JPH0366090A - メモリ回路 - Google Patents
メモリ回路Info
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- JPH0366090A JPH0366090A JP1201365A JP20136589A JPH0366090A JP H0366090 A JPH0366090 A JP H0366090A JP 1201365 A JP1201365 A JP 1201365A JP 20136589 A JP20136589 A JP 20136589A JP H0366090 A JPH0366090 A JP H0366090A
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- capacitor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は情報を強誘電体に記憶するメモリセルを備えた
メモリ回路に関し、特にリフレッシュ動作を不要にした
メモリ回路に関する。
メモリ回路に関し、特にリフレッシュ動作を不要にした
メモリ回路に関する。
(従来の技術)
第3図は強誘電体を用いた従来のメモリ集積回路のメモ
リセルの構成を示す図である。
リセルの構成を示す図である。
このような回路構成において、データの書込み動作は、
第4図(a)に示すように、ビット線の電位を、記憶す
べきデータにしたがって高電位または低電位レベルにし
たのち、ワード線の電位を上げて電界効果トランジスタ
1を導通させ、ノード2をデータ電位に設定して、クロ
ックφのパルス信号を印加する。これにより、キャパシ
タを構成している例えばジルコンチタン酸鉛(PZT)
からなる強誘電体3の自発分極の方向がノード2のデー
タ電位に応じて設定され、データの書込みが行なわれる
。
第4図(a)に示すように、ビット線の電位を、記憶す
べきデータにしたがって高電位または低電位レベルにし
たのち、ワード線の電位を上げて電界効果トランジスタ
1を導通させ、ノード2をデータ電位に設定して、クロ
ックφのパルス信号を印加する。これにより、キャパシ
タを構成している例えばジルコンチタン酸鉛(PZT)
からなる強誘電体3の自発分極の方向がノード2のデー
タ電位に応じて設定され、データの書込みが行なわれる
。
例えば、高電位データであれば、ノード2が高電位でク
ロックφが“0”レベルである時には、強誘電体3に対
して矢印4の向きに大なる電界が印加され自発分極を生
ずる。
ロックφが“0”レベルである時には、強誘電体3に対
して矢印4の向きに大なる電界が印加され自発分極を生
ずる。
低電位データではノード2が低電位レベル、クロックφ
が高電位レベルのときに、強誘電体3は矢印5の方向に
自発分極を生ずる。すなわち、矢印の分極方向がデータ
を表わし、電源を切っても分極は不変であるため、不揮
発性のデータ記憶が可能となる。
が高電位レベルのときに、強誘電体3は矢印5の方向に
自発分極を生ずる。すなわち、矢印の分極方向がデータ
を表わし、電源を切っても分極は不変であるため、不揮
発性のデータ記憶が可能となる。
記憶されたデータを読出すには、第4図(b)に示すよ
うに、クロックφを低電位にし、ビット線を高電位の浮
遊状態にしてワード線の電位を上げ、アクセスすべきメ
モリセルのトランジスタ1を導通させる。これにより、
ノード2が高電位レベルとなり、強誘電体3には矢印4
の方向に電界が印加される。
うに、クロックφを低電位にし、ビット線を高電位の浮
遊状態にしてワード線の電位を上げ、アクセスすべきメ
モリセルのトランジスタ1を導通させる。これにより、
ノード2が高電位レベルとなり、強誘電体3には矢印4
の方向に電界が印加される。
したがって、分極方向が矢印4と同じ方向であったとす
ると、状態に変化を生じないのでビット線の電位は変ら
ない。しかしながら、分極状態が矢印5の方向であった
とすると、分極は反転し、矢印4の方向となる。このと
き、ノード2およびビット線の電位は分極反転に対応し
た量だけ電位が低下する。第4図(b)において、前記
の反転量を符号6で示しである。このビット線の電位の
低下は、ビット線に接続されたセンスアンプ7により増
幅されて出力される。
ると、状態に変化を生じないのでビット線の電位は変ら
ない。しかしながら、分極状態が矢印5の方向であった
とすると、分極は反転し、矢印4の方向となる。このと
き、ノード2およびビット線の電位は分極反転に対応し
た量だけ電位が低下する。第4図(b)において、前記
の反転量を符号6で示しである。このビット線の電位の
低下は、ビット線に接続されたセンスアンプ7により増
幅されて出力される。
その後、クロックφ−“12レベルにして強誘電体3の
分極を元に戻して再書込みを行なうようにしている。こ
のようにして読出し動作が行なわれる。
分極を元に戻して再書込みを行なうようにしている。こ
のようにして読出し動作が行なわれる。
(発明が解決しようとする課題)
強誘電体メモリであっても、ダイナミックメモリのよう
に定期的なリフレッシュ動作が不要であることが望しく
、また電源が投入されている間はデータが失なわれない
ことが所望される。
に定期的なリフレッシュ動作が不要であることが望しく
、また電源が投入されている間はデータが失なわれない
ことが所望される。
しかしながら、上記メモリセルの場合、リフレッシュし
なければデータは消失してしまうおそれがある。
なければデータは消失してしまうおそれがある。
すなわち、第3図において、ノード2を高電位レベルに
して書込んだ後、クロックφが低電位レベルにされたま
まの状態にあるとする。このような状態にあって、トラ
ンジスタの基板ノードは通常、Vssに接続されている
ため、基板とソース/ドレイン間とのPN接合を通じて
高電位レベルにあったノード2は、リークして低電位レ
ベルに下ってしまう。したがって、この時点で他のメモ
リセルの書込みのためのクロックφが入ると、強誘電体
にかかる電界は、高電位レベルのデータ書込み時と逆と
なり分極の反転を生じ、データが消失してしまう問題が
発生する。これは、クロックφにパルスが与えられた時
に、ノード2がビット線から遮断されて低電位レベルに
なるためである。
して書込んだ後、クロックφが低電位レベルにされたま
まの状態にあるとする。このような状態にあって、トラ
ンジスタの基板ノードは通常、Vssに接続されている
ため、基板とソース/ドレイン間とのPN接合を通じて
高電位レベルにあったノード2は、リークして低電位レ
ベルに下ってしまう。したがって、この時点で他のメモ
リセルの書込みのためのクロックφが入ると、強誘電体
にかかる電界は、高電位レベルのデータ書込み時と逆と
なり分極の反転を生じ、データが消失してしまう問題が
発生する。これは、クロックφにパルスが与えられた時
に、ノード2がビット線から遮断されて低電位レベルに
なるためである。
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであり
、その目的とするところは、アクセス時における非アク
セスセルの記憶情報の破壊を防止して、リフレッシュ動
作を不要にしたスタティックに動作する不揮発性のメモ
リ回路を提供することにある。
、その目的とするところは、アクセス時における非アク
セスセルの記憶情報の破壊を防止して、リフレッシュ動
作を不要にしたスタティックに動作する不揮発性のメモ
リ回路を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するために、情報を強誘電体の分極状態
として記憶する記憶手段がワード線から与えられる選択
信号によって導通制御される転送手段を介してビット線
に接続されてなるメモリセルをマトリックス状に配置し
たメモリ回路において、この発明は、選択信号が与えら
れた前記ワード線に接続された前記メモリセルの前記記
憶手段を共通に制御する制御手段を備えて構成される。
として記憶する記憶手段がワード線から与えられる選択
信号によって導通制御される転送手段を介してビット線
に接続されてなるメモリセルをマトリックス状に配置し
たメモリ回路において、この発明は、選択信号が与えら
れた前記ワード線に接続された前記メモリセルの前記記
憶手段を共通に制御する制御手段を備えて構成される。
(作用)
上記構成において、この発明は、同一のワード線に接続
されたそれぞれのメモリセルの記憶手段を、この記憶手
段のメモリセルが選択された時に共通に制御するように
している。
されたそれぞれのメモリセルの記憶手段を、この記憶手
段のメモリセルが選択された時に共通に制御するように
している。
(実施例)
以下、図面を用いてこの発明の詳細な説明する。
第1図はこの発明の一実施例に係るメモリ回路の構成を
示す図である。
示す図である。
第1図において、メモリ回路は、ワード線にゲートが接
続されたトランスファ用のトランジスタ1−1.1−2
.2−1.2−2・・・・・・と、一端がこのトランジ
スタを介してビット線に接続され、他端がドライブ線に
接続された強誘電体キャパシタ3.3′・・・・・・と
からなるメモリセルが、行列状に配置されて構成されて
いる。それぞれのメモリセルの読出し動作及び書込み動
作は、第3図に示したものと同様である。
続されたトランスファ用のトランジスタ1−1.1−2
.2−1.2−2・・・・・・と、一端がこのトランジ
スタを介してビット線に接続され、他端がドライブ線に
接続された強誘電体キャパシタ3.3′・・・・・・と
からなるメモリセルが、行列状に配置されて構成されて
いる。それぞれのメモリセルの読出し動作及び書込み動
作は、第3図に示したものと同様である。
また、同一のワード線に接続されているメモリセルは、
同一のアドレスデコーダ4.5に接続されて選択駆動さ
れる。さらに、同一のワード線に接続されているメモリ
セルは、その強誘電体キャパシタの他端が同一のドライ
ブ線に接続されて、ワード線に接続されたアドレスデコ
ーダと同一のアドレスデコーダに接続されて制御駆動さ
れる。
同一のアドレスデコーダ4.5に接続されて選択駆動さ
れる。さらに、同一のワード線に接続されているメモリ
セルは、その強誘電体キャパシタの他端が同一のドライ
ブ線に接続されて、ワード線に接続されたアドレスデコ
ーダと同一のアドレスデコーダに接続されて制御駆動さ
れる。
次に、このような構成におけるメモリ回路全体としての
読出し動作及び書込み動作を第2図を参照して説明する
。
読出し動作及び書込み動作を第2図を参照して説明する
。
ここで、アクセスされるメモリセルを、ビット線B、と
ワード線W+の交点に位置するメモリセルとする。
ワード線W+の交点に位置するメモリセルとする。
まず、読出し動作にあっては、第2図(b)に示すよう
に、ワード線W1がアドレスデコーダ4によって選択さ
れて、トランジスタ1−1.1−2が導通状態となる。
に、ワード線W1がアドレスデコーダ4によって選択さ
れて、トランジスタ1−1.1−2が導通状態となる。
そして、ビット線B、に接続されたセンスアンプ7及び
ビット線B2に接続されたセンスアンプ7−は、ともに
読出し動作を行なう。しかしながら、センスアンプ7′
の出力を出力i(図示せず)に転送するゲート回路(図
示せず)は非転送状態となり、センスアンプ7′は非選
択状態となる。これにより、ビット線B2を介してセン
スアンプ7′によってセンス増幅されたデータは、外部
に読出されることはない。
ビット線B2に接続されたセンスアンプ7−は、ともに
読出し動作を行なう。しかしながら、センスアンプ7′
の出力を出力i(図示せず)に転送するゲート回路(図
示せず)は非転送状態となり、センスアンプ7′は非選
択状態となる。これにより、ビット線B2を介してセン
スアンプ7′によってセンス増幅されたデータは、外部
に読出されることはない。
一方、センスアンプ7は選択状態となるため、ビット線
B1を介してセンスアンプ7によってセンス増幅された
データは、センスアンプ7から外部に読出される。
B1を介してセンスアンプ7によってセンス増幅された
データは、センスアンプ7から外部に読出される。
したがって、ワード線WIとビット線B、の交点に位置
するメモリセルに保持されていたデータだけが、外部に
読出されることになる。
するメモリセルに保持されていたデータだけが、外部に
読出されることになる。
ここで、ドライブ線D1に接続された強誘電体3′のノ
ード2′に高電位レベルのデータが書込まれて、強誘電
体3゛の自発分極状態が第3図に示す矢印4の状態にあ
り、このような状態からノード2′の高電位レベルがリ
ーク電流により低電位レベルに低下したとする。
ード2′に高電位レベルのデータが書込まれて、強誘電
体3゛の自発分極状態が第3図に示す矢印4の状態にあ
り、このような状態からノード2′の高電位レベルがリ
ーク電流により低電位レベルに低下したとする。
このような状態において、ワード線w1が選択されて読
出し状態になると、高電位レベルにあるビット線B2か
ら導通状態になったトランジスタ1−2を介して、ノー
ド2′に電流が流れ、ノード2′が高電位レベルとなる
。この時に、ノード2′の容量は極めて小さいため、ビ
ット線B2からノード2″に電流が流れても、ビット線
B2の電位は読出し動作時にビット線B2の電位とセン
スアンプ7−によって比較される比較基準電圧よりも低
下することはない。
出し状態になると、高電位レベルにあるビット線B2か
ら導通状態になったトランジスタ1−2を介して、ノー
ド2′に電流が流れ、ノード2′が高電位レベルとなる
。この時に、ノード2′の容量は極めて小さいため、ビ
ット線B2からノード2″に電流が流れても、ビット線
B2の電位は読出し動作時にビット線B2の電位とセン
スアンプ7−によって比較される比較基準電圧よりも低
下することはない。
このため、ビット線B2の電位は、ノード2′の充電に
よってビット線B2の本来の電位よりは若干低下するが
、センスアンプ7゛よって行なわれる読出し動作により
、ビット線B2の本来の高電位レベルにまで回復する。
よってビット線B2の本来の電位よりは若干低下するが
、センスアンプ7゛よって行なわれる読出し動作により
、ビット線B2の本来の高電位レベルにまで回復する。
したがって、ノード2′にはリーク電流により低下する
前の高電位レベルのデータが再書込みされることになる
。
前の高電位レベルのデータが再書込みされることになる
。
ゆえに、読み出し動作において、ノード2′の電位が高
電位レベルからリーク電流により低電位レベルに低下し
た場合に、ドライブ線D1に第2図(社)に示すような
りロックパルスが印加されたとしても、強誘電体キャパ
シタ3″の自発分極状態は読出し動作を行なう前の状態
となり、保持されたデータの破壊は防止されることにな
る。
電位レベルからリーク電流により低電位レベルに低下し
た場合に、ドライブ線D1に第2図(社)に示すような
りロックパルスが印加されたとしても、強誘電体キャパ
シタ3″の自発分極状態は読出し動作を行なう前の状態
となり、保持されたデータの破壊は防止されることにな
る。
一方、選択されないワード線に接続されたメモリセルに
は、ドライブ線D2を介してクロックパルスが印加され
ないので、強誘電体キャパシタの自発分極状態は変わら
ない。
は、ドライブ線D2を介してクロックパルスが印加され
ないので、強誘電体キャパシタの自発分極状態は変わら
ない。
次に、書込み動作にあっては、第2図(a)に示すよう
に、書込み情報がセンスアンプ7からビット線B、に与
えられ、この書込み情報が選択されたワードm W +
に接続されたトランジスタ1−1を介して強誘電体キ
ャパシタ3に与えられて、書込み動作が行なわれる。
に、書込み情報がセンスアンプ7からビット線B、に与
えられ、この書込み情報が選択されたワードm W +
に接続されたトランジスタ1−1を介して強誘電体キ
ャパシタ3に与えられて、書込み動作が行なわれる。
この時に、第2図(a)に示すように、クロックパルス
はアドレスデコーダ4からドライブ線りに与えられる。
はアドレスデコーダ4からドライブ線りに与えられる。
このため、ワード線w1に接続されたメモリセルの強誘
電体キャパシタ3′にも、クロックパルスが印加される
ことになる。
電体キャパシタ3′にも、クロックパルスが印加される
ことになる。
しかしながら、この強誘電体キャパシタ3′のメモリセ
ルに接続されているビット線B2には、書込み情報は与
えられず、ビット線B2は読出し状態と同じ高電位レベ
ルの浮遊状態にある。このため、アドレスデコーダ4か
らドライブ線DIを介してクロックパルスが与えられて
も、ワード線W冒とビット線B2に接続されたメモリセ
ルでは読出し動作を行なうことになる。
ルに接続されているビット線B2には、書込み情報は与
えられず、ビット線B2は読出し状態と同じ高電位レベ
ルの浮遊状態にある。このため、アドレスデコーダ4か
らドライブ線DIを介してクロックパルスが与えられて
も、ワード線W冒とビット線B2に接続されたメモリセ
ルでは読出し動作を行なうことになる。
したがって、強誘電体キャパシタ3′に低電位レベルが
書き込まれていた場合には、読出し動作によって強誘電
体キャパシタ3′の自発分極は反転するが、クロックパ
ルスがドライブ線D1に印加された時に、それまで保持
していたデータと同レベルのデータが再書込みされるた
め、自発分極状態は元に戻ることになる。このため、ク
ロックパルスがドライブ線り、に印加されても、保持デ
ータの破壊は防止される。
書き込まれていた場合には、読出し動作によって強誘電
体キャパシタ3′の自発分極は反転するが、クロックパ
ルスがドライブ線D1に印加された時に、それまで保持
していたデータと同レベルのデータが再書込みされるた
め、自発分極状態は元に戻ることになる。このため、ク
ロックパルスがドライブ線り、に印加されても、保持デ
ータの破壊は防止される。
一方、選択されないワード線W2に接続されているメモ
リセルにあっては、トランジスタ2−1゜2−2が非導
通状態のままであるが、これらのメモリセルの強誘電体
キャパシタ3.3′にはクロックパルスがアドレスデコ
ーダ5からドライブ線D2を介して与えられない。この
ため、ノード2゜21の電位がリークにより高電位レベ
ルから低電位レベルに低下していたとしても、強誘電体
キャパシタの自発分極は変化せず、記憶情報の反転、破
壊は防止される。
リセルにあっては、トランジスタ2−1゜2−2が非導
通状態のままであるが、これらのメモリセルの強誘電体
キャパシタ3.3′にはクロックパルスがアドレスデコ
ーダ5からドライブ線D2を介して与えられない。この
ため、ノード2゜21の電位がリークにより高電位レベ
ルから低電位レベルに低下していたとしても、強誘電体
キャパシタの自発分極は変化せず、記憶情報の反転、破
壊は防止される。
以上説明したように、この発明によれば、同一のワード
線に接続されたそれぞれのメモリセルの記憶手段を、こ
の記憶手段のメモリセルが選択された時に共通に制御す
るようにしたので、記憶情報の破壊を防止することがで
きる。これにより、リフレッシュ動作を不要としたスタ
ティックに動作する不揮発性の強誘電体に情報を記憶す
るメモリ回路を提供することができる。
線に接続されたそれぞれのメモリセルの記憶手段を、こ
の記憶手段のメモリセルが選択された時に共通に制御す
るようにしたので、記憶情報の破壊を防止することがで
きる。これにより、リフレッシュ動作を不要としたスタ
ティックに動作する不揮発性の強誘電体に情報を記憶す
るメモリ回路を提供することができる。
第1図は本発明によるメモリ回路の実施例を示す図、第
2図は第1図の回路の動作を説明するタイミング図、第
3図は従来技術によるメモリ回路の構成図、第4図は第
3図の回路の動作を説明するタイミング図である。 1−1.1−2.2−1.2−2・・・MOS)ランジ
スタ、 3.3′・・・強誘電体キャパシタ、 4.5・・・アドレスデコーダ、 7.7′・・・センスアンプ、 w、、w2・・・ワード線、 B、、B2 ・・・ビット線、 D、、D2・・・ドライブ線。
2図は第1図の回路の動作を説明するタイミング図、第
3図は従来技術によるメモリ回路の構成図、第4図は第
3図の回路の動作を説明するタイミング図である。 1−1.1−2.2−1.2−2・・・MOS)ランジ
スタ、 3.3′・・・強誘電体キャパシタ、 4.5・・・アドレスデコーダ、 7.7′・・・センスアンプ、 w、、w2・・・ワード線、 B、、B2 ・・・ビット線、 D、、D2・・・ドライブ線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 情報を強誘電体の分極状態として記憶する記憶手段が、
ワード線から与えられる選択信号によって導通制御され
る転送手段を介してビット線に接続されてなるメモリセ
ルを、マトリックス状に配置したメモリ回路において、 選択信号が与えられた前記ワード線に接続された前記メ
モリセルの前記記憶手段を、共通に制御する制御手段を
有することを特徴とするメモリ回路。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1201365A JPH0366090A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | メモリ回路 |
| US07/548,823 US5121353A (en) | 1989-07-06 | 1990-07-06 | Ferroelectric capacitor memory circuit MOS setting and transmission transistor |
| US07/832,806 US5224069A (en) | 1989-07-06 | 1992-02-07 | Ferroelectric capacitor memory circuit MOS setting and transmission transistors |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1201365A JPH0366090A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | メモリ回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0366090A true JPH0366090A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16439849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1201365A Pending JPH0366090A (ja) | 1989-07-06 | 1989-08-04 | メモリ回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0366090A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01158691A (ja) * | 1987-06-02 | 1989-06-21 | Krysalis Corp | 不揮発性メモリ回路と不揮発性メモリ・セルに対しデータ状態を書込み又読出す方法 |
-
1989
- 1989-08-04 JP JP1201365A patent/JPH0366090A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01158691A (ja) * | 1987-06-02 | 1989-06-21 | Krysalis Corp | 不揮発性メモリ回路と不揮発性メモリ・セルに対しデータ状態を書込み又読出す方法 |
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