JPH0366777B2 - - Google Patents
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- JPH0366777B2 JPH0366777B2 JP55126812A JP12681280A JPH0366777B2 JP H0366777 B2 JPH0366777 B2 JP H0366777B2 JP 55126812 A JP55126812 A JP 55126812A JP 12681280 A JP12681280 A JP 12681280A JP H0366777 B2 JPH0366777 B2 JP H0366777B2
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- JP
- Japan
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- stage
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- excitation current
- data
- digital signal
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/21—Means for adjusting the focus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. program control
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は走査型電子顕微鏡においてフオーカス
合わせを自動的に行う方法に関する。
合わせを自動的に行う方法に関する。
走査型電子顕微鏡においては、第１図に示すよ
うにステージ１に試料ホルダ２を介して試料３を
載置している。ステージ１の上下方向位置は種々
の要請に従つて移動させるが、従来においてはス
テージの上下方向位置を検出し、この検出位置に
応じた信号を対物レンズの励磁電源に供給してス
テージの上下方向位置を移動させた場合にも対物
レンズのフオーカス面がステージ１の基準面Ｓ
（通常第１図において点線で示されているような
ホルダ２の上面に一致した面）に自動的に一致す
るように制御している。
うにステージ１に試料ホルダ２を介して試料３を
載置している。ステージ１の上下方向位置は種々
の要請に従つて移動させるが、従来においてはス
テージの上下方向位置を検出し、この検出位置に
応じた信号を対物レンズの励磁電源に供給してス
テージの上下方向位置を移動させた場合にも対物
レンズのフオーカス面がステージ１の基準面Ｓ
（通常第１図において点線で示されているような
ホルダ２の上面に一致した面）に自動的に一致す
るように制御している。
しかしながら、この従来のものでは試料面の高
さを測定する機器が必要であり、且つ、第１図に
示すような凹凸の大きな試料をステージ上に載置
した場合には、電子ビームを照射して観察しよう
とする試料面の高さは前記基準面Ｓとかなり異っ
たものとなつてしまい、ステージの上下方向位置
を移動させる毎に対物レンズの励磁電流を調整し
て試料面にフオーカス合わせをする必要があり、
極めて面倒であつた。
さを測定する機器が必要であり、且つ、第１図に
示すような凹凸の大きな試料をステージ上に載置
した場合には、電子ビームを照射して観察しよう
とする試料面の高さは前記基準面Ｓとかなり異っ
たものとなつてしまい、ステージの上下方向位置
を移動させる毎に対物レンズの励磁電流を調整し
て試料面にフオーカス合わせをする必要があり、
極めて面倒であつた。
本発明の目的は、試料面の高さを測定する機器
が不要であつて、且つ試料を上下方向に移動させ
る都度繁雑な焦点合わせをしなくて良い走査電子
顕微鏡における対物レンズ電流制御方法を提供す
ることにある。
が不要であつて、且つ試料を上下方向に移動させ
る都度繁雑な焦点合わせをしなくて良い走査電子
顕微鏡における対物レンズ電流制御方法を提供す
ることにある。
そのため本発明は、ステージ上下位置に対応し
てデジタル信号を発生せしめ、該デジタル信号の
信号値に対応してメモリーの各番地に対物レンズ
の励磁電流を指定するデータを格納しておき、レ
ンズ電流を調整して最初のステージ位置において
試料表面上にフォーカス合わせを行い、その際の
励磁電流に対応したデータの格納番地を記憶し、
ステージ位置を最初の位置から上下動させた際に
前記記憶された番地から該移動に伴うデジタル信
号値の変化分に対応した番地数だけシフトした番
地の格納データを読み出し、該データに基づいて
対物レンズ電流の励磁電流を制御するようにした
走査型電子顕微鏡における対物レンズ電流制御方
法を特徴としている。
てデジタル信号を発生せしめ、該デジタル信号の
信号値に対応してメモリーの各番地に対物レンズ
の励磁電流を指定するデータを格納しておき、レ
ンズ電流を調整して最初のステージ位置において
試料表面上にフォーカス合わせを行い、その際の
励磁電流に対応したデータの格納番地を記憶し、
ステージ位置を最初の位置から上下動させた際に
前記記憶された番地から該移動に伴うデジタル信
号値の変化分に対応した番地数だけシフトした番
地の格納データを読み出し、該データに基づいて
対物レンズ電流の励磁電流を制御するようにした
走査型電子顕微鏡における対物レンズ電流制御方
法を特徴としている。
本発明においては、レンズ電流を調整して最初
のステージ位置において試料表面上にフォーカス
合わせを行い、その際の励磁電流に対応したデー
タの格納番地を記憶しておく。そして、ステージ
位置を最初の位置からある位置まで上下動させる
と位置を表わすデジタル信号値が変化し、このデ
ジタル信号の変化分は、ステージの上下移動量を
表しており、又、この変化分は試料表面の上下移
動量をも表している。従って、ステージ移動後の
試料表面高さを直接測定しなくとも前記デジタル
信号の変化分を加減算させることによりステージ
上下動後の試料表面高さが分かり、この試料表面
高さに対応した励磁電流データを読み出すことが
可能となる。このデータの格納番地は、最初に記
憶された格納番地から前記デジタル信号値の変化
分に対応した番地数だけシフトした番地に他なら
ず、この番地に格納された励磁指定データを読み
出してそれに基づいて対物レンズを励磁すれば、
ステージを上下移動させる都度、対物レンズの励
磁電流を調整しながらの繁雑な作業を行うことな
く、所望の視野についてフォーカスの合った鮮明
な像を観察することができる。
のステージ位置において試料表面上にフォーカス
合わせを行い、その際の励磁電流に対応したデー
タの格納番地を記憶しておく。そして、ステージ
位置を最初の位置からある位置まで上下動させる
と位置を表わすデジタル信号値が変化し、このデ
ジタル信号の変化分は、ステージの上下移動量を
表しており、又、この変化分は試料表面の上下移
動量をも表している。従って、ステージ移動後の
試料表面高さを直接測定しなくとも前記デジタル
信号の変化分を加減算させることによりステージ
上下動後の試料表面高さが分かり、この試料表面
高さに対応した励磁電流データを読み出すことが
可能となる。このデータの格納番地は、最初に記
憶された格納番地から前記デジタル信号値の変化
分に対応した番地数だけシフトした番地に他なら
ず、この番地に格納された励磁指定データを読み
出してそれに基づいて対物レンズを励磁すれば、
ステージを上下移動させる都度、対物レンズの励
磁電流を調整しながらの繁雑な作業を行うことな
く、所望の視野についてフォーカスの合った鮮明
な像を観察することができる。
第２図は本発明を実施するための装置の一例を
示すもので、図中４は対物レンズの励磁コイルで
あり、１はステージである。５はボリユーム等を
構成要素とするステージ操作部であり、該ステー
ジ操作部５よりの信号はAD変換器６を介して制
御部７に供給されると共に、ステージの上下動機
構８に供給される。該上下動機構８はパルスモー
タ等を構成要素としており、AD変換器６よりの
デジタル信号に応じた位置にステージ１を移動せ
しめる。９は励磁コイル４の励磁電流操作部であ
り、該励磁電流操作部９もボリユーム等で構成さ
れ、その出力信号はAD変換器１０を介して前記
制御部７に供給される。１１は励磁電流指定デー
タを記憶するためのメモリーであり、該メモリー
の番地の各々がAD変換器１０よりのデジタル信
号の異つた値に対応している。ところで、対物レ
ンズの主面からフオーカス面までの距離ｌを横軸
にとり、これら各距離に対応する対物レンズの励
磁電流Ｉを縦軸にとると、それらの関係は第３図
に示すようなものである。メモリー１１の前述し
た番地、例えば100番地からＮ番地までには、第
３図に示すように充分細かくとられた距離ｌの各
値l1、l2、l3、…、loに対する励磁電流に対応した
励磁電流指定データＤ（l1）、Ｄ（l2）、Ｄ（l3）、…
、
Ｄ（lo）が記憶されている。これらの距離ｌの値l1
からloまではステージの移動範囲をカバーするよ
うにとられている。前記制御部７はAD変換器１
０よりのデジタル信号（これらはl1からloまでの
いずれかに対応している）に対応したメモリー１
１の番地の内容を読み出してレジスタ１２に転送
する。又前記AD変換器６よりのデジタル信号も
その信号値に応じてメモリー１１の前述した番地
のいずれかに対応しており、該制御部７はAD変
換器６よりのデジタル信号が供給されると該信号
に対応する番地を記憶する。レジスタ１２の出力
信号はDA変換器１３を介してレンズ電流制御回
路１４に供給される。該レンズ電流制御回路１４
はDA変換器１３より供給されるアナログ信号に
応じた励磁電流を前記励磁コイル４に供給する。
示すもので、図中４は対物レンズの励磁コイルで
あり、１はステージである。５はボリユーム等を
構成要素とするステージ操作部であり、該ステー
ジ操作部５よりの信号はAD変換器６を介して制
御部７に供給されると共に、ステージの上下動機
構８に供給される。該上下動機構８はパルスモー
タ等を構成要素としており、AD変換器６よりの
デジタル信号に応じた位置にステージ１を移動せ
しめる。９は励磁コイル４の励磁電流操作部であ
り、該励磁電流操作部９もボリユーム等で構成さ
れ、その出力信号はAD変換器１０を介して前記
制御部７に供給される。１１は励磁電流指定デー
タを記憶するためのメモリーであり、該メモリー
の番地の各々がAD変換器１０よりのデジタル信
号の異つた値に対応している。ところで、対物レ
ンズの主面からフオーカス面までの距離ｌを横軸
にとり、これら各距離に対応する対物レンズの励
磁電流Ｉを縦軸にとると、それらの関係は第３図
に示すようなものである。メモリー１１の前述し
た番地、例えば100番地からＮ番地までには、第
３図に示すように充分細かくとられた距離ｌの各
値l1、l2、l3、…、loに対する励磁電流に対応した
励磁電流指定データＤ（l1）、Ｄ（l2）、Ｄ（l3）、…
、
Ｄ（lo）が記憶されている。これらの距離ｌの値l1
からloまではステージの移動範囲をカバーするよ
うにとられている。前記制御部７はAD変換器１
０よりのデジタル信号（これらはl1からloまでの
いずれかに対応している）に対応したメモリー１
１の番地の内容を読み出してレジスタ１２に転送
する。又前記AD変換器６よりのデジタル信号も
その信号値に応じてメモリー１１の前述した番地
のいずれかに対応しており、該制御部７はAD変
換器６よりのデジタル信号が供給されると該信号
に対応する番地を記憶する。レジスタ１２の出力
信号はDA変換器１３を介してレンズ電流制御回
路１４に供給される。該レンズ電流制御回路１４
はDA変換器１３より供給されるアナログ信号に
応じた励磁電流を前記励磁コイル４に供給する。
このような構成の装置において、操作者はまず
励磁電流操作部９を操作してAD変換器１０より
制御部７に供給するデジタル信号を変化させる。
制御部７は供給されるデジタル信号の変化に応じ
てメモリー１１の番地を変化させてレジスタ１２
に読み出す。従つて励磁電流制御回路１４から励
磁コイル４に供給される励磁電流も変化し、対物
レンズのフオーカス面は上下方向に移動する。こ
のような操作を行いつつ電子ビームを試料上にお
いて走査して試料像を得、該得られた試料像を観
察して該像が最もシヤープになるように励磁電流
操作部９を操作して、試料面の位置とフオーカス
面とを一致させる。制御部７にはこのときレジス
タ１２に読み出された番地の番号として例えば
N0が記憶される。一方、ステージ１が最初の状
態において例えばN1番地に対応する位置にあつ
たとする。この状態から操作者がステージ１を上
下に移動させるときには、目的とする移動量に見
合つただけステージ操作部５を操作するが、その
結果、AD変換器６よりの出力信号がN1番地に対
応するものからN2番地に対応するものに変化す
るだけステージ１が上下動したとすると、制御部
７においては、前記記憶された番地の番号N0か
ら（N2−N1）だけシフトした番号の記憶番地の
内容をレジスタ１２に読み出す。従つて励磁コイ
ル４はこの番地の内容に対応する励磁電流によつ
て励磁されることになる。その結果前記ｌはN0
に対応した値ｌ（N0）からN2−N1に対応した量
だけシフトするが、ステージの上下動に伴う試料
表面の移動量もN2−N1に対応した量であるた
め、ステージ移動後も試料表面にはフオーカスが
合わされていることになる。
励磁電流操作部９を操作してAD変換器１０より
制御部７に供給するデジタル信号を変化させる。
制御部７は供給されるデジタル信号の変化に応じ
てメモリー１１の番地を変化させてレジスタ１２
に読み出す。従つて励磁電流制御回路１４から励
磁コイル４に供給される励磁電流も変化し、対物
レンズのフオーカス面は上下方向に移動する。こ
のような操作を行いつつ電子ビームを試料上にお
いて走査して試料像を得、該得られた試料像を観
察して該像が最もシヤープになるように励磁電流
操作部９を操作して、試料面の位置とフオーカス
面とを一致させる。制御部７にはこのときレジス
タ１２に読み出された番地の番号として例えば
N0が記憶される。一方、ステージ１が最初の状
態において例えばN1番地に対応する位置にあつ
たとする。この状態から操作者がステージ１を上
下に移動させるときには、目的とする移動量に見
合つただけステージ操作部５を操作するが、その
結果、AD変換器６よりの出力信号がN1番地に対
応するものからN2番地に対応するものに変化す
るだけステージ１が上下動したとすると、制御部
７においては、前記記憶された番地の番号N0か
ら（N2−N1）だけシフトした番号の記憶番地の
内容をレジスタ１２に読み出す。従つて励磁コイ
ル４はこの番地の内容に対応する励磁電流によつ
て励磁されることになる。その結果前記ｌはN0
に対応した値ｌ（N0）からN2−N1に対応した量
だけシフトするが、ステージの上下動に伴う試料
表面の移動量もN2−N1に対応した量であるた
め、ステージ移動後も試料表面にはフオーカスが
合わされていることになる。
上述した如く、本発明によれば、焦点の合った
レンズの励磁電流に基づいたデータを用いるた
め、試料面の高さを測定する機器を用いることが
ない。又、ステージ上下位置に対応したデジタル
信号の信号値に対応してメモリーの各番地に対物
レンズの励磁電流を指定するデータを格納してお
き、焦点の合った励磁電流に対応したデータの格
納番地を記憶しておくと共に、ステージ位置を最
初の位置から上下動させた際に前記記憶された番
地から該移動に伴うデジタル信号値の変化分に対
応した番地数だけシフトした番地の格納データを
読み出すようにしており、前記ステージ位置のシ
フトによって試料表面の位置もステージと同じ量
だけシフトするため、このシフトした番地に格納
されているデータは、ステージ移動後の試料表面
高さにフオーカス合わせを行うための励磁電流指
定データであるから、試料面の高さを測定する機
器を用いることなく、試料を上下方向に移動させ
る都度行なっていた繁雑な焦点合わせ作業を不要
にできる。換言すれば、試料表面の高さがステー
ジの基準高さと異なると共に、試料表面の高さも
局所的に異なるような場合であっても、試料表面
高さを測定するための専用機器を追加することな
く、レンズ電流を調整して最初のステージ位置に
おいて試料表面上にフオーカス合わせを行えば、
後は試料ステージをどのように上下移動させよう
と、上下移動の変化分のシフトした番地を読み出
すだけの簡単な操作で、前記視野に焦点合わせを
行うことが可能になる。
レンズの励磁電流に基づいたデータを用いるた
め、試料面の高さを測定する機器を用いることが
ない。又、ステージ上下位置に対応したデジタル
信号の信号値に対応してメモリーの各番地に対物
レンズの励磁電流を指定するデータを格納してお
き、焦点の合った励磁電流に対応したデータの格
納番地を記憶しておくと共に、ステージ位置を最
初の位置から上下動させた際に前記記憶された番
地から該移動に伴うデジタル信号値の変化分に対
応した番地数だけシフトした番地の格納データを
読み出すようにしており、前記ステージ位置のシ
フトによって試料表面の位置もステージと同じ量
だけシフトするため、このシフトした番地に格納
されているデータは、ステージ移動後の試料表面
高さにフオーカス合わせを行うための励磁電流指
定データであるから、試料面の高さを測定する機
器を用いることなく、試料を上下方向に移動させ
る都度行なっていた繁雑な焦点合わせ作業を不要
にできる。換言すれば、試料表面の高さがステー
ジの基準高さと異なると共に、試料表面の高さも
局所的に異なるような場合であっても、試料表面
高さを測定するための専用機器を追加することな
く、レンズ電流を調整して最初のステージ位置に
おいて試料表面上にフオーカス合わせを行えば、
後は試料ステージをどのように上下移動させよう
と、上下移動の変化分のシフトした番地を読み出
すだけの簡単な操作で、前記視野に焦点合わせを
行うことが可能になる。
第１図は従来の欠点を説明するための図、第２
図は本発明を実施するための装置の一例を示すた
めの図、第３図はメモリーの記憶内容を例示する
ための図である。 １：ステージ、２：試料ホルダ、３：試料、
４：励磁コイル、５：ステージ操作部、６，１
０：AD変換器、７：制御部、９：励磁電流操作
部、１１：メモリー、１２：レジスタ、１３：
DA変換器、１４：励磁電流制御回路。
図は本発明を実施するための装置の一例を示すた
めの図、第３図はメモリーの記憶内容を例示する
ための図である。 １：ステージ、２：試料ホルダ、３：試料、
４：励磁コイル、５：ステージ操作部、６，１
０：AD変換器、７：制御部、９：励磁電流操作
部、１１：メモリー、１２：レジスタ、１３：
DA変換器、１４：励磁電流制御回路。
Claims (1)
- １ ステージ上下位置に対応してデジタル信号を
発生せしめ、該デジタル信号の信号値に対応して
メモリーの各番地に対物レンズの励磁電流を指定
するデータを格納しておき、レンズ電流を調整し
て最初のステージ位置において試料面上にフオー
カス合わせを行い、その際の励磁電流に対応した
データの格納番地を記憶し、ステージ位置を最初
の位置から上下動させた際に前記記憶された番地
から該移動に伴うデジタル信号値の変化分に対応
した番地数だけシフトした番地の格納データを読
み出し、該データに基づいて対物レンズの励磁電
流を制御するようにした走査型電子顕微鏡におけ
る対物レンズ電流制御方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55126812A JPS5750756A (en) | 1980-09-12 | 1980-09-12 | Objective lens current control method for scan type electron microscope |
| US06/299,009 US4393309A (en) | 1980-09-12 | 1981-09-03 | Method and apparatus for controlling the objective lens in a scanning electron microscope or the like |
| GB8127353A GB2084837B (en) | 1980-09-12 | 1981-09-10 | Method and apparatus for controlling the objective lens in a scanning electron microscope or the like |
| KR1019810003372A KR880002669B1 (ko) | 1980-09-12 | 1981-09-10 | 주사형 전자현미경 또는 유사장치내의 대물렌즈를 제어하기 위한 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55126812A JPS5750756A (en) | 1980-09-12 | 1980-09-12 | Objective lens current control method for scan type electron microscope |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5750756A JPS5750756A (en) | 1982-03-25 |
| JPH0366777B2 true JPH0366777B2 (ja) | 1991-10-18 |
Family
ID=14944563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55126812A Granted JPS5750756A (en) | 1980-09-12 | 1980-09-12 | Objective lens current control method for scan type electron microscope |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4393309A (ja) |
| JP (1) | JPS5750756A (ja) |
| KR (1) | KR880002669B1 (ja) |
| GB (1) | GB2084837B (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3428802A1 (de) * | 1984-08-04 | 1986-02-13 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zur steuerung des fokussierungszustandes eines abgelenkten elektronenstrahls |
| JPS61253756A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-11 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
| GB8622976D0 (en) * | 1986-09-24 | 1986-10-29 | Trialsite Ltd | Scanning electron microscopes |
| JPS63231856A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-27 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡等の制御方法 |
| US4845362A (en) * | 1988-02-02 | 1989-07-04 | North American Philips Corporation | In situ differential imaging and method utilizing a scanning electron microscope |
| JPH01255142A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-12 | Nichidenshi Tekunikusu:Kk | 電子顕微鏡のオートフォーカス回路 |
| JPH02174046A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡およびこれに用いる試料微動装置の制御方法 |
| JPH0766770B2 (ja) * | 1989-03-10 | 1995-07-19 | 株式会社日立製作所 | 電子線照射装置 |
| US5057689A (en) * | 1989-09-20 | 1991-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Scanning electron microscope and a method of displaying cross sectional profiles using the same |
| JP2685603B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1997-12-03 | 日本電子株式会社 | 電子線装置 |
| JPH0582067A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Jeol Ltd | 対物レンズの励磁電流発生方式 |
| FR2737785B1 (fr) * | 1995-08-11 | 1997-10-17 | Matra Mhs | Procede et dispositif de positionnement d'un objet par rapport au point de focalisation d'un microscope |
| US6278114B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-08-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for measuring dimensions of a feature of a specimen |
| JP4121849B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2008-07-23 | オリンパス株式会社 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3715582A (en) * | 1970-02-13 | 1973-02-06 | Hitachi Ltd | Method of and apparatus for attaining focusing following variation in magnification in electron microscope |
| US3842236A (en) * | 1970-03-28 | 1974-10-15 | Steigerwald Strahltech | Process to control the movement of a workpiece with respect to a beam of a stock processing machine operating by means of controllable power irradiation |
| JPS55110044A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Electron beam projector |
-
1980
- 1980-09-12 JP JP55126812A patent/JPS5750756A/ja active Granted
-
1981
- 1981-09-03 US US06/299,009 patent/US4393309A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-09-10 KR KR1019810003372A patent/KR880002669B1/ko not_active Expired
- 1981-09-10 GB GB8127353A patent/GB2084837B/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4393309A (en) | 1983-07-12 |
| KR880002669B1 (ko) | 1988-12-17 |
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