JPH0366008A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0366008A JPH0366008A JP20323489A JP20323489A JPH0366008A JP H0366008 A JPH0366008 A JP H0366008A JP 20323489 A JP20323489 A JP 20323489A JP 20323489 A JP20323489 A JP 20323489A JP H0366008 A JPH0366008 A JP H0366008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- gap
- magnetic material
- magnetic
- chromium nitride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば、高密度磁気記録再生を可能としたＭ
Ｉ Ｇ （Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッ
ドに関するものである。
Ｉ Ｇ （Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッ
ドに関するものである。
従来より、高透磁率を有し耐摩耗性等に優れたフェライ
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
ＭＩＧ型の磁気ヘッドが知られている。この種の磁気ヘ
ッドは、コア本体に酸化物磁性材料が使用されており、
さらにギャップの近傍が合金磁性材料により形成された
ものである。
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
ＭＩＧ型の磁気ヘッドが知られている。この種の磁気ヘ
ッドは、コア本体に酸化物磁性材料が使用されており、
さらにギャップの近傍が合金磁性材料により形成された
ものである。
このような磁気ヘッドの製造方法においては、第３図（
ａ）に示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方の
ブロック２１に外部巻線用溝２３とガラス充填用溝２４
と内部巻線用溝２５とを形成するとともに、同図（ｂ）
に示すように、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方
のブロック２２に外部巻線用溝２３とガラス充填用溝２
４とを形成する０次に、ブロック２１・２２における各
々のギャップ対向面２６とテープ摺動面２７とを鏡面状
に研磨した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示すように、
所定のギャップトラック幅を得るためのトラック溝２８
・・・を形成する。続いて、ギャツブ対向面２６の表層
付近の加工変質層をエツチングにより除去した後、同図
（ｅ）ないしくｇ）に示すように、ブロック２１・２２
におけるそれぞれのギャップ対向面２６の面上、ならび
にガラス充填用溝２４、内部巻線用溝２５およびトラッ
ク溝２８・・・の内面上に、高透磁率および高飽和磁束
密度を有する合金磁性材料薄膜２９をスパッタリング法
等により形成する。さらに、合金磁性材料薄膜２９上に
おけるギヤツブ形成部位にギャップ材としてＳｉｎｇ等
の非磁性材料を約０．３μｍの厚みで形成した後、同図
（ｈ）に示すように、上記のブロック２１・２２同士を
各々のギャップ対向面２６・２６で突き合わせた状態で
貼り合わせ、ガラス充填用溝２４および内部巻線用溝２
５により、それぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス３
０を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得ら
れたヘッドブロックのテープ摺動面２７に、同図（ｉ）
に示すように、所定の曲率で曲面を形成した後、仮想線
ｂ・・・に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示
すヘッドチップ３１を得る。
ａ）に示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方の
ブロック２１に外部巻線用溝２３とガラス充填用溝２４
と内部巻線用溝２５とを形成するとともに、同図（ｂ）
に示すように、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方
のブロック２２に外部巻線用溝２３とガラス充填用溝２
４とを形成する０次に、ブロック２１・２２における各
々のギャップ対向面２６とテープ摺動面２７とを鏡面状
に研磨した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示すように、
所定のギャップトラック幅を得るためのトラック溝２８
・・・を形成する。続いて、ギャツブ対向面２６の表層
付近の加工変質層をエツチングにより除去した後、同図
（ｅ）ないしくｇ）に示すように、ブロック２１・２２
におけるそれぞれのギャップ対向面２６の面上、ならび
にガラス充填用溝２４、内部巻線用溝２５およびトラッ
ク溝２８・・・の内面上に、高透磁率および高飽和磁束
密度を有する合金磁性材料薄膜２９をスパッタリング法
等により形成する。さらに、合金磁性材料薄膜２９上に
おけるギヤツブ形成部位にギャップ材としてＳｉｎｇ等
の非磁性材料を約０．３μｍの厚みで形成した後、同図
（ｈ）に示すように、上記のブロック２１・２２同士を
各々のギャップ対向面２６・２６で突き合わせた状態で
貼り合わせ、ガラス充填用溝２４および内部巻線用溝２
５により、それぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス３
０を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得ら
れたヘッドブロックのテープ摺動面２７に、同図（ｉ）
に示すように、所定の曲率で曲面を形成した後、仮想線
ｂ・・・に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示
すヘッドチップ３１を得る。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記従来の磁気ヘッドでは、酸化物磁性材料
であるブロック２１・２２の各々のギャップ対向面２６
と合金磁性材料薄膜２９との境界面がギャップに対し平
行であるため、第４図に示すように、再生出力−周波数
特性に生じるうねりが約３ｄＢにも達する。これは、酸
化物磁性材料と合金磁性材料との磁気特性の相違や、境
界面において形成された酸素等の拡散による反応層や前
記の加工変質層の不完全除去部分等が疑似ギャップとし
て作用する、いわゆる形状効果のためと考えられる。な
お、上記の第４図において、磁気記録媒体と磁気ヘッド
との相対速度は５．８ｍ／ｓｅｅ。
であるブロック２１・２２の各々のギャップ対向面２６
と合金磁性材料薄膜２９との境界面がギャップに対し平
行であるため、第４図に示すように、再生出力−周波数
特性に生じるうねりが約３ｄＢにも達する。これは、酸
化物磁性材料と合金磁性材料との磁気特性の相違や、境
界面において形成された酸素等の拡散による反応層や前
記の加工変質層の不完全除去部分等が疑似ギャップとし
て作用する、いわゆる形状効果のためと考えられる。な
お、上記の第４図において、磁気記録媒体と磁気ヘッド
との相対速度は５．８ｍ／ｓｅｅ。
、磁気記録媒体としては保磁力９００エルステツドのも
のを用いている。
のを用いている。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなるコ
アのギャップ対向面側でギャップに対し平行に形成され
ている磁気ヘッドにおいて、上記コアのギャップ対向面
上と合金磁性材料薄膜との間に非晶質の窒化クロム膜が
形成されていることを特徴としている。
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなるコ
アのギャップ対向面側でギャップに対し平行に形成され
ている磁気ヘッドにおいて、上記コアのギャップ対向面
上と合金磁性材料薄膜との間に非晶質の窒化クロム膜が
形成されていることを特徴としている。
上記の構成によれば、窒化クロムは、熱的に安定してい
るため、製造工程における加熱によっても変質しないう
え、結晶粒を持たない非晶質に形成されるので、耐拡散
材として機能し、コアと合金磁性材料との間で発生する
粒界拡散を防止することができる。また、非晶質の窒化
クロムは活性であるため、表面に不動態を形成しやすく
、これにより拡散防止効果が顕著に現れる。
るため、製造工程における加熱によっても変質しないう
え、結晶粒を持たない非晶質に形成されるので、耐拡散
材として機能し、コアと合金磁性材料との間で発生する
粒界拡散を防止することができる。また、非晶質の窒化
クロムは活性であるため、表面に不動態を形成しやすく
、これにより拡散防止効果が顕著に現れる。
それゆえ、このような非晶質の窒化クロムをコアのギャ
ップ対向面上と合金磁性材料薄膜との間に非晶質の窒化
クロム層が形成されることにより、コアと合金磁性材料
薄膜との界面付近で生じる酸素等の相互拡散を抑制して
、軟磁気特性の劣化を防止することができる。従って、
軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャップとして作
用することがなくなるため、形状効果を抑制して再生出
力−周波数特性におけるうねりを低減することができる
。
ップ対向面上と合金磁性材料薄膜との間に非晶質の窒化
クロム層が形成されることにより、コアと合金磁性材料
薄膜との界面付近で生じる酸素等の相互拡散を抑制して
、軟磁気特性の劣化を防止することができる。従って、
軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャップとして作
用することがなくなるため、形状効果を抑制して再生出
力−周波数特性におけるうねりを低減することができる
。
本発明の一実施例を第１図ないし第２図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
本発明に係る磁気ヘッドにおいて、第１図（ｊ）に示す
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなるコア
ト２におけるギャップ対向面３・３の各々には、所定幅
を有し、かつギャップに対し平行な面を有する突出部３
ａ・３ａが形成されている。この突出部３ａ・３ａを含
むギャップ対向面３・３上には、１０〜２００人の厚み
で非晶質の窒化クロム膜４が形成されており、この窒化
クロム膜４を介してギャップ対向面３上には、２〜６μ
ｍの厚みで高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金
磁性材料薄膜５が形成されている。そして、これら窒化
クロム膜４および合金磁性材料薄膜５が形成されたコア
ト２同士は、その突出部３ａ・３ａの間にギャップ材と
して厚みが約０．３μｍの５ｉＯｚ等の非磁性材料を介
装した状態でギャップ対向面３・３を互いに突き合わせ
て溶融ガラス６にて固着されている。
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなるコア
ト２におけるギャップ対向面３・３の各々には、所定幅
を有し、かつギャップに対し平行な面を有する突出部３
ａ・３ａが形成されている。この突出部３ａ・３ａを含
むギャップ対向面３・３上には、１０〜２００人の厚み
で非晶質の窒化クロム膜４が形成されており、この窒化
クロム膜４を介してギャップ対向面３上には、２〜６μ
ｍの厚みで高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金
磁性材料薄膜５が形成されている。そして、これら窒化
クロム膜４および合金磁性材料薄膜５が形成されたコア
ト２同士は、その突出部３ａ・３ａの間にギャップ材と
して厚みが約０．３μｍの５ｉＯｚ等の非磁性材料を介
装した状態でギャップ対向面３・３を互いに突き合わせ
て溶融ガラス６にて固着されている。
上記のように構成された磁気ヘッドを製造するには、ま
ず、同図（ａ）に示すように、上記コア１となる酸化物
磁性材料の一方のブロック１′に外部巻線用溝７とガラ
ス充填用溝８と内部巻線用溝９とを形成するとともに、
同図（ｂ）に示すように、上記コア２となる酸化物磁性
材料の一方のブロック２′に外部巻線用溝７とガラス充
填用溝８とを形成する。次に、ブロック１′ ・２′に
おけるそれぞれのギャップ対向面３とテープ摺動面１０
を鏡面状に研磨した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示す
ように、所定のギャップトラック幅を確保するためのト
ラック溝１１・・・を形成する。続いて、ギャップ対向
面３の表層付近の加工変質層をエツチングにより除去し
た後同図（ｅ）ないしくｇ）に示すように、ブロック１
′ ・２′におけるそれぞれのギャップ対向面３の面上
、ならびにガラス充填用溝８、内部巻線用溝９およびト
ラック溝１１・・・の内面上にギャップ対向面３上に、
窒化クロム膜４を窒素ガスとアルゴンガスとの混合ガス
を用いる反応性スパッタリング法等により１０〜２００
人の厚みで形成する。
ず、同図（ａ）に示すように、上記コア１となる酸化物
磁性材料の一方のブロック１′に外部巻線用溝７とガラ
ス充填用溝８と内部巻線用溝９とを形成するとともに、
同図（ｂ）に示すように、上記コア２となる酸化物磁性
材料の一方のブロック２′に外部巻線用溝７とガラス充
填用溝８とを形成する。次に、ブロック１′ ・２′に
おけるそれぞれのギャップ対向面３とテープ摺動面１０
を鏡面状に研磨した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示す
ように、所定のギャップトラック幅を確保するためのト
ラック溝１１・・・を形成する。続いて、ギャップ対向
面３の表層付近の加工変質層をエツチングにより除去し
た後同図（ｅ）ないしくｇ）に示すように、ブロック１
′ ・２′におけるそれぞれのギャップ対向面３の面上
、ならびにガラス充填用溝８、内部巻線用溝９およびト
ラック溝１１・・・の内面上にギャップ対向面３上に、
窒化クロム膜４を窒素ガスとアルゴンガスとの混合ガス
を用いる反応性スパッタリング法等により１０〜２００
人の厚みで形成する。
ここで、窒化クロム膜４の膜厚が１０人よりも薄いと、
窒化クロム膜４が不連続となって島状に形成されるため
、形状効果抑制の機能が発揮されない、一方、窒化クロ
ム膜４の膜厚が２００人よりも厚いと、窒化クロム膜４
がギャップ層として作用する。従って、窒化クロム膜４
の膜厚は、前述のとうり１０〜２００人程度が好適であ
る。なお、窒化クロム膜４は、１０〜２００人の厚みの
範囲内であれば、膜厚が薄いほど形状効果抑制の機能が
顕著となる。また、窒化クロム膜４形戒時においては、
基板（被成膜面）温度を３００℃以上にすると、窒化ク
ロム膜４が結晶質となり拡散防止効果の機能が低減する
ため、窒化クロム膜４を非晶質とするには、基板温度を
３００°Ｃ以下に制御する必要がある。
窒化クロム膜４が不連続となって島状に形成されるため
、形状効果抑制の機能が発揮されない、一方、窒化クロ
ム膜４の膜厚が２００人よりも厚いと、窒化クロム膜４
がギャップ層として作用する。従って、窒化クロム膜４
の膜厚は、前述のとうり１０〜２００人程度が好適であ
る。なお、窒化クロム膜４は、１０〜２００人の厚みの
範囲内であれば、膜厚が薄いほど形状効果抑制の機能が
顕著となる。また、窒化クロム膜４形戒時においては、
基板（被成膜面）温度を３００℃以上にすると、窒化ク
ロム膜４が結晶質となり拡散防止効果の機能が低減する
ため、窒化クロム膜４を非晶質とするには、基板温度を
３００°Ｃ以下に制御する必要がある。
窒化クロム膜４の形成後、合金磁性材料薄膜５を窒化ク
ロム膜４上にスパッタリング法等により２〜６μｍの厚
みで形成する。次に、合金磁性材料薄膜５状におけるギ
ャップ形成部位にギャップ材として５ｉＯｚ等の非磁性
材料を約０．３μｍの厚みで形成する。続いて、同図（
ｈ）に示すように、上記のブロック１′ ・２′同士を
各々のギャップ対向面３・３を突き合わせて貼り合わせ
、ガラス充填用溝８および内部巻線用溝９によりそれぞ
れ形成される空洞部位に溶融ガラス６を配置し加熱溶着
する。そして、このようにして得られたヘッドブロック
におけるテープ摺動面１０に、同図（ｉ）に示すように
、所定の曲率で曲面を形成した後、仮想線ａ・・・に沿
って切断することにより、同図（ｊ）に示すヘッドチッ
プが得られる。
ロム膜４上にスパッタリング法等により２〜６μｍの厚
みで形成する。次に、合金磁性材料薄膜５状におけるギ
ャップ形成部位にギャップ材として５ｉＯｚ等の非磁性
材料を約０．３μｍの厚みで形成する。続いて、同図（
ｈ）に示すように、上記のブロック１′ ・２′同士を
各々のギャップ対向面３・３を突き合わせて貼り合わせ
、ガラス充填用溝８および内部巻線用溝９によりそれぞ
れ形成される空洞部位に溶融ガラス６を配置し加熱溶着
する。そして、このようにして得られたヘッドブロック
におけるテープ摺動面１０に、同図（ｉ）に示すように
、所定の曲率で曲面を形成した後、仮想線ａ・・・に沿
って切断することにより、同図（ｊ）に示すヘッドチッ
プが得られる。
このように、上記の製造工程は、従来とギャップ対向面
３上に非晶質の窒化クロム膜４を形成する点が異なるだ
けで、他は同様であるので、磁気ヘッドの量産性や均一
性は従来とほぼ同様に維持され、磁気ヘッドの低価格化
も可能である。また、上記の磁気ヘッドによれば、合金
磁性材料薄膜５とコアト２間の酸素等の相互拡散を抑制
することができ、コアト２と合金磁性材料薄膜５との境
界面付近でのコアト２および合金磁性材料薄膜５の軟磁
気特性の劣化を防止することができる。それゆえ、形状
効果を抑制して再生出力−周波数特性におけるうねりを
低減させることができる。
３上に非晶質の窒化クロム膜４を形成する点が異なるだ
けで、他は同様であるので、磁気ヘッドの量産性や均一
性は従来とほぼ同様に維持され、磁気ヘッドの低価格化
も可能である。また、上記の磁気ヘッドによれば、合金
磁性材料薄膜５とコアト２間の酸素等の相互拡散を抑制
することができ、コアト２と合金磁性材料薄膜５との境
界面付近でのコアト２および合金磁性材料薄膜５の軟磁
気特性の劣化を防止することができる。それゆえ、形状
効果を抑制して再生出力−周波数特性におけるうねりを
低減させることができる。
ここで、第２図に示す磁気ヘッドにおける再生出力−周
波数特性からも明らかなように、うねりが０．３ ｄ
Ｂの範囲内に低減され、再生信号の品質を著しく向上さ
せることができた。なお、この特性試験においては、磁
気ヘッドとして、窒素ガス２０％、アルゴンガス８０％
の混合ガス中で反応スパッタリング法により厚み５０人
の窒化クロム膜４を形成した後に、合金磁性材料薄膜５
としてセンダスト合金薄膜を４μｍの厚みで形成して得
られたものを用いるとともに、および記録媒体として、
保磁力９００エルステツドのものを用いており、磁気ヘ
ッドとの相対速度が５．８ｍ／ｓｅｃ、に設定されてい
る。
波数特性からも明らかなように、うねりが０．３ ｄ
Ｂの範囲内に低減され、再生信号の品質を著しく向上さ
せることができた。なお、この特性試験においては、磁
気ヘッドとして、窒素ガス２０％、アルゴンガス８０％
の混合ガス中で反応スパッタリング法により厚み５０人
の窒化クロム膜４を形成した後に、合金磁性材料薄膜５
としてセンダスト合金薄膜を４μｍの厚みで形成して得
られたものを用いるとともに、および記録媒体として、
保磁力９００エルステツドのものを用いており、磁気ヘ
ッドとの相対速度が５．８ｍ／ｓｅｃ、に設定されてい
る。
本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、高透磁率お
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料からなるコアのギャップ対
向面側でギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッ
ドにおいて、上記コアのギャップ対向面上と合金磁性材
料薄膜との間に非晶質の窒化クロム膜が形成されている
構成である。
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料からなるコアのギャップ対
向面側でギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッ
ドにおいて、上記コアのギャップ対向面上と合金磁性材
料薄膜との間に非晶質の窒化クロム膜が形成されている
構成である。
これにより、合金磁性材料薄膜とコアとの界面付近で生
じる酸素等の相互拡散を抑制して、軟磁気特性の劣化を
防止することができ、いわゆる形状効果を抑制すること
ができる。従って、再生出力−周波数特性におけるうね
りを低減して、再生信号の品質を著しく向上させること
ができるという効果を奏する。
じる酸素等の相互拡散を抑制して、軟磁気特性の劣化を
防止することができ、いわゆる形状効果を抑制すること
ができる。従って、再生出力−周波数特性におけるうね
りを低減して、再生信号の品質を著しく向上させること
ができるという効果を奏する。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図は（ａ）ないしくｆ）および（ｈ）ないしくｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
である。 第１図は（ｇ）は第１図（ｆ）における要部の縦断面図
である。 第２図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性を示
すグラフである。 第３図および第４図は従来例を示すものである。 第３図（ａ）ないしくｆ）および（ｈ）ないしＮ）はそ
れぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図であ
る。 第３図（ｇ）は第３図（ｆ）における要部の縦断面図で
ある。 第４図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性を示
すグラフである。 １・２はコア、１′ ・２′はブロック、３はギャップ
対向面、４は窒化クロム膜、５は合金磁性材料薄膜、６
は溶融ガラスである。 第 １ 国（ｈ） 第 円型数 （ＭＨｚ ） 第 ３ 図 （ａ） 第３図（Ｃ） ６ 笛 閃 （ｂ） 第 図（ｄ） 第 ３ 図（ｈ） 第 図 周一／ＩＮ、数 （Ｍ日２）
る。 第１図は（ａ）ないしくｆ）および（ｈ）ないしくｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
である。 第１図は（ｇ）は第１図（ｆ）における要部の縦断面図
である。 第２図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性を示
すグラフである。 第３図および第４図は従来例を示すものである。 第３図（ａ）ないしくｆ）および（ｈ）ないしＮ）はそ
れぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図であ
る。 第３図（ｇ）は第３図（ｆ）における要部の縦断面図で
ある。 第４図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性を示
すグラフである。 １・２はコア、１′ ・２′はブロック、３はギャップ
対向面、４は窒化クロム膜、５は合金磁性材料薄膜、６
は溶融ガラスである。 第 １ 国（ｈ） 第 円型数 （ＭＨｚ ） 第 ３ 図 （ａ） 第３図（Ｃ） ６ 笛 閃 （ｂ） 第 図（ｄ） 第 ３ 図（ｈ） 第 図 周一／ＩＮ、数 （Ｍ日２）
Claims (1)
- １、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料からなるコ
アのギャップ対向面側でギャップに対し平行に形成され
ている磁気ヘッドにおいて、上記コアのギャップ対向面
上と合金磁性材料薄膜との間に非晶質の窒化クロム膜が
形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20323489A JPH0366008A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20323489A JPH0366008A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0366008A true JPH0366008A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16470668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20323489A Pending JPH0366008A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0366008A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6454942B1 (en) | 1999-06-08 | 2002-09-24 | Nitto Denko Corporation | Liquid separation membrane module |
| KR20170084010A (ko) | 2014-11-13 | 2017-07-19 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 스파이럴형 막 엘리먼트용 투과측 유로재, 및 그 제조 방법 |
-
1989
- 1989-08-04 JP JP20323489A patent/JPH0366008A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6454942B1 (en) | 1999-06-08 | 2002-09-24 | Nitto Denko Corporation | Liquid separation membrane module |
| KR20170084010A (ko) | 2014-11-13 | 2017-07-19 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 스파이럴형 막 엘리먼트용 투과측 유로재, 및 그 제조 방법 |
| US10874993B2 (en) | 2014-11-13 | 2020-12-29 | Nitto Denko Corporation | Permeation side flow path material for spiral membrane element and method for manufacturing same |
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