官能性(メタ)アクリル酸エステルを主体とす
る光重合性モノマを配合することによつて感光性
を付与するものである(特公昭46−39401、特公
昭50−3041、特公昭52−27561)。また、第2の系
統は、部分ケン化ポリ酢酸ビニルの水酸基に不飽
和基を有する化合物を反応させることによつて、
光重合性を付与するものである。(特公昭48−
6962、特公昭49−5923、特開昭48−55282、特開
昭48−65292、特開昭48−66151、特開昭50−
30602、特開昭50−45087、特開昭54−138090)。
現像できる感光性樹脂組成物として部分ケン化ポ
リ酢酸ビニルを主樹脂として使用する系について
は、いくつかの既知例がある。既知例は大別して
2つの系統に区別することができる。第1の系統
は、部分ケン化ポリ酢酸ビニルに水酸基を有する
単官能性(メタ)アクリル酸エステルを主体とす
る光重合性モノマを配合することによつて感光性
を付与するものである(特公昭46−39401、特公
昭50−3041、特公昭52−27561)。また、第2の系
統は、部分ケン化ポリ酢酸ビニルの水酸基に不飽
和基を有する化合物を反応させることによつて、
光重合性を付与するものである。(特公昭48−
6962、特公昭49−5923、特開昭48−55282、特開
昭48−65292、特開昭48−66151、特開昭50−
30602、特開昭50−45087、特開昭54−138090)。
第1の系統の既知例では、たとえば、β−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレートやβ−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基
と1個の不飽和基をもつ単官能(メタ)アクリル
酸エステルを主要の光重合性モノマとして使用す
ることが示されている。これらの単官能エステル
モノマは、部分ケン化ポリ酢酸ビニルと極めて良
好な相溶性を有している。そのため、部分ケン化
ポリ酢酸ビニルとの相溶性が乏しい多官能エステ
ルやベンゾインアルキルエーテル系光増感剤が相
溶するのを助ける役割を果たす。しかし、十分な
相溶性を得るためには、水酸基を有する単官能
(メタ)アクリル酸エステルを多量に使用しなけ
ればならない。したがつて、この場合、光重合に
よつて形成される架橋構造は、単官能アクリル酸
エステル主体の重合体であるために3次元性が低
く、その結果、たとえば光硬化部の耐水性が不十
分となり、現像中に光硬化部の一部が水中に溶出
することが多い。そのため、高度の画像再現性を
必要とする印刷版材には適用することが困難であ
る。この点を改造するために、たとえば特開昭50
−27602においては、同一分子中に2個以上の不
飽和基とそれよりも多い水酸基を有する多官能不
飽和モノマを使用することが提案されている。こ
の多官能不飽和モノマは、3個以上の水酸基を有
しているので部分ケン化ポリ酢酸ビニルとの相溶
性は良好であり、光重合によつて形成される架橋
構造は多官能不飽和モノマを用いているので密度
の高いものとなる。しかしながら、この架橋構造
は、結合している水酸基の数が過剰であるために
親水性が強く、光硬化部の耐水性が不十分とな
り、高度の画像再現性を必要とする用途には適用
が困難である。以上のように、部分ケン化ポリ酢
酸ビニルに光重合性モノマを配合することによつ
て感光性を付与しようとする既知例は、いずれも
光硬化部の耐水性が不十分であるために高度の画
像再現性を必要とする印刷版材用途には実用困難
であつた。
ロキシエチル(メタ)アクリレートやβ−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基
と1個の不飽和基をもつ単官能(メタ)アクリル
酸エステルを主要の光重合性モノマとして使用す
ることが示されている。これらの単官能エステル
モノマは、部分ケン化ポリ酢酸ビニルと極めて良
好な相溶性を有している。そのため、部分ケン化
ポリ酢酸ビニルとの相溶性が乏しい多官能エステ
ルやベンゾインアルキルエーテル系光増感剤が相
溶するのを助ける役割を果たす。しかし、十分な
相溶性を得るためには、水酸基を有する単官能
(メタ)アクリル酸エステルを多量に使用しなけ
ればならない。したがつて、この場合、光重合に
よつて形成される架橋構造は、単官能アクリル酸
エステル主体の重合体であるために3次元性が低
く、その結果、たとえば光硬化部の耐水性が不十
分となり、現像中に光硬化部の一部が水中に溶出
することが多い。そのため、高度の画像再現性を
必要とする印刷版材には適用することが困難であ
る。この点を改造するために、たとえば特開昭50
−27602においては、同一分子中に2個以上の不
飽和基とそれよりも多い水酸基を有する多官能不
飽和モノマを使用することが提案されている。こ
の多官能不飽和モノマは、3個以上の水酸基を有
しているので部分ケン化ポリ酢酸ビニルとの相溶
性は良好であり、光重合によつて形成される架橋
構造は多官能不飽和モノマを用いているので密度
の高いものとなる。しかしながら、この架橋構造
は、結合している水酸基の数が過剰であるために
親水性が強く、光硬化部の耐水性が不十分とな
り、高度の画像再現性を必要とする用途には適用
が困難である。以上のように、部分ケン化ポリ酢
酸ビニルに光重合性モノマを配合することによつ
て感光性を付与しようとする既知例は、いずれも
光硬化部の耐水性が不十分であるために高度の画
像再現性を必要とする印刷版材用途には実用困難
であつた。
第2の系統の不飽和基を部分ケン化ポリ酢酸ビ
ニルに導入することによつて感光性付与するもの
については、特公昭48−6962、特開昭48−66151、
特開昭50−45087はマレイン酸またはその誘導体
を部分ケン化ポリ酢酸ビニルの水酸基と反応させ
て不飽和基を導入するものであり、特開昭48−
55282はケイ皮酸エステル、特開昭48−65292は不
飽和ラクトンを同じように反応させるものであ
る。しかし、このように部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ルに不飽和基を導入することだけで、印刷用版材
として十分な画像再現性を得るためには、多量の
不飽和基を導入することによつて部分ケン化ポリ
酢酸ビニルポリマ自体に十分な光重合性を付与し
なければならない。そのためには、部分ケン化ポ
リ酢酸ビニルに水溶性を付与しているところの水
酸基を多量に置換することになつて水現像性の著
しい低下を起こす。このように、部分ケン化ポリ
酢酸ビニルへの不飽和基導入だけで感光性を付与
しようとする試みは、高度の画像再現性と良好な
水現像性の両立が困難である。このような欠点を
改良するものとして、特公昭49−5923では、N−
メチロールアクリルアミドを部分ケン化ポリ酢酸
ビニルの水酸基に反応させて不飽和基を導入し、
このポリマと光重合性の(メタ)アクリレートと
を配合することを提案している。また、特開昭54
−138090では、アクロレインなどの不飽和アルデ
ヒドを反応させることによつて部分ケン化ポリ酢
酸ビニルに不飽和基を導入し、これに光重合性の
(メタ)アクリレートを配合することが提案され
ている。しかしながら、これらの場合は部分ケン
化ポリ酢酸ビニルに導入された不飽和基は(メ
タ)アクリロイル基ではないために、光重合性モ
ノマの(メタ)アクリロイル基との共重合性が乏
しい。そのため、光重合性モノマの重合によつて
形成される架橋反応に部分ケン化ポリ酢酸ビニル
ポリマが参加する確率が低く、期待したほどの画
像再現性の改良は認められない。
ニルに導入することによつて感光性付与するもの
については、特公昭48−6962、特開昭48−66151、
特開昭50−45087はマレイン酸またはその誘導体
を部分ケン化ポリ酢酸ビニルの水酸基と反応させ
て不飽和基を導入するものであり、特開昭48−
55282はケイ皮酸エステル、特開昭48−65292は不
飽和ラクトンを同じように反応させるものであ
る。しかし、このように部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ルに不飽和基を導入することだけで、印刷用版材
として十分な画像再現性を得るためには、多量の
不飽和基を導入することによつて部分ケン化ポリ
酢酸ビニルポリマ自体に十分な光重合性を付与し
なければならない。そのためには、部分ケン化ポ
リ酢酸ビニルに水溶性を付与しているところの水
酸基を多量に置換することになつて水現像性の著
しい低下を起こす。このように、部分ケン化ポリ
酢酸ビニルへの不飽和基導入だけで感光性を付与
しようとする試みは、高度の画像再現性と良好な
水現像性の両立が困難である。このような欠点を
改良するものとして、特公昭49−5923では、N−
メチロールアクリルアミドを部分ケン化ポリ酢酸
ビニルの水酸基に反応させて不飽和基を導入し、
このポリマと光重合性の(メタ)アクリレートと
を配合することを提案している。また、特開昭54
−138090では、アクロレインなどの不飽和アルデ
ヒドを反応させることによつて部分ケン化ポリ酢
酸ビニルに不飽和基を導入し、これに光重合性の
(メタ)アクリレートを配合することが提案され
ている。しかしながら、これらの場合は部分ケン
化ポリ酢酸ビニルに導入された不飽和基は(メ
タ)アクリロイル基ではないために、光重合性モ
ノマの(メタ)アクリロイル基との共重合性が乏
しい。そのため、光重合性モノマの重合によつて
形成される架橋反応に部分ケン化ポリ酢酸ビニル
ポリマが参加する確率が低く、期待したほどの画
像再現性の改良は認められない。
以上のように、部分ケン化ポリ酢酸ビニルを主
樹脂に用い、光重合反応を利用して感光性を付与
する既知例においては、たとえば133線、3%網
点や50μの細線などの微細な画像を再現すること
が要求される印刷版材用途では実用化が困難であ
つた。
樹脂に用い、光重合反応を利用して感光性を付与
する既知例においては、たとえば133線、3%網
点や50μの細線などの微細な画像を再現すること
が要求される印刷版材用途では実用化が困難であ
つた。
本発明者らは、高度の画像再現性を有し、中性
水で現像可能な部分ケン化ポリ酢酸ビニル系感光
性樹脂組成物について鋭意検討した結果、以下に
述べる本発明に到達した。
水で現像可能な部分ケン化ポリ酢酸ビニル系感光
性樹脂組成物について鋭意検討した結果、以下に
述べる本発明に到達した。
すなわち本発明は、下記のA、BおよびC成分
からなることを特徴とする感光性樹脂組成物に関
するものである。
からなることを特徴とする感光性樹脂組成物に関
するものである。
A ケン化度60〜99モル%の部分ケン化ポリ酢酸
ビニル 100重量部 B 下記の(a)、(b)および(c)の群から選ばれた分子
量2000以下で、同一分子中に2個以上の(メ
タ)アクリロイル基を有し、同時に(メタ)ア
クリロイル基の数を越えない数の水酸基を有す
る多官能(メタ)アクリレート 10〜300重量部 (a) 多価グリシジルエーテルと(メタ)アクリ
ル酸との付加物、 (b) 多価グリシジルエーテルと2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレートとの付加物 (c) グリシジル(メタ)アクリレートと飽和ま
たは不飽和カルボン酸、アルコール、第1級
または第2級アミンとの付加物 C グリセリン、アルキレングリコール類および
ポリアルキレングリコール類の群から選ばれた
分子量1000以下で、かつ沸点150℃以上の分子
中に水酸基を有する飽和化合物 1〜60重量部 本発明は、上記のようにA、BおよびC各成分
から成ることを特徴とする画像再現性および刷版
の柔軟性にすぐれた中性水で現像可能な部分ケン
化ポリ酢酸ビニル系感光性樹脂組成物である。
ビニル 100重量部 B 下記の(a)、(b)および(c)の群から選ばれた分子
量2000以下で、同一分子中に2個以上の(メ
タ)アクリロイル基を有し、同時に(メタ)ア
クリロイル基の数を越えない数の水酸基を有す
る多官能(メタ)アクリレート 10〜300重量部 (a) 多価グリシジルエーテルと(メタ)アクリ
ル酸との付加物、 (b) 多価グリシジルエーテルと2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレートとの付加物 (c) グリシジル(メタ)アクリレートと飽和ま
たは不飽和カルボン酸、アルコール、第1級
または第2級アミンとの付加物 C グリセリン、アルキレングリコール類および
ポリアルキレングリコール類の群から選ばれた
分子量1000以下で、かつ沸点150℃以上の分子
中に水酸基を有する飽和化合物 1〜60重量部 本発明は、上記のようにA、BおよびC各成分
から成ることを特徴とする画像再現性および刷版
の柔軟性にすぐれた中性水で現像可能な部分ケン
化ポリ酢酸ビニル系感光性樹脂組成物である。
以下に本発明の各成分について詳細に説明す
る。
る。
A成分の原料として使用される部分ケン化ポリ
酢酸ビニルとしては、ケン化度60〜99モル%のも
のが用いられる。ケン化度が60モル%以下になる
と水溶解性が著しく低下して水現像が不可能にな
るので、ケン化度の下限は60モル%である。ま
た、ケン化度が100モル%の完全ケン化ポリ酢酸
ビニルも常温水に対する溶解性が乏しいこと、お
よびB成分との相溶性乏しいことから使用するこ
とができない。したがつて、ケン化度の上限は99
モル%である。以上の理由から、A成分の部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニルとしては、ケン化度60〜99モ
ル%であることが必要である。
酢酸ビニルとしては、ケン化度60〜99モル%のも
のが用いられる。ケン化度が60モル%以下になる
と水溶解性が著しく低下して水現像が不可能にな
るので、ケン化度の下限は60モル%である。ま
た、ケン化度が100モル%の完全ケン化ポリ酢酸
ビニルも常温水に対する溶解性が乏しいこと、お
よびB成分との相溶性乏しいことから使用するこ
とができない。したがつて、ケン化度の上限は99
モル%である。以上の理由から、A成分の部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニルとしては、ケン化度60〜99モ
ル%であることが必要である。
また、分子量に関しては、任意のものが使用可
能であるが、B成分との相溶性などの面から重合
度200〜2000のものが好ましい。A成分としてケ
ン化度または重合度の異なる2種類以上のものを
併用することも可能である。
能であるが、B成分との相溶性などの面から重合
度200〜2000のものが好ましい。A成分としてケ
ン化度または重合度の異なる2種類以上のものを
併用することも可能である。
B成分の分子量2000以下で、同一分子中に2個
以上の(メタ)アクリロイル基と、同時に(メ
タ)アクリロイル基の数を越えない数の水酸基を
有する多官能(メタ)アクリレートとしては、た
とえば、次のようなものが挙げられる。しかしな
がら、条件を満たすものであればこれに限定され
るものではない。グリセロールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)ア
クリレート、テトラメチロールエタンジ(メタ)
アクリレート、テトラメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテルなどの多価グリシジルエーテル類の
もつエポキシ基と(メタ)アクリル酸などの不飽
和カルボン酸の活性水素との反応によつて得られ
る2個以上の(メタ)アクリロイル基の有し、こ
れと同数の水酸基を有する多官能(メタ)アクリ
レート、同様に多価グリシジルエーテルと2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの不飽
和アルコールの付加反応によつて得られる2個以
上の(メタ)アクリロイル基をもち、これと同数
の水酸基を有する多官能(メタ)アクリレート、
逆に、グリシジル(メタ)アクリレートなどのエ
ポキシ基を有する不飽和化合物と飽和または不飽
和のカルボン酸、アルコール、第1級または第2
級アミンなどの活性水素を有する化合物との付加
反応によつて得られるところの2個以上の(メ
タ)アクリロイル基を有し、これをこえない数の
水酸基を有する多官能(メタ)アクリレートなど
である。B成分として2種類以上のものを併用す
ることも可能である。
以上の(メタ)アクリロイル基と、同時に(メ
タ)アクリロイル基の数を越えない数の水酸基を
有する多官能(メタ)アクリレートとしては、た
とえば、次のようなものが挙げられる。しかしな
がら、条件を満たすものであればこれに限定され
るものではない。グリセロールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)ア
クリレート、テトラメチロールエタンジ(メタ)
アクリレート、テトラメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテルなどの多価グリシジルエーテル類の
もつエポキシ基と(メタ)アクリル酸などの不飽
和カルボン酸の活性水素との反応によつて得られ
る2個以上の(メタ)アクリロイル基の有し、こ
れと同数の水酸基を有する多官能(メタ)アクリ
レート、同様に多価グリシジルエーテルと2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの不飽
和アルコールの付加反応によつて得られる2個以
上の(メタ)アクリロイル基をもち、これと同数
の水酸基を有する多官能(メタ)アクリレート、
逆に、グリシジル(メタ)アクリレートなどのエ
ポキシ基を有する不飽和化合物と飽和または不飽
和のカルボン酸、アルコール、第1級または第2
級アミンなどの活性水素を有する化合物との付加
反応によつて得られるところの2個以上の(メ
タ)アクリロイル基を有し、これをこえない数の
水酸基を有する多官能(メタ)アクリレートなど
である。B成分として2種類以上のものを併用す
ることも可能である。
これらのB成分は、分子中に水酸基を有するの
で、親水性ポリマであるA成分の部分ケン化ポリ
酢酸ビニルとはある程度の相溶性を示す。また、
同一分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基
を有しているので、B成分の光重合によつて生成
するところの架橋構造は十分に3次元化し、非常
に密度の高いものとなる。しかも、水酸基の数が
(メタ)アクリロイル基の数を越えないので、生
成した架橋構造の耐水性が過剰の水酸基によつて
低下することも防止できる。以上の理由から光硬
化部の耐水性は良好であり、高度の画像再現性を
得ることが可能である。
で、親水性ポリマであるA成分の部分ケン化ポリ
酢酸ビニルとはある程度の相溶性を示す。また、
同一分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基
を有しているので、B成分の光重合によつて生成
するところの架橋構造は十分に3次元化し、非常
に密度の高いものとなる。しかも、水酸基の数が
(メタ)アクリロイル基の数を越えないので、生
成した架橋構造の耐水性が過剰の水酸基によつて
低下することも防止できる。以上の理由から光硬
化部の耐水性は良好であり、高度の画像再現性を
得ることが可能である。
B成分の使用量としては、たとえばA成分100
重量部に対して10重量部以下であると光重合で生
成する架橋構造の密度が不十分となるために良好
な画像再現性が得られない。また、300重量部以
上であると、光重合によつて生成した架橋構造が
過密となるために光硬化部が脆くなり、クラツク
が入るなどの問題が著しくなる。しかがつて、B
成分の使用量はA成分100重量部に対して10〜300
重量部の範囲にあることが必要であり、50〜150
重量部がより好ましい使用量である。B成分は、
分子中に水酸基を有するのでA成分との相溶性は
比較的良好である。しかしながら、分子量が2000
を越えると急激に相溶性が低下する傾向が見られ
るのでB成分の分子量は2000以下であることが好
ましい。
重量部に対して10重量部以下であると光重合で生
成する架橋構造の密度が不十分となるために良好
な画像再現性が得られない。また、300重量部以
上であると、光重合によつて生成した架橋構造が
過密となるために光硬化部が脆くなり、クラツク
が入るなどの問題が著しくなる。しかがつて、B
成分の使用量はA成分100重量部に対して10〜300
重量部の範囲にあることが必要であり、50〜150
重量部がより好ましい使用量である。B成分は、
分子中に水酸基を有するのでA成分との相溶性は
比較的良好である。しかしながら、分子量が2000
を越えると急激に相溶性が低下する傾向が見られ
るのでB成分の分子量は2000以下であることが好
ましい。
C成分の分子量1000以下でかつ沸点が150℃以
上の分子中に水酸基を有する飽和化合物として
は、たとえば、次のようなものが挙げられる。n
−ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、イ
ソヘプチルアルコール、n−オクチルアルコー
ル、イソオクチルアルコール、n−デシルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノー
ル、ブチルセロソルブ、フエニルセロソルブ、ヘ
キシルセロソルブ、2−メトキシメトキシエタノ
ール、エチレングリコール、エチレングリコール
モノアセテート、ジエチレングリコール、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカル
ビトール、ジエチレングリコールモノアセテー
ト、トリエチレングリコール、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、トリプロピレングリコール、ポリエチレ
ングリコールで分子量1000以下のもの、ポリプロ
ピレングリコールで分子量1000以下のもの、1,
4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオー
ル、グリセリン、グリセリンモノアセテート、グ
リセリンジアセテート、グリセリンモノブチレー
ト、グリセリンジブチレート、ジグリセリン、ト
リメチロールメタン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ヘキサントリオール、テ
トラメチロールメタン、テトラメチロールエタ
ン、トリエタノールアミンなどである。C成分と
して2種類以上のものを併用することも可能であ
る。
上の分子中に水酸基を有する飽和化合物として
は、たとえば、次のようなものが挙げられる。n
−ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、イ
ソヘプチルアルコール、n−オクチルアルコー
ル、イソオクチルアルコール、n−デシルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノー
ル、ブチルセロソルブ、フエニルセロソルブ、ヘ
キシルセロソルブ、2−メトキシメトキシエタノ
ール、エチレングリコール、エチレングリコール
モノアセテート、ジエチレングリコール、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカル
ビトール、ジエチレングリコールモノアセテー
ト、トリエチレングリコール、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、トリプロピレングリコール、ポリエチレ
ングリコールで分子量1000以下のもの、ポリプロ
ピレングリコールで分子量1000以下のもの、1,
4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオー
ル、グリセリン、グリセリンモノアセテート、グ
リセリンジアセテート、グリセリンモノブチレー
ト、グリセリンジブチレート、ジグリセリン、ト
リメチロールメタン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ヘキサントリオール、テ
トラメチロールメタン、テトラメチロールエタ
ン、トリエタノールアミンなどである。C成分と
して2種類以上のものを併用することも可能であ
る。
C成分の分子量は1000以下であることが必要で
あり、それ以上であるとA成分およびB成分に対
する相溶性が乏しくなるために、A成分とB成分
の相溶性を改善する役割を果たすことができな
い。C成分を用いることによりA成分とB成分と
の相溶性が改善されることについては、たとえば
次のように推定される。すなわち、B成分は分子
中に水酸基を有するので親水性ポリマであるA成
分の部分ケン化ポリ酢酸ビニルとの間にある程度
の相溶性は有しているものの、たとえば版材形成
時に急激に溶媒を除去したり、急激に冷却したり
するとB成分の一部が版表面にしみ出したり、版
材内部でA成分とB成分とが相分離してにごりを
生じることが多い。また、版材を高湿度条件下で
長時間保存するとB成分の一部が版面に徐々にし
み出す現像が見られることもある。しかしなが
ら、C成分を添加した場合には、C成分はその水
酸基の働きでA成分およびB成分のいずれに対し
ても一定を相溶性を持つために、A成分とB成分
との相溶を助ける役割を果たすことによつて、こ
れらの問題を解決するものど思われる。また、C
成分を添加することによつて版材製造時の成型性
も改善される。C成分として、たとえば、オクチ
ルアルコールなどを使用する際には、部分ケン化
ポリ酢酸ビニル系版材を水で現像する際に発生す
る泡を消滅させる効果も期待できる。
あり、それ以上であるとA成分およびB成分に対
する相溶性が乏しくなるために、A成分とB成分
の相溶性を改善する役割を果たすことができな
い。C成分を用いることによりA成分とB成分と
の相溶性が改善されることについては、たとえば
次のように推定される。すなわち、B成分は分子
中に水酸基を有するので親水性ポリマであるA成
分の部分ケン化ポリ酢酸ビニルとの間にある程度
の相溶性は有しているものの、たとえば版材形成
時に急激に溶媒を除去したり、急激に冷却したり
するとB成分の一部が版表面にしみ出したり、版
材内部でA成分とB成分とが相分離してにごりを
生じることが多い。また、版材を高湿度条件下で
長時間保存するとB成分の一部が版面に徐々にし
み出す現像が見られることもある。しかしなが
ら、C成分を添加した場合には、C成分はその水
酸基の働きでA成分およびB成分のいずれに対し
ても一定を相溶性を持つために、A成分とB成分
との相溶を助ける役割を果たすことによつて、こ
れらの問題を解決するものど思われる。また、C
成分を添加することによつて版材製造時の成型性
も改善される。C成分として、たとえば、オクチ
ルアルコールなどを使用する際には、部分ケン化
ポリ酢酸ビニル系版材を水で現像する際に発生す
る泡を消滅させる効果も期待できる。
一般に、C成分のような低分子量の飽和化合物
を感光性樹脂組成物に添加すると光硬化性が悪く
なり、急激な画像再現性の低下が発生するのが普
通である。ところが本発明の場合、B成分は2個
以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能
(メタ)アクリレートであるので、光重合によつ
て生成された架橋構造は十分に3次元化しており
密度の非常に高いものであり、架橋構造は過剰の
水酸基を保有していないので光硬化部の耐水性は
きわめて良好である。そのため、C成分の低分子
量飽和化合物をかなり多量に含有しても光硬化部
分の耐水性の低下はわずかであり、高度の画像再
現性を保持しうることが可能である。
を感光性樹脂組成物に添加すると光硬化性が悪く
なり、急激な画像再現性の低下が発生するのが普
通である。ところが本発明の場合、B成分は2個
以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能
(メタ)アクリレートであるので、光重合によつ
て生成された架橋構造は十分に3次元化しており
密度の非常に高いものであり、架橋構造は過剰の
水酸基を保有していないので光硬化部の耐水性は
きわめて良好である。そのため、C成分の低分子
量飽和化合物をかなり多量に含有しても光硬化部
分の耐水性の低下はわずかであり、高度の画像再
現性を保持しうることが可能である。
C成分の沸点については、150℃以下であると、
感光性樹脂組成物の溶媒の役割を果たすだけで版
材成型時の乾燥工程などで版材から除去されるた
めに、版材成型時にA成分とB成分の相溶性を助
けるという本来の役割を果たすことができない。
また、沸点が150℃以下であると一部が版材内部
に残留した際に、経時的に蒸発して版硬度の著し
い経時変化などの原因ともなる。以上の理由か
ら、C成分の沸点は150℃以上であることが必要
である。
感光性樹脂組成物の溶媒の役割を果たすだけで版
材成型時の乾燥工程などで版材から除去されるた
めに、版材成型時にA成分とB成分の相溶性を助
けるという本来の役割を果たすことができない。
また、沸点が150℃以下であると一部が版材内部
に残留した際に、経時的に蒸発して版硬度の著し
い経時変化などの原因ともなる。以上の理由か
ら、C成分の沸点は150℃以上であることが必要
である。
C成分は沸点が150℃以上であるので版材成型
後もその全部または大部分が版材内部に残留す
る。そのため、露光版に柔軟性を付与する役割も
果たし、寒冷時にクラツクの入るトラブルも解消
でき、インキの転移性も改良することができる。
後もその全部または大部分が版材内部に残留す
る。そのため、露光版に柔軟性を付与する役割も
果たし、寒冷時にクラツクの入るトラブルも解消
でき、インキの転移性も改良することができる。
C成分の使用量は、A成分100重量部に対して
1重量部以下であるとA成分とB成分との相溶性
を助ける役割を発現することができない。逆に60
重量部を越えて添加すると、光硬化部の耐水性低
下が無視できなくなり、画像再現性が著しく低下
する。これから、C成分の使用量は1〜60重量部
の範囲にあることが必要であり、好ましくは5〜
50重量部である。
1重量部以下であるとA成分とB成分との相溶性
を助ける役割を発現することができない。逆に60
重量部を越えて添加すると、光硬化部の耐水性低
下が無視できなくなり、画像再現性が著しく低下
する。これから、C成分の使用量は1〜60重量部
の範囲にあることが必要であり、好ましくは5〜
50重量部である。
本発明の組成物の光重合反応をすみやかに行わ
せるための光増感剤としては、従来公知の化合物
を全て使用することができる。例えば、ベンゾイ
ンアルキルエーテル類、ベンゾフエノン類、アン
トラキノン類、ベンジル類、アセトンフエノン
類、ジアセチル類などが挙げられる。これらの光
増感剤は、全組成物に対して0.01〜10重量%の範
囲で使用することができる。
せるための光増感剤としては、従来公知の化合物
を全て使用することができる。例えば、ベンゾイ
ンアルキルエーテル類、ベンゾフエノン類、アン
トラキノン類、ベンジル類、アセトンフエノン
類、ジアセチル類などが挙げられる。これらの光
増感剤は、全組成物に対して0.01〜10重量%の範
囲で使用することができる。
本発明組成物の熱安定性を増すために公知の熱
重合禁止剤は全て使用することができる。好まし
い熱重合禁止剤としては、フエノール類、ハイド
ロキノン類、カテコール類などが挙げられ、組成
物の全量に対して0.001〜5重量%の範囲で使用
することができる。また、染料、顔料、界面活性
剤、消泡剤、紫外線吸収剤などを添加することも
できる。
重合禁止剤は全て使用することができる。好まし
い熱重合禁止剤としては、フエノール類、ハイド
ロキノン類、カテコール類などが挙げられ、組成
物の全量に対して0.001〜5重量%の範囲で使用
することができる。また、染料、顔料、界面活性
剤、消泡剤、紫外線吸収剤などを添加することも
できる。
本発明の組成物の通常の製造は、A成分の部分
ケン化ポリ酢酸ビニルを水/アルコールの混合溶
媒に加熱溶解した後に、B成分の多官能(メタ)
アクリレート、C成分の水酸基をもつ飽和化合物
および光増感剤、熱重合禁止剤等を添加し、撹拌
して十分に混合する。このようにして、感光性樹
脂溶液が得られる。
ケン化ポリ酢酸ビニルを水/アルコールの混合溶
媒に加熱溶解した後に、B成分の多官能(メタ)
アクリレート、C成分の水酸基をもつ飽和化合物
および光増感剤、熱重合禁止剤等を添加し、撹拌
して十分に混合する。このようにして、感光性樹
脂溶液が得られる。
上記の混合溶液から感光層を形成せしめるに
は、たとえば溶剤を留去し乾燥した後に粒状化し
たものを支持体上にプレス等で加温加圧して感光
層を形成することができる。また、乾式製膜法で
感光性シートを作り、このシートの支持体上に接
着して感光層を形成することも可能である。さら
に、支持体上に直接に乾式製膜して感光層を得る
こともできる。支持体としては、鉄、ステンレ
ス、アルミニウム、銅などの金属板、ポリエステ
ルフイルムなどの合成樹脂シート、スチレン−ブ
タジエンなどの合成ゴムシートが用いられる。感
光層は0.1〜10mmの厚さに形成することが好まし
い。
は、たとえば溶剤を留去し乾燥した後に粒状化し
たものを支持体上にプレス等で加温加圧して感光
層を形成することができる。また、乾式製膜法で
感光性シートを作り、このシートの支持体上に接
着して感光層を形成することも可能である。さら
に、支持体上に直接に乾式製膜して感光層を得る
こともできる。支持体としては、鉄、ステンレ
ス、アルミニウム、銅などの金属板、ポリエステ
ルフイルムなどの合成樹脂シート、スチレン−ブ
タジエンなどの合成ゴムシートが用いられる。感
光層は0.1〜10mmの厚さに形成することが好まし
い。
本発明の感光性樹脂組成物を用いて印刷用レリ
ーフ像を形成するには、上記のようにして作製し
た感光層上にネガテイブまたはポジテイブの原図
フイルムを密着し、通常300〜400mμの波長を中
心とする高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハラ
イドランプ、キセノン灯、カーボンアーク灯、ケ
ミカル灯からの紫外線を照射し、光重合による硬
化を行なわせる。次いで、未硬化部分を中性水使
用のスプレ式現像装置またはブラシ式現像装置で
水中に溶出させることによりレリーフが支持体上
に形成される。
ーフ像を形成するには、上記のようにして作製し
た感光層上にネガテイブまたはポジテイブの原図
フイルムを密着し、通常300〜400mμの波長を中
心とする高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハラ
イドランプ、キセノン灯、カーボンアーク灯、ケ
ミカル灯からの紫外線を照射し、光重合による硬
化を行なわせる。次いで、未硬化部分を中性水使
用のスプレ式現像装置またはブラシ式現像装置で
水中に溶出させることによりレリーフが支持体上
に形成される。
本発明の感光性組成物は、中性水で現像可能で
133線の3%網点や50μの細線などの微細な画像
が再現されることが要求される高級印刷用途に適
用可能な高度の画像再現性を有する感光性樹脂材
を与える。これは、基体ポリマとして水溶解性の
良好なA成分の部分ケン化ポリ酢酸ビニルを使用
し、光重合性モノマとしてB成分の多官能(メ
タ)アクリレートを使用し、C成分の水酸基を有
する飽和化合物がA成分とB成分の相溶性を改良
しているからである。すなわち、B成分は分子中
に水酸基を有しているので、A成分の部分ケン化
ポリ酢酸ビニルと一定の相溶性は有している。し
かしながら、その相溶性はかならずしも十分では
ないために、版材成型時等に相分離や版面へのし
み出しを発生することが多い。C成分を添加する
とこの問題は解決し、A成分とB成分が完全に相
溶するようになる。これはC成分が分子中にもつ
水酸基の働きでA成分にもB成分にも一定の相溶
性を有しているためと考えられる。このようにし
て得られた版材に活性光線を照射するとB成分の
光重合は迅速かつ均一に進行し、しかもA成分は
B成分の多官能(メタ)アクリレートの光重合に
よつて生成される密度の高い架橋構造に均一かつ
効率よく包含される。しかも、B成分の光重合に
よつて形成された架橋構造は多官能(メタ)アク
リレートで構成されているので、単官能(メタ)
アクリレートを主体とする場合よりもはるかに密
度が高いものであり、B成分中の水酸基の数は、
(メタ)アクリロイル基の数以下であるために架
橋構造自体の耐水性も良好である。そのため、C
成分の水酸基を有する飽和化合物を含有しても、
光硬化部の耐水性は良好で高度の画像再現性が得
られる。また、C成分は露光後の版材に含有され
柔軟性を付与する効果ももつ。以上のように、本
発明の感光性樹脂組成物はA、BおよびCの3成
分のそれぞれが必須成分であり、これらが一体に
なることによつて高度の画像再現性と露光版の柔
軟性が得られるものである。
133線の3%網点や50μの細線などの微細な画像
が再現されることが要求される高級印刷用途に適
用可能な高度の画像再現性を有する感光性樹脂材
を与える。これは、基体ポリマとして水溶解性の
良好なA成分の部分ケン化ポリ酢酸ビニルを使用
し、光重合性モノマとしてB成分の多官能(メ
タ)アクリレートを使用し、C成分の水酸基を有
する飽和化合物がA成分とB成分の相溶性を改良
しているからである。すなわち、B成分は分子中
に水酸基を有しているので、A成分の部分ケン化
ポリ酢酸ビニルと一定の相溶性は有している。し
かしながら、その相溶性はかならずしも十分では
ないために、版材成型時等に相分離や版面へのし
み出しを発生することが多い。C成分を添加する
とこの問題は解決し、A成分とB成分が完全に相
溶するようになる。これはC成分が分子中にもつ
水酸基の働きでA成分にもB成分にも一定の相溶
性を有しているためと考えられる。このようにし
て得られた版材に活性光線を照射するとB成分の
光重合は迅速かつ均一に進行し、しかもA成分は
B成分の多官能(メタ)アクリレートの光重合に
よつて生成される密度の高い架橋構造に均一かつ
効率よく包含される。しかも、B成分の光重合に
よつて形成された架橋構造は多官能(メタ)アク
リレートで構成されているので、単官能(メタ)
アクリレートを主体とする場合よりもはるかに密
度が高いものであり、B成分中の水酸基の数は、
(メタ)アクリロイル基の数以下であるために架
橋構造自体の耐水性も良好である。そのため、C
成分の水酸基を有する飽和化合物を含有しても、
光硬化部の耐水性は良好で高度の画像再現性が得
られる。また、C成分は露光後の版材に含有され
柔軟性を付与する効果ももつ。以上のように、本
発明の感光性樹脂組成物はA、BおよびCの3成
分のそれぞれが必須成分であり、これらが一体に
なることによつて高度の画像再現性と露光版の柔
軟性が得られるものである。
本発明の感光性組成物は、凸版材として用いら
れるときに最もその効果を発揮するが、平版材、
凹版材、孔版材、フオトレジストとして使用する
ことも可能である。
れるときに最もその効果を発揮するが、平版材、
凹版材、孔版材、フオトレジストとして使用する
ことも可能である。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明す
る。
る。
実施例 1
プロピレングリコールジグルシジルエーテル1
モルとアクリル酸2モル、トリエチルベンジルア
ンモニウルクロライド1重量%、ハイドロキノン
モノメチルエーテル0.1重量%を3ツ口フラスコ
中に入れて窒素ガス流通下で800℃に加温して8
時間反応させた。得られた反応物の赤外吸収スペ
クトルを調べた結果、下記のような水酸基を2
個、アクリロイル基を2個もつ多官能アクリレー
トが生成していることを確認した。
モルとアクリル酸2モル、トリエチルベンジルア
ンモニウルクロライド1重量%、ハイドロキノン
モノメチルエーテル0.1重量%を3ツ口フラスコ
中に入れて窒素ガス流通下で800℃に加温して8
時間反応させた。得られた反応物の赤外吸収スペ
クトルを調べた結果、下記のような水酸基を2
個、アクリロイル基を2個もつ多官能アクリレー
トが生成していることを確認した。
部分ケン化ポリ酢酸ビニルとして、ケン化度80
モル%、重合度500のものを選んだ。この部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニル100重量部をエタノール/水
=50/50重量比)の混合溶媒中に80℃で加熱溶解
した。ついで、先にプロピレングリコールジグリ
シジルエーテルとアクリル酸の付加反応で得られ
た2官能性アクリレートを60重量部、ジエチレン
グリコールを30重量部、光増感剤としてジメチル
ベンジルケタールを2重量部、熱重合禁止剤とし
てハイドロキノンを0.01重量部添加して十分に撹
拌混合した。
モル%、重合度500のものを選んだ。この部分ケ
ン化ポリ酢酸ビニル100重量部をエタノール/水
=50/50重量比)の混合溶媒中に80℃で加熱溶解
した。ついで、先にプロピレングリコールジグリ
シジルエーテルとアクリル酸の付加反応で得られ
た2官能性アクリレートを60重量部、ジエチレン
グリコールを30重量部、光増感剤としてジメチル
ベンジルケタールを2重量部、熱重合禁止剤とし
てハイドロキノンを0.01重量部添加して十分に撹
拌混合した。
このようにして得られた感光性樹脂組成物溶液
を、あらかじめポリエステル系接着剤を塗布して
ある厚さ150μのポリエステルフイルム上に乾燥
後の厚さが基板を含めて950μとなるように流延
した。ついで、60℃の熱風オーブン中に5時間入
れて溶媒を完全に除去した。得られた感光層は透
明でかつ版面にモノマのしみ出しなどは認められ
なかつた。
を、あらかじめポリエステル系接着剤を塗布して
ある厚さ150μのポリエステルフイルム上に乾燥
後の厚さが基板を含めて950μとなるように流延
した。ついで、60℃の熱風オーブン中に5時間入
れて溶媒を完全に除去した。得られた感光層は透
明でかつ版面にモノマのしみ出しなどは認められ
なかつた。
このようにして得られた感光層の表面に水/エ
タノール=50/50(重量比)の溶媒を薄く塗布し
て100μの厚さのポリエステルフイルムを圧着し
てカバーフイルムを装着した。この版材を10日間
暗所に保存した。
タノール=50/50(重量比)の溶媒を薄く塗布し
て100μの厚さのポリエステルフイルムを圧着し
てカバーフイルムを装着した。この版材を10日間
暗所に保存した。
版材のカバーフイルムをハク離し、感光層上に
感度測定用グレイスケールネガフイルム
(Stouffer社製 21 Steps Sensitivity Guide)お
よび画像再現性評価用ネガフイルム(133線、3
%、5%、10%網点、直径200μおよび300μ独立
点、幅50μおよび70μ細線部あり)を真空密着さ
せ、高圧水銀灯で2分間露光した。
感度測定用グレイスケールネガフイルム
(Stouffer社製 21 Steps Sensitivity Guide)お
よび画像再現性評価用ネガフイルム(133線、3
%、5%、10%網点、直径200μおよび300μ独立
点、幅50μおよび70μ細線部あり)を真空密着さ
せ、高圧水銀灯で2分間露光した。
露光終了後、中性水を入れたブラシ式洗い出し
機(液温30℃)で現像を行なつた。現像時間2分
間で非画線部が完全に水中に溶出し、レリーフ像
を得ることができた。
機(液温30℃)で現像を行なつた。現像時間2分
間で非画線部が完全に水中に溶出し、レリーフ像
を得ることができた。
得られたレリーフを評価した結果、グレイスケ
ール部は16ステツプまで残つており高感度である
ことがわかつた。画線部は3%網点、200μ独立
点、50μ細線など微細な部分まで完全に再現して
いることが確認された。刷版の硬度はシヨアD60
であつた。
ール部は16ステツプまで残つており高感度である
ことがわかつた。画線部は3%網点、200μ独立
点、50μ細線など微細な部分まで完全に再現して
いることが確認された。刷版の硬度はシヨアD60
であつた。
このようにして得られた版材で印刷テストを行
なつたところ、画線の太りもなくシヤープな刷り
上がり印刷物が得られた。
なつたところ、画線の太りもなくシヤープな刷り
上がり印刷物が得られた。
実施例 2
エチレングリコールジグリシジルエーテル1モ
ルとメタクリル酸2モルと、トリエチルベンジル
アンモニウムクロライド2重量%、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル0.1重量%を3ツ口フラス
コに入れて80℃で6時間反応させた。得られた反
応物の赤外吸収スペクトルから下記の構造をもつ
不飽和基と水酸基を各2個有する多官能メタクリ
レートが生成していることがわかつた。
ルとメタクリル酸2モルと、トリエチルベンジル
アンモニウムクロライド2重量%、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル0.1重量%を3ツ口フラス
コに入れて80℃で6時間反応させた。得られた反
応物の赤外吸収スペクトルから下記の構造をもつ
不飽和基と水酸基を各2個有する多官能メタクリ
レートが生成していることがわかつた。
ケン化ポリ酢酸ビニルとして、ケン化度71モル
%、重合度600のものを選んだ。この部分ケン化
ポリ酢酸ビニル100重量部を水/エタノール=
40/60(重量比)の混合溶剤に90℃で溶解した。
ついで、先にエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル1モルとメタクリル酸2モルの反応で得ら
れた2官能メタクリレート75重量部、トリメチロ
ールプロパン23重量部、光増感剤ジメチルベンジ
ルケタール2重量部、熱重合禁止剤ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル0.1重量部を添加して十分
に撹拌混合した。
%、重合度600のものを選んだ。この部分ケン化
ポリ酢酸ビニル100重量部を水/エタノール=
40/60(重量比)の混合溶剤に90℃で溶解した。
ついで、先にエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル1モルとメタクリル酸2モルの反応で得ら
れた2官能メタクリレート75重量部、トリメチロ
ールプロパン23重量部、光増感剤ジメチルベンジ
ルケタール2重量部、熱重合禁止剤ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル0.1重量部を添加して十分
に撹拌混合した。
このようにして得られた感光性樹脂溶液をエポ
キシ系接着剤を塗布してある厚さ250μのスチー
ルベースの上に、乾燥後の厚さが700μ(スチール
ベースを含む)となるように流延した。これを60
℃のオーブンに4時間入れて溶媒を完全に除去し
た。
キシ系接着剤を塗布してある厚さ250μのスチー
ルベースの上に、乾燥後の厚さが700μ(スチール
ベースを含む)となるように流延した。これを60
℃のオーブンに4時間入れて溶媒を完全に除去し
た。
この版材を5日間暗所に保存した後に、実施例
1と同じテスト用ネガフイルムを感光層に真空密
着させ、ケミカル灯で7分間露光した。ついで、
中性水の入つたスプレ式現像機(液温35℃、圧力
3Kg/cm2)で現像した。4分間で非画線部が完全
に溶出してレリーフ像が得られた。
1と同じテスト用ネガフイルムを感光層に真空密
着させ、ケミカル灯で7分間露光した。ついで、
中性水の入つたスプレ式現像機(液温35℃、圧力
3Kg/cm2)で現像した。4分間で非画線部が完全
に溶出してレリーフ像が得られた。
得られたレリーフについて評価したところ、グ
レイスケールは16ステツプまで残つており高感度
であることがわかつた。画像は3%網点、200μ
独立点、50μ細線が再現していることがわかつ
た。刷版硬度はシヨアD55であり、柔軟性を有す
る刷版が得られた。
レイスケールは16ステツプまで残つており高感度
であることがわかつた。画像は3%網点、200μ
独立点、50μ細線が再現していることがわかつ
た。刷版硬度はシヨアD55であり、柔軟性を有す
る刷版が得られた。
実施例 3
グリシジルメタクリレート1モルとメタクリル
酸1モル、トリフエニルフオスフイン1重量%、
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.1重量%を
3ツ口フラスコに仕込み、80℃で9時間反応させ
た。反応物の赤外吸収スペクトルから下記のよう
な、2個の不飽和基と1個の水酸基を有する多官
能メタクリレートが生成していることがわかつ
た。
酸1モル、トリフエニルフオスフイン1重量%、
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.1重量%を
3ツ口フラスコに仕込み、80℃で9時間反応させ
た。反応物の赤外吸収スペクトルから下記のよう
な、2個の不飽和基と1個の水酸基を有する多官
能メタクリレートが生成していることがわかつ
た。
部分ケン化ポリ酢酸ビニルとしてケン化度90モ
ル%、重合度800のものを選んだ。この部分ケン
化ポリ酢酸ビニル100重量部を水/エタノール=
60/40(重量比)の混合溶媒中に70℃で溶解した。
ついで、先にグリシジルメタクリレートとメタク
リル酸の付加反応で得られた2官能メタクリレー
ト90重量部、エチレングリコール10重量部、ベン
ゾフエノン5重量部を添加して十分に撹拌混合し
た。
ル%、重合度800のものを選んだ。この部分ケン
化ポリ酢酸ビニル100重量部を水/エタノール=
60/40(重量比)の混合溶媒中に70℃で溶解した。
ついで、先にグリシジルメタクリレートとメタク
リル酸の付加反応で得られた2官能メタクリレー
ト90重量部、エチレングリコール10重量部、ベン
ゾフエノン5重量部を添加して十分に撹拌混合し
た。
このようにして得られた感光性樹脂溶液をエポ
キシ系接着剤をあらかじめ塗布してある厚さ
350μのアルミニウム基板上に乾燥後の厚さが
700μ(基板を含む)になるように流延した。これ
を60℃のオーブンに2時間入れて溶媒を完全に除
去した。
キシ系接着剤をあらかじめ塗布してある厚さ
350μのアルミニウム基板上に乾燥後の厚さが
700μ(基板を含む)になるように流延した。これ
を60℃のオーブンに2時間入れて溶媒を完全に除
去した。
得られた版材を3日間暗所に保存した後に、実
施例1と同じテストネガフイルムを感光層に真空
密着させ、高圧水銀灯で1分間露光した。つい
で、実施例2と同じスプレ式現像機で3分間現像
してレリーフ像を得た。
施例1と同じテストネガフイルムを感光層に真空
密着させ、高圧水銀灯で1分間露光した。つい
で、実施例2と同じスプレ式現像機で3分間現像
してレリーフ像を得た。
得られたレーリフ像を評価した結果、グレイス
ケール部は15ステツプまで残つていた。画像は3
%網点、200μ独立点、50μ細線とも問題なく再現
していることを確認した。刷版硬度はシヨアD72
であつた。
ケール部は15ステツプまで残つていた。画像は3
%網点、200μ独立点、50μ細線とも問題なく再現
していることを確認した。刷版硬度はシヨアD72
であつた。
この刷版で印刷テストを行なつたが、画線の太
りもなく非常にシヤープの印刷物が得られた。ま
た、印刷中に刷版にクラツクが入るなどのトラブ
ルも全く発生しなかつた。
りもなく非常にシヤープの印刷物が得られた。ま
た、印刷中に刷版にクラツクが入るなどのトラブ
ルも全く発生しなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記のA、BおよびC成分から成ることを特
徴とする感光性樹脂組成物。 A ケン化度60〜99モル%の部分ケン化ポリ酢酸
ビニル 100重量部 B 下記の(a)、(b)および(c)の群から選ばれた分子
量2000以下で、同一分子中に2個以上の(メ
タ)アクリロイル基を有し、同時に(メタ)ア
クリロイル基の数を越えない数の水酸基を有す
る多官能(メタ)アクリレート 10〜300重量部 (a) 多価グリシジルエーテルと(メタ)アクリ
ル酸との付加物、 (b) 多価グリシジルエーテルと2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレートとの付加物、 (c) グリシジル(メタ)アクリレートと飽和ま
たは不飽和カルボン酸、アルコール、第1級
または第2級アミンとの付加物 C グリセリン、アルキレングリコール類および
ポリアルキレングリコール類の群から選ばれた
分子量1000以下で、かつ沸点150℃以上の分子
中に水酸基を有する飽和化合物 1〜60重量部。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP953982A JPS58127922A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 感光性樹脂組成物 |
| DE8282306513T DE3274156D1 (en) | 1981-12-10 | 1982-12-07 | Photosensitive polymer composition |
| EP82306513A EP0081964B2 (en) | 1981-12-10 | 1982-12-07 | Photosensitive polymer composition |
| US06/719,636 US4621044A (en) | 1981-12-10 | 1985-04-04 | Photosensitive polymer composition |
| US07/135,530 US4828963A (en) | 1981-12-10 | 1987-12-17 | Printing plate having photosensitive polymer composition |
| US07/316,410 US5023165A (en) | 1981-12-10 | 1989-02-27 | Printing plate having photosensitive polymer composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP953982A JPS58127922A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58127922A JPS58127922A (ja) | 1983-07-30 |
| JPH0363736B2 true JPH0363736B2 (ja) | 1991-10-02 |
Family
ID=11723068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP953982A Granted JPS58127922A (ja) | 1981-12-10 | 1982-01-26 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58127922A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61103150A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-21 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
| JP2726072B2 (ja) * | 1988-12-15 | 1998-03-11 | ダイセル化学工業株式会社 | 光重合性組成物 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE795857A (fr) * | 1972-02-24 | 1973-08-23 | Nippon Paint Co Ltd | Procede de productions de plaques d'impression photopolymeres et produits obtenus |
| JPS49121847A (ja) * | 1973-03-27 | 1974-11-21 | ||
| JPS505104A (ja) * | 1973-05-16 | 1975-01-20 | ||
| JPS5917414B2 (ja) * | 1975-10-07 | 1984-04-21 | 村上スクリ−ン (株) | スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜 |
| JPS5749105A (en) * | 1980-09-05 | 1982-03-20 | Nippon Electric Co | Insulating paste composition |
| JPS5796322A (en) * | 1980-12-09 | 1982-06-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Film winding device of camera |
-
1982
- 1982-01-26 JP JP953982A patent/JPS58127922A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58127922A (ja) | 1983-07-30 |
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