JPH02235210A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH02235210A JPH02235210A JP5435189A JP5435189A JPH02235210A JP H02235210 A JPH02235210 A JP H02235210A JP 5435189 A JP5435189 A JP 5435189A JP 5435189 A JP5435189 A JP 5435189A JP H02235210 A JPH02235210 A JP H02235210A
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- Japan
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- magnetic material
- gap
- magnetic
- magnetic head
- thin film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度磁気記録再生を可能としたＭＩＧ（Ｍ
ｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ＞型の磁気ヘッドに関する
ものである。
ｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ＞型の磁気ヘッドに関する
ものである。
従来より、高透磁率を有し耐摩耗性等に優れたフエライ
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
ＭＩＧ型の磁気ヘッドが知られている。この磁気ヘッド
は、コア本体に酸化物磁性材料を使用すると共に、ギャ
ップの近傍を酸化物磁性材料で形成したものである。
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
ＭＩＧ型の磁気ヘッドが知られている。この磁気ヘッド
は、コア本体に酸化物磁性材料を使用すると共に、ギャ
ップの近傍を酸化物磁性材料で形成したものである。
このような磁気ヘッドを製造するには、第３図（ａ）に
示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロッ
ク１１に外部巻線用溝１３とガラス充填用溝ｌ４と内部
巻線用溝１５とを形成すると共に、同図（ｂ）に示すよ
うに、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロッ
ク１２に外部巻線用溝ｌ３とガラス充填用溝１４とを形
成する．そして、ブロック１１・１２における各々のギ
ャップ対向面１６とテーブ摺動面１７とを鏡面状に研磨
した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示すように、所定の
ギャップトラック幅を得るための溝（トラック溝）１８
・・・を形成する．次いで、ギャップ対向面１６の表層
付近の加工変質層をエッチングにより除去した後、同図
（ｅ）（ｆ）（ｇ）に示すように、ブロック１１・１２
におけるそれぞれのギャップ対向面１６上に高透磁率お
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜１９をス
パッタリング法等により形成する。次いで、合金磁性材
料薄膜１９上におけるギャップ形成部位にギャップ材と
してＳｉＯｚ等の非磁性材料を約０．３μｍの厚みで形
成した後、同図（ｈ）に示すように、上記のブロックｌ
１・１２同士を各々のギャップ対向面１６・１６を突き
合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝１４および内部巻
線用溝１５によりそれぞれ形成される空洞部位にガラス
２ｏを配置し加熱溶着する。そして、このようにして得
られた磁気ヘッドブロックにおけるテーブ摺動面１７に
、同図（ｉ）に示すように、曲面を形成した後、仮想線
ｂ・・・に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示
すように、磁気ヘッド２２（まだ巻線の施されていない
段階）を得る．ところが、上記従来の磁気ヘッドでは、
酸化物磁性材料であるブロック１１・１２の各々のギャ
ップ対向面１６と合金磁性材料薄膜１９との境界面がギ
ャップに対し平行であるため、第４図に示すように、再
生出力一周波数特性に生じるうねりが約３ｄＢにもなる
。これは、酸化物磁性材料と合金磁性材料との磁気特性
の相違や、境界面において形成された酸素等の拡散によ
る反応層や前記の変質層の不完全除去部分等が擬似ギャ
ップとして作用する、いわゆる形状効果（コンター効果
）のためと考えられる。なお、上記の第４図において、
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの相対速度は５．１３ｍ／
ｓ ｅ ｃ ， ｖＡ気記録媒体としては保磁力９ｏ
Ｏエルステッドのものを用いている。
示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロッ
ク１１に外部巻線用溝１３とガラス充填用溝ｌ４と内部
巻線用溝１５とを形成すると共に、同図（ｂ）に示すよ
うに、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロッ
ク１２に外部巻線用溝ｌ３とガラス充填用溝１４とを形
成する．そして、ブロック１１・１２における各々のギ
ャップ対向面１６とテーブ摺動面１７とを鏡面状に研磨
した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示すように、所定の
ギャップトラック幅を得るための溝（トラック溝）１８
・・・を形成する．次いで、ギャップ対向面１６の表層
付近の加工変質層をエッチングにより除去した後、同図
（ｅ）（ｆ）（ｇ）に示すように、ブロック１１・１２
におけるそれぞれのギャップ対向面１６上に高透磁率お
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜１９をス
パッタリング法等により形成する。次いで、合金磁性材
料薄膜１９上におけるギャップ形成部位にギャップ材と
してＳｉＯｚ等の非磁性材料を約０．３μｍの厚みで形
成した後、同図（ｈ）に示すように、上記のブロックｌ
１・１２同士を各々のギャップ対向面１６・１６を突き
合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝１４および内部巻
線用溝１５によりそれぞれ形成される空洞部位にガラス
２ｏを配置し加熱溶着する。そして、このようにして得
られた磁気ヘッドブロックにおけるテーブ摺動面１７に
、同図（ｉ）に示すように、曲面を形成した後、仮想線
ｂ・・・に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示
すように、磁気ヘッド２２（まだ巻線の施されていない
段階）を得る．ところが、上記従来の磁気ヘッドでは、
酸化物磁性材料であるブロック１１・１２の各々のギャ
ップ対向面１６と合金磁性材料薄膜１９との境界面がギ
ャップに対し平行であるため、第４図に示すように、再
生出力一周波数特性に生じるうねりが約３ｄＢにもなる
。これは、酸化物磁性材料と合金磁性材料との磁気特性
の相違や、境界面において形成された酸素等の拡散によ
る反応層や前記の変質層の不完全除去部分等が擬似ギャ
ップとして作用する、いわゆる形状効果（コンター効果
）のためと考えられる。なお、上記の第４図において、
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの相対速度は５．１３ｍ／
ｓ ｅ ｃ ， ｖＡ気記録媒体としては保磁力９ｏ
Ｏエルステッドのものを用いている。
かかる問題点を解消するものとして、本願発明の発明者
は、先に、酸化物磁性材料と合金磁性材料との間にクロ
ムを介装してなる磁気ヘッドを提案している．かかる磁
気ヘッドを製造するには、第５図（ａ）（ｂ）（ｃ）（
ｄ）に示すように、前述した磁気ヘッド２２と同様の製
造工程を経た後（加工変質層を除去した後）、同図（ｅ
）（ｆ）（ｇ）に示すように、クロム（Ｃｒ）［９２３
をスパッタリング法等により１０人〜２００人の厚みで
ギャップ対向面ｌ６上に形成する．その後、合金磁性材
料薄膜１９をスパッタリング法等にょり膜厚２〜６μｍ
で上記のクロム膜２３上においてギャップに対し平行に
形成する．そして、合金磁性材料薄膜１９におけるギャ
ップ形成部位にギャップ材としてＳＩＯｔ等の非磁性材
料を約０．３μｍの厚みで形成する。以後の製造工程は
、同図（ｈ）（ｉ）（ｊ）に示すように、前述の磁気ヘ
ッドの製造と同様の加工が行われる。
は、先に、酸化物磁性材料と合金磁性材料との間にクロ
ムを介装してなる磁気ヘッドを提案している．かかる磁
気ヘッドを製造するには、第５図（ａ）（ｂ）（ｃ）（
ｄ）に示すように、前述した磁気ヘッド２２と同様の製
造工程を経た後（加工変質層を除去した後）、同図（ｅ
）（ｆ）（ｇ）に示すように、クロム（Ｃｒ）［９２３
をスパッタリング法等により１０人〜２００人の厚みで
ギャップ対向面ｌ６上に形成する．その後、合金磁性材
料薄膜１９をスパッタリング法等にょり膜厚２〜６μｍ
で上記のクロム膜２３上においてギャップに対し平行に
形成する．そして、合金磁性材料薄膜１９におけるギャ
ップ形成部位にギャップ材としてＳＩＯｔ等の非磁性材
料を約０．３μｍの厚みで形成する。以後の製造工程は
、同図（ｈ）（ｉ）（ｊ）に示すように、前述の磁気ヘ
ッドの製造と同様の加工が行われる。
ところが、このように、酸化物磁性材料であるブロック
１１・１２と合金磁性材料薄膜１９との間にクロム膜２
３を介装した磁気ヘッドといえども、第６図に示すよう
に、再生出力二周波数特性に１ｄＢ程度のうねりが依然
として残り、十分な性能とはいえない。なお、第６図に
おいての諸条件は第４図における諸条件と同様に設定さ
れている． このため、本願発明の発明者は、さらに、合金磁性材料
であるブロック１１・１２と合金磁性材料薄膜１９との
間に窒化クロム膜を介装した磁気ヘッドを提案している
。この磁気ヘッドを製造するには、第７図（ａ）（ｂ）
（ｃ）（ｄ）に示すように、前述した磁気ヘッド２２と
同様の製造工程を経た後、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）に示
すように、窒化クロム膜２４を窒素ガスとアルゴンガス
の混合ガスを用いた反応性スパッタリング等の方法によ
り１０人〜２００人の厚みでギャップ対向面１６上に形
成する。その後、合金磁性材料薄膜ｌ９をスパッタリン
グ法等により膜厚２〜６μｍで上記の窒化クロム２４上
においてギャップに対し平行に形成する。そして、合金
磁性材料薄膜ｌ９におけるギャップ形成部位にギャップ
材としてＳｉｎ，等の非磁性材料を約０．３μｍの厚み
で形成する。以後の製造工程は、同図（ｈ）（ｉ）（ｊ
）に示すように、前述の磁気ヘッドの製造と同様の加工
が行われる。
１１・１２と合金磁性材料薄膜１９との間にクロム膜２
３を介装した磁気ヘッドといえども、第６図に示すよう
に、再生出力二周波数特性に１ｄＢ程度のうねりが依然
として残り、十分な性能とはいえない。なお、第６図に
おいての諸条件は第４図における諸条件と同様に設定さ
れている． このため、本願発明の発明者は、さらに、合金磁性材料
であるブロック１１・１２と合金磁性材料薄膜１９との
間に窒化クロム膜を介装した磁気ヘッドを提案している
。この磁気ヘッドを製造するには、第７図（ａ）（ｂ）
（ｃ）（ｄ）に示すように、前述した磁気ヘッド２２と
同様の製造工程を経た後、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）に示
すように、窒化クロム膜２４を窒素ガスとアルゴンガス
の混合ガスを用いた反応性スパッタリング等の方法によ
り１０人〜２００人の厚みでギャップ対向面１６上に形
成する。その後、合金磁性材料薄膜ｌ９をスパッタリン
グ法等により膜厚２〜６μｍで上記の窒化クロム２４上
においてギャップに対し平行に形成する。そして、合金
磁性材料薄膜ｌ９におけるギャップ形成部位にギャップ
材としてＳｉｎ，等の非磁性材料を約０．３μｍの厚み
で形成する。以後の製造工程は、同図（ｈ）（ｉ）（ｊ
）に示すように、前述の磁気ヘッドの製造と同様の加工
が行われる。
かかる磁気ヘッドによれば、第８図に示すように、ほぼ
２ＭＨｚ以上の高周波数域においては、うねりを０．３
ｄＢ〜０．５ｄＢ程度に抑えることができるものの、２
ＭＩ｛ｚ以下の周波数域においては、１ｄＢ程度のうね
りが依然として残り、十分な性能とはいえず、より一層
の改善が望まれていた。
２ＭＨｚ以上の高周波数域においては、うねりを０．３
ｄＢ〜０．５ｄＢ程度に抑えることができるものの、２
ＭＩ｛ｚ以下の周波数域においては、１ｄＢ程度のうね
りが依然として残り、十分な性能とはいえず、より一層
の改善が望まれていた。
なお、第８図においての諸条件は第４図における諸条件
と同様に設定されている。
と同様に設定されている。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、上記の酸化物磁性材料コアのギャッ
プ対向面上に窒化クロム膜が形成され、且つこの窒化ク
ロム膜と前記合金磁性材料薄膜との間にクロム膜が形成
されていることを特徴としている。
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、上記の酸化物磁性材料コアのギャッ
プ対向面上に窒化クロム膜が形成され、且つこの窒化ク
ロム膜と前記合金磁性材料薄膜との間にクロム膜が形成
されていることを特徴としている。
なお、上記窒化クロム膜とクロム膜との合計膜厚は、２
０人〜２００人の厚みの範囲内に設定されるのが望まし
く、かかる合計の膜厚が薄ければ薄いほど形状効果抑止
の機能が顕著となる。
０人〜２００人の厚みの範囲内に設定されるのが望まし
く、かかる合計の膜厚が薄ければ薄いほど形状効果抑止
の機能が顕著となる。
〔作 用］
上記の構成によれば、ギャップ対向面上に形成された窒
化クロムにより、合金磁性材料薄膜と酸化物磁性材料コ
ア間の酸素等の相互拡散を抑制することができる。この
ため、酸化物磁性材料コアと合金磁性材料薄膜の境界面
付近での酸化物磁性材料コアおよび合金磁性材料薄膜の
軟磁気特性の劣化を防止でき、軟磁気特性が劣化した部
分が再生時にギャップとして作用することがなくなるた
め、形状効果を抑制して再生出力一周波数特性における
うねりを低減することができる。
化クロムにより、合金磁性材料薄膜と酸化物磁性材料コ
ア間の酸素等の相互拡散を抑制することができる。この
ため、酸化物磁性材料コアと合金磁性材料薄膜の境界面
付近での酸化物磁性材料コアおよび合金磁性材料薄膜の
軟磁気特性の劣化を防止でき、軟磁気特性が劣化した部
分が再生時にギャップとして作用することがなくなるた
め、形状効果を抑制して再生出力一周波数特性における
うねりを低減することができる。
また、当該磁気ヘッドの製造においては、クロム膜上に
合金磁性材料薄膜が形成されることになるので、この合
金磁性材料薄膜においてその初期形成層および結晶構造
には乱れが殆ど生じず、良好な軟磁気特性を有するもの
となり、初期形成層の軟磁気特性が劣化した部分が再生
時にギャップとして作用するのが防止され、上述と同様
、形状効果を低減することができる。
合金磁性材料薄膜が形成されることになるので、この合
金磁性材料薄膜においてその初期形成層および結晶構造
には乱れが殆ど生じず、良好な軟磁気特性を有するもの
となり、初期形成層の軟磁気特性が劣化した部分が再生
時にギャップとして作用するのが防止され、上述と同様
、形状効果を低減することができる。
本発明の一実施例を第１図および第２図に基づいて説明
すれば、以下の通りである． 本発明に係る磁気ヘッドにおいて、第１図（ｊ）に示す
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料コア１・２に
おけるギャップ対向面３・３の各々には、所定幅を有し
且つギャップに対し平行な面を有する突出部３ａ・３ａ
が形成されている。この突出部３ａ・３ａを含むギャッ
プ対向面３・３上には、ＩＯ人〜２００人の厚みで窒化
クロム膜４が形成されており、この窒化クロム膜４上に
はクロム（Ｃｒ）膜９が１０人〜２００人の厚みで形成
されている。このクロム膜９上には、２μｍ〜６μｍの
厚みで高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性
材料薄膜５が形成されている。
すれば、以下の通りである． 本発明に係る磁気ヘッドにおいて、第１図（ｊ）に示す
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料コア１・２に
おけるギャップ対向面３・３の各々には、所定幅を有し
且つギャップに対し平行な面を有する突出部３ａ・３ａ
が形成されている。この突出部３ａ・３ａを含むギャッ
プ対向面３・３上には、ＩＯ人〜２００人の厚みで窒化
クロム膜４が形成されており、この窒化クロム膜４上に
はクロム（Ｃｒ）膜９が１０人〜２００人の厚みで形成
されている。このクロム膜９上には、２μｍ〜６μｍの
厚みで高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性
材料薄膜５が形成されている。
そして、これら窒化クロム膜４および合金磁性材料薄膜
５の形成された酸化物磁性材料コア１・２同士は、その
突出部３ａ・３ａの間にギャップ材として厚みが約０．
３μｍのＳｉｎｔ等の非磁性材料を介装した状態でギャ
ップ対向面３・３を互いに突き合わせて溶融ガラス６に
よって固着されている。
５の形成された酸化物磁性材料コア１・２同士は、その
突出部３ａ・３ａの間にギャップ材として厚みが約０．
３μｍのＳｉｎｔ等の非磁性材料を介装した状態でギャ
ップ対向面３・３を互いに突き合わせて溶融ガラス６に
よって固着されている。
上記磁気ヘッドを製造するには、同図（ａ）に示すよう
に、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロック１′に
外部巻線用溝１′ ａとガラス充填用溝１’ ｂと内部
巻線用溝１’ ｃとを形成すると共に、同図（ｂ）に
示すように、同じ《コアとなる酸化物磁性材料の他方の
ブロック２′に外部巻線用溝２’ ａとガラス充填用
溝２’ ｂとを形成する。そして、ブロック１′ ・
２′におけるそれぞれのギャップ対．向面゜３とテーブ
摺動面７を鏡面状に研磨した後、同図（Ｃ）および（ｄ
）に示すように、所定のギャップトラック幅を得るため
の溝（トラック溝）８・・・を形成する。次に、ギャッ
プ対向面３０表層付近の加工変質層をエッチングにより
除去した後、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）に示すヨウに、窒
化クロム膜４を、窒素ガスとアルゴンガスとの混合ガス
を用いる反応性スパッタリング法等により１０人〜２０
０人の厚みでギャップ対向面３上に形成した後、上記窒
化クロム膜４上にクロム膜９を、スパッタリング法等に
より１ｏ人〜２９０人の厚みで形成する．なお、窒化ク
ロム膜４とクロム膜９との合計膜厚は、２０人〜２００
人の厚みの範囲内にあるのが望ましく、かかる合計の膜
厚が薄ければ薄いほど形状効果抑止の機能が顕著となる
。
に、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロック１′に
外部巻線用溝１′ ａとガラス充填用溝１’ ｂと内部
巻線用溝１’ ｃとを形成すると共に、同図（ｂ）に
示すように、同じ《コアとなる酸化物磁性材料の他方の
ブロック２′に外部巻線用溝２’ ａとガラス充填用
溝２’ ｂとを形成する。そして、ブロック１′ ・
２′におけるそれぞれのギャップ対．向面゜３とテーブ
摺動面７を鏡面状に研磨した後、同図（Ｃ）および（ｄ
）に示すように、所定のギャップトラック幅を得るため
の溝（トラック溝）８・・・を形成する。次に、ギャッ
プ対向面３０表層付近の加工変質層をエッチングにより
除去した後、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）に示すヨウに、窒
化クロム膜４を、窒素ガスとアルゴンガスとの混合ガス
を用いる反応性スパッタリング法等により１０人〜２０
０人の厚みでギャップ対向面３上に形成した後、上記窒
化クロム膜４上にクロム膜９を、スパッタリング法等に
より１ｏ人〜２９０人の厚みで形成する．なお、窒化ク
ロム膜４とクロム膜９との合計膜厚は、２０人〜２００
人の厚みの範囲内にあるのが望ましく、かかる合計の膜
厚が薄ければ薄いほど形状効果抑止の機能が顕著となる
。
クロム膜９の形成後、合金磁性材料薄膜５をクロム膜９
上にスパッタリング法等により２〜６μｍの厚みで形成
する．そして、合金磁性材料薄膜５上におけるギャップ
形成部位にギャップ材としてＳｉｎ．等の非磁性材料を
約０．３μｍの厚みで形成する。次に、同図（ｈ）に示
すように、上記のブロック１′ ・２′同士を各々のギ
ャップ対向面３・３を突き合わせて貼り合わせ、ガラス
充填用溝１’ ｂ・２’ ｂおよび内部巻線用溝１’
ｃによりそれぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス６
を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得られ
た磁気ヘッドブロックにおけるテープ摺動面７に、同図
（ｉ）に示すように、曲面を形成した後、仮想線ａ・・
・に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示すよう
に、磁気ヘッド（まだ巻線の施されていない段階）が得
られる。従って、従来の製造工程とほぼ同様の製造工程
で磁気ヘッドを得ることができ、磁気ヘッドの量産性や
品質の均一性はそのまま維持され、磁気ヘッドの低価格
化も可能である。
上にスパッタリング法等により２〜６μｍの厚みで形成
する．そして、合金磁性材料薄膜５上におけるギャップ
形成部位にギャップ材としてＳｉｎ．等の非磁性材料を
約０．３μｍの厚みで形成する。次に、同図（ｈ）に示
すように、上記のブロック１′ ・２′同士を各々のギ
ャップ対向面３・３を突き合わせて貼り合わせ、ガラス
充填用溝１’ ｂ・２’ ｂおよび内部巻線用溝１’
ｃによりそれぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス６
を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得られ
た磁気ヘッドブロックにおけるテープ摺動面７に、同図
（ｉ）に示すように、曲面を形成した後、仮想線ａ・・
・に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示すよう
に、磁気ヘッド（まだ巻線の施されていない段階）が得
られる。従って、従来の製造工程とほぼ同様の製造工程
で磁気ヘッドを得ることができ、磁気ヘッドの量産性や
品質の均一性はそのまま維持され、磁気ヘッドの低価格
化も可能である。
上記の構成によれば、ギャップ対向面３上に形成された
窒化クロム膜４により、合金磁性材料薄膜５と酸化物磁
性材料コア１・２間の酸素等の相互拡散を抑制すること
ができる。このため、酸化物磁性材料コア１・２と合金
磁性材料薄膜５の境界面付近での酸化物磁性材料コア１
・２および合金磁性材料薄膜５の軟磁気特性の劣化を防
止でき、軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャップ
として作用することがなくなるため、形状効果を抑制し
て再生出力一周波数特性におけるうねりを低減すること
ができる。
窒化クロム膜４により、合金磁性材料薄膜５と酸化物磁
性材料コア１・２間の酸素等の相互拡散を抑制すること
ができる。このため、酸化物磁性材料コア１・２と合金
磁性材料薄膜５の境界面付近での酸化物磁性材料コア１
・２および合金磁性材料薄膜５の軟磁気特性の劣化を防
止でき、軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャップ
として作用することがなくなるため、形状効果を抑制し
て再生出力一周波数特性におけるうねりを低減すること
ができる。
また、当該磁気ヘッドの製造においては、クロム膜９上
に合金磁性材料薄膜５が形成されることになるので、こ
の合金磁性材料薄膜５においてその初期形成層および結
晶構造には乱れが殆ど生じず、良好な軟磁気特性を有す
るものとなり、初期形成層の軟磁気特性が劣化した部分
が再生時にギャップとして作用するのが防止され、上述
と同様、形状効果を低減することができる． 第２図は、窒素ガス２０％、アルゴンガス８０％の混合
ガスを用いて反応性スパッタリング法により厚み５０人
の窒化クロム膜４を形成した後にスパッタリング法によ
り厚み５０人のクロム膜９を形成し、このクロム膜９上
に合金磁性材料薄膜５としてセンダスト合金薄膜を４μ
ｍの厚みで形成して得られた磁気ヘッドにおける再生出
力一周波数特性図である。この特性試験において、磁気
ヘッドと記録媒体の相対速度は５．８ｍ／ｓｅｃ、記録
媒体として保磁力９００エルステッドのものを用いてい
る．この図から明らかなように、再生出力一周波数特性
におけるうねりは全周波数域において０．３ｄＢの範囲
に低減されている．〔発明の効果〕 本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、高透磁率お
よび高飽和磁束密度を存する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面側で
ギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッドにおい
て、上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上に窒
化クロム膜が形成され、且つこの窒化クロム膜と前記合
金磁性材料薄膜との間にクロム膜が形成されている構成
である。
に合金磁性材料薄膜５が形成されることになるので、こ
の合金磁性材料薄膜５においてその初期形成層および結
晶構造には乱れが殆ど生じず、良好な軟磁気特性を有す
るものとなり、初期形成層の軟磁気特性が劣化した部分
が再生時にギャップとして作用するのが防止され、上述
と同様、形状効果を低減することができる． 第２図は、窒素ガス２０％、アルゴンガス８０％の混合
ガスを用いて反応性スパッタリング法により厚み５０人
の窒化クロム膜４を形成した後にスパッタリング法によ
り厚み５０人のクロム膜９を形成し、このクロム膜９上
に合金磁性材料薄膜５としてセンダスト合金薄膜を４μ
ｍの厚みで形成して得られた磁気ヘッドにおける再生出
力一周波数特性図である。この特性試験において、磁気
ヘッドと記録媒体の相対速度は５．８ｍ／ｓｅｃ、記録
媒体として保磁力９００エルステッドのものを用いてい
る．この図から明らかなように、再生出力一周波数特性
におけるうねりは全周波数域において０．３ｄＢの範囲
に低減されている．〔発明の効果〕 本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、高透磁率お
よび高飽和磁束密度を存する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面側で
ギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッドにおい
て、上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上に窒
化クロム膜が形成され、且つこの窒化クロム膜と前記合
金磁性材料薄膜との間にクロム膜が形成されている構成
である。
これにより、いわゆる形状効果を抑制して再生出力一周
波数特性におけるうねりを低減することができ、再生信
号の品質を向上できるという効果を奏する。
波数特性におけるうねりを低減することができ、再生信
号の品質を向上できるという効果を奏する。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第１図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（
ｊ）はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜
視図、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、
第２図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグ
ラフ、第３図および第４図は従来例を示すものであって
、第３図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、第４
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
、第５図および第６図は他の従来例を示すものであって
、第５図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、第６
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
、第７図および第８図は他の従来例を示すものであって
、第７図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、第８
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
である。 １・２は酸化物磁性材料コア、１′ ・２′は酸化物磁
性材料のブロック、３はギャップ対向面、４は窒化クロ
ム膜、５は合金磁性材料薄膜、６は溶融ガラス、９はク
ロム膜である。 箔 図（Ｃ） ラ康数（ＭＨｚ） 図（ｂ） 図（ｄ） ］１ 第 図（Ｃ） 第 図（ｂ） ］２ 第 ３図（ｄ） 冨 図（ａ） ］］ 萬 図（ｃ） 冨 図 ■仮｛欠（ＭＨｚ） 第 図（ｂ） 第 ズ（ｄ） 冨 ！ Ｏ Ｒｎ ５／Ｊ一一ｆｉ（ＭＨｚ） 冨 ズ（ａ） 箪 図（Ｃ） 名 図（ｂ） ］２ 第 図（ｄ） 冨 図 周 ５ｆＬ数（ＭＨｚ）
って、第１図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（
ｊ）はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜
視図、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、
第２図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグ
ラフ、第３図および第４図は従来例を示すものであって
、第３図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、第４
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
、第５図および第６図は他の従来例を示すものであって
、第５図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、第６
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
、第７図および第８図は他の従来例を示すものであって
、第７図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図、第８
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
である。 １・２は酸化物磁性材料コア、１′ ・２′は酸化物磁
性材料のブロック、３はギャップ対向面、４は窒化クロ
ム膜、５は合金磁性材料薄膜、６は溶融ガラス、９はク
ロム膜である。 箔 図（Ｃ） ラ康数（ＭＨｚ） 図（ｂ） 図（ｄ） ］１ 第 図（Ｃ） 第 図（ｂ） ］２ 第 ３図（ｄ） 冨 図（ａ） ］］ 萬 図（ｃ） 冨 図 ■仮｛欠（ＭＨｚ） 第 図（ｂ） 第 ズ（ｄ） 冨 ！ Ｏ Ｒｎ ５／Ｊ一一ｆｉ（ＭＨｚ） 冨 ズ（ａ） 箪 図（Ｃ） 名 図（ｂ） ］２ 第 図（ｄ） 冨 図 周 ５ｆＬ数（ＭＨｚ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、 上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上に窒化ク
ロム膜が形成され、且つこの窒化クロム膜と前記合金磁
性材料薄膜との間にクロム膜が形成されていることを特
徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5435189A JPH02235210A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5435189A JPH02235210A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02235210A true JPH02235210A (ja) | 1990-09-18 |
Family
ID=12968210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5435189A Pending JPH02235210A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02235210A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003042984A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-05-22 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium, its manufacturing method, and magnetic storage |
-
1989
- 1989-03-07 JP JP5435189A patent/JPH02235210A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003042984A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-05-22 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium, its manufacturing method, and magnetic storage |
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