JPS63193446A - 透過形電子顕微鏡における電子線制御装置 - Google Patents
透過形電子顕微鏡における電子線制御装置Info
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- JPS63193446A JPS63193446A JP62024474A JP2447487A JPS63193446A JP S63193446 A JPS63193446 A JP S63193446A JP 62024474 A JP62024474 A JP 62024474A JP 2447487 A JP2447487 A JP 2447487A JP S63193446 A JPS63193446 A JP S63193446A
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- Japan
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- electron beam
- excitation
- amount
- control device
- lens
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は透過形電子顕微蜆の電子線制御装置に係り、特
に電子線プローブ径を切替えても、電子線プローブの逃
げを生ずることがなく、試料上の電子線プローブ照射位
置が変動しないような透過形電子ｍｔ＊鋺における電子
線制御装置に関する。
に電子線プローブ径を切替えても、電子線プローブの逃
げを生ずることがなく、試料上の電子線プローブ照射位
置が変動しないような透過形電子ｍｔ＊鋺における電子
線制御装置に関する。
し従来の技術〕
従来から、電子顕微鏡においては、観察モード（例えば
高倍率モード、低倍率モード、明／暗視野モード、超＾
分散回折モードなど）ごとの電子光学的条件を最適ａす
るために、非点収量補正手段を含めた電子線偏向系に供
給する電流を各モードごとに記憶し、独立に制御するよ
うにしていた（特開昭５ ７ − ２１２７５４ 号公
報）。
高倍率モード、低倍率モード、明／暗視野モード、超＾
分散回折モードなど）ごとの電子光学的条件を最適ａす
るために、非点収量補正手段を含めた電子線偏向系に供
給する電流を各モードごとに記憶し、独立に制御するよ
うにしていた（特開昭５ ７ − ２１２７５４ 号公
報）。
しかし上記のような従来技術では、同一観察モードであ
っても、照射系レンズの励磁便化によって電子線の逃げ
を生ずるが、この逃げに対する配慮はなされていなかっ
た。
っても、照射系レンズの励磁便化によって電子線の逃げ
を生ずるが、この逃げに対する配慮はなされていなかっ
た。
すなわち上記従来技術では、照射レンズ系の励磁を変化
させ、試料に照射される電子線プローブ径を切替んたと
きに、極微小な照射レンズ系の軸ずれなどにより電子線
プローブが試料上で移動し、以前とは異なる試料面上を
照射するという不便があった。
させ、試料に照射される電子線プローブ径を切替んたと
きに、極微小な照射レンズ系の軸ずれなどにより電子線
プローブが試料上で移動し、以前とは異なる試料面上を
照射するという不便があった。
そして、結像レンズ系が、試料を透過した電子線を拡大
しているため、上記電子線プローブの移動が拡大され、
最終像または視野が螢光板からずれてしまって観察でき
なくなるという問題点かある。このために、操作者はそ
の都度、電子線偏向装置及び非点補正装置を再調整しな
ければならず、その操作が燻雑であった。
しているため、上記電子線プローブの移動が拡大され、
最終像または視野が螢光板からずれてしまって観察でき
なくなるという問題点かある。このために、操作者はそ
の都度、電子線偏向装置及び非点補正装置を再調整しな
ければならず、その操作が燻雑であった。
本発明の目的は、電子線プローブ径を切替えても、電子
線プローブが照射する試料位置が変わることをなくした
、透過形竃子顕微鏡に好適な電子線制御装置を提供する
ことにある。
線プローブが照射する試料位置が変わることをなくした
、透過形竃子顕微鏡に好適な電子線制御装置を提供する
ことにある。
上記目的は、電子線偏向装置及び非点補正装置を電子線
プローブ径ごとに独立な系統とすることによって達成さ
れる。
プローブ径ごとに独立な系統とすることによって達成さ
れる。
すなわち、例えば電子線プローブ径（換言すれば、照射
系電子レンズの励磁電流値）ごとに、電子線偏向量及び
非点補正量を独立にメモリ（記憶素子や可変抵抗器など
）に記憶させておくことによって達成できる。
系電子レンズの励磁電流値）ごとに、電子線偏向量及び
非点補正量を独立にメモリ（記憶素子や可変抵抗器など
）に記憶させておくことによって達成できる。
選択されに１所望電子線ブローブ径が変化すると、この
プローブ径に対応して予め記憶された１子線偏向量及び
非点補正量をメモリ上より検索し、その値を出力する。
プローブ径に対応して予め記憶された１子線偏向量及び
非点補正量をメモリ上より検索し、その値を出力する。
従って、それまでに、このプローブ径に対応して、電子
線偏向による軸ａｌｌ整及び非点補正が調整されていれ
ば、それらの値がメモリ上に記憶されているので、プロ
ーブ径を切替えられた場合には、新たなプローブ径に対
する適切な値が検索、使用されることになり、電子線が
逃げることがなく、また非点補正を再調整する必要もな
い。
線偏向による軸ａｌｌ整及び非点補正が調整されていれ
ば、それらの値がメモリ上に記憶されているので、プロ
ーブ径を切替えられた場合には、新たなプローブ径に対
する適切な値が検索、使用されることになり、電子線が
逃げることがなく、また非点補正を再調整する必要もな
い。
第１図は本発明の一実施例を示す構成ブロック図である
。
。
電子銃１より射出した電子ｓｌ人は、照射レンズ系２ｍ
．２ｂ及び対物前磁場レンズ５ａによりて集束され、試
料２０の面上を照射する。試料２０を透過した電子線Ｉ
Ｂは、対物レンズ５ｂをはじめとする結像レンズ系６〜
７によって拡大され、螢光板８に結像する。
．２ｂ及び対物前磁場レンズ５ａによりて集束され、試
料２０の面上を照射する。試料２０を透過した電子線Ｉ
Ｂは、対物レンズ５ｂをはじめとする結像レンズ系６〜
７によって拡大され、螢光板８に結像する。
照射レンズ系の非点補正器３、電子線偏向器４をはじめ
、各レンズの電流（励磁）は、 Ｄ／入変換器１０ａ〜
１０ｇとそれぞれに対応する電源９ａ〜９ｇを介して、
マイクロプロセッサ１１によって制御されている。
、各レンズの電流（励磁）は、 Ｄ／入変換器１０ａ〜
１０ｇとそれぞれに対応する電源９ａ〜９ｇを介して、
マイクロプロセッサ１１によって制御されている。
なお、第１図において、１２は制御のためのプログラム
や、プローブ径をパラメータとする照射レンズ系２ｍ、
２ｂのデータ（励磁電流値）が格納さｎているメモリ（
ＲＯＭ）である。１３は電子線偏向器４や非点補正器３
のデータ（励磁を流値）を６己憶するためのメモ！ｊ
（ＲＡＭ）であり、なるべ（はバッテリでバックアップ
されている。
や、プローブ径をパラメータとする照射レンズ系２ｍ、
２ｂのデータ（励磁電流値）が格納さｎているメモリ（
ＲＯＭ）である。１３は電子線偏向器４や非点補正器３
のデータ（励磁を流値）を６己憶するためのメモ！ｊ
（ＲＡＭ）であり、なるべ（はバッテリでバックアップ
されている。
また、１４は電子−プローブ径切替つまみ、１５は電子
線偏向を調整つまみ、１６は非点（収差）補正用つまみ
である。
線偏向を調整つまみ、１６は非点（収差）補正用つまみ
である。
以上の構成において、切替つまみ１４よりプローブ径を
変化させるような信号が入力されると、マイクロプロセ
ッサ１１は新たなプローブ径に対応する照射レンズ系２
ｍ、２ｂのデータをメモリ１２より検索し、その値をＤ
／人変換器１０麿。
変化させるような信号が入力されると、マイクロプロセ
ッサ１１は新たなプローブ径に対応する照射レンズ系２
ｍ、２ｂのデータをメモリ１２より検索し、その値をＤ
／人変換器１０麿。
１０ｂに出力する。同時に、そのプローブ径に対応する
電子線偏向器と非点補正量をメモリ１３より検索し、
Ｄ／人変換器９ｃ、９ｄに出力する。
電子線偏向器と非点補正量をメモリ１３より検索し、
Ｄ／人変換器９ｃ、９ｄに出力する。
ｙ１記のように、メモリ１２８よび１３に記憶された値
（励磁電流値）は、所望の電子線プローブ径に対して適
正にｇ整されたものであるから、通常の状態では、以上
の操作によって所望の、すなわちつまみ１４で選択した
プローブ径が得られるはずである。
（励磁電流値）は、所望の電子線プローブ径に対して適
正にｇ整されたものであるから、通常の状態では、以上
の操作によって所望の、すなわちつまみ１４で選択した
プローブ径が得られるはずである。
しかし、経時変化や環境変化などを生じている場合や、
選択されたプローブ径に対する諸データが未だ記憶され
ていない場合には、前述の操作によって得られた照射レ
ンズ系２ａ、２ｂおよび非点補正器３、電子線偏向器４
などのデータは適正でないものとなる。それ故に、この
ままでは所望の電子−プローブ径が得られない。
選択されたプローブ径に対する諸データが未だ記憶され
ていない場合には、前述の操作によって得られた照射レ
ンズ系２ａ、２ｂおよび非点補正器３、電子線偏向器４
などのデータは適正でないものとなる。それ故に、この
ままでは所望の電子−プローブ径が得られない。
このように、メモリ１２．１３から検索されたデータ値
が適正でない状態の場合には、操作者が螢光板８上の像
または視野の明るさやサイズを観察しながら、電子線偏
向つまみ１５または／および非点補正つまみ１６を用い
て、これらが適正になるように、ｘｉする。
が適正でない状態の場合には、操作者が螢光板８上の像
または視野の明るさやサイズを観察しながら、電子線偏
向つまみ１５または／および非点補正つまみ１６を用い
て、これらが適正になるように、ｘｉする。
さらに具体約６こいえば、マイクロプロセッサ１１はつ
まみ１５および１６によって設定さｎた偏向量または非
点補正量を胱込み、現在 Ｄ／入変供器１０ｃ、１０ｄ
に出力している厘（例えば、検索値）と加算した＊ Ｄ
／λ変換器１０ｃ、１０ｄにその結果を出力する。さら
に、これとともにＲＡＭ１３上にこれらの出力１直を記
憶する。
まみ１５および１６によって設定さｎた偏向量または非
点補正量を胱込み、現在 Ｄ／入変供器１０ｃ、１０ｄ
に出力している厘（例えば、検索値）と加算した＊ Ｄ
／λ変換器１０ｃ、１０ｄにその結果を出力する。さら
に、これとともにＲＡＭ１３上にこれらの出力１直を記
憶する。
または非点（収差）補正用つまみ１６を調整して、電子
線プローブの位置や形状を所望の値にｉ！１ｉＪｉｉＬ
。
線プローブの位置や形状を所望の値にｉ！１ｉＪｉｉＬ
。
終ると、その時のプローブ径をパラメータとして、偏向
蓋および非点補正器がメモリ１３に記憶されることにな
る。
蓋および非点補正器がメモリ１３に記憶されることにな
る。
このような処理（プローブ径の調整およびデータ記憶）
を全プローブ径ごとに一旦行なっておけば、つまみ１４
によってプローブ径を切替えても電子線プローブが試料
２０の面上で移動することはない。
を全プローブ径ごとに一旦行なっておけば、つまみ１４
によってプローブ径を切替えても電子線プローブが試料
２０の面上で移動することはない。
以上の実施例では、プローブ径を段階的に切替える場合
について説明したが、プローブ径を連続的に変化させた
い場合には、各段階ごとの記憶値から補間演算し、その
任意のプローブ径に対する偏向量、補正量を求め、対応
する Ｄ／人変換器に出力するようにすれば、上記と同
様にプローブ移動を防止できることは明らかである。
について説明したが、プローブ径を連続的に変化させた
い場合には、各段階ごとの記憶値から補間演算し、その
任意のプローブ径に対する偏向量、補正量を求め、対応
する Ｄ／人変換器に出力するようにすれば、上記と同
様にプローブ移動を防止できることは明らかである。
濾および非点補正量を、個々の対応する可変抵抗素子な
どによってプリセットすることも可能であり、さらには
偏向器および非点補正量に対して共通の可変抵抗素子を
準備し、各電子線プローブ径ごとに調整した抵抗値、電
圧値、電流値、または可動接点位置などを記憶しておき
、選択された電子プローブ径に応じて、適宜の手段（例
えば、サーボ機構など）によってそれらの値を再現する
ようにすることもできる。
どによってプリセットすることも可能であり、さらには
偏向器および非点補正量に対して共通の可変抵抗素子を
準備し、各電子線プローブ径ごとに調整した抵抗値、電
圧値、電流値、または可動接点位置などを記憶しておき
、選択された電子プローブ径に応じて、適宜の手段（例
えば、サーボ機構など）によってそれらの値を再現する
ようにすることもできる。
本発明によれは、被検試料を照射する電子線プローブ径
を切替えても、°電子線プローブが試料面上で逃げるよ
うなことがなく、常に同一点を照射するようになるので
、電子顕微鏡の操作性向上に多大の効果がある。
を切替えても、°電子線プローブが試料面上で逃げるよ
うなことがなく、常に同一点を照射するようになるので
、電子顕微鏡の操作性向上に多大の効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す講成ブロック図である
。 １・・・電子銃、２ａ 、２ｂ・・・照射レンズ系、３
・・・非点補正器、４・・・電子線偏向器、５ａ、５ｂ
・・・対物レンズ、６，７・・・結像レンズ、８・・・
螢光板、９ａ〜９ｇ−＠源、 １ ０ ｍ−１０ｇ−
Ｄ／人変換器、１１・・・マイクロプロセッサ、１２・
・・メモリ （ＲＯＭ）、１３・・・メモリ（ＲＡＭ）
、１４・・・プローブ径切替つまみ、１５・・・′成子
線偏向ｉｉ、、１４整つまみ、１６・・・非点（収差）
補正用つま６．２０・・・試料
。 １・・・電子銃、２ａ 、２ｂ・・・照射レンズ系、３
・・・非点補正器、４・・・電子線偏向器、５ａ、５ｂ
・・・対物レンズ、６，７・・・結像レンズ、８・・・
螢光板、９ａ〜９ｇ−＠源、 １ ０ ｍ−１０ｇ−
Ｄ／人変換器、１１・・・マイクロプロセッサ、１２・
・・メモリ （ＲＯＭ）、１３・・・メモリ（ＲＡＭ）
、１４・・・プローブ径切替つまみ、１５・・・′成子
線偏向ｉｉ、、１４整つまみ、１６・・・非点（収差）
補正用つま６．２０・・・試料
Claims (5)
- （１）電子線を試料上に集束照射する照射レンズ系の各
レンズの励磁を可変する手段と、結像レンズ系と電子銃
の間に位置する非点補正器および軸調整用電子線偏向装
置の少なくとも一方とを有する透過形電子顕微鏡におけ
る電子線制御装置であって、 照射レンズ系を構成する少なくとも一部のレンズの励磁
量をパラメータとして、前記非点補正器および電子線偏
向装置の少なくとも一方の励磁量を記憶する手段と、 前記レンズの励磁量を選択する手段と、 選択された前記レンズの励磁量をパラメータとして、前
記非点補正器および電子線偏向装置の少なくとも一方の
励磁量を読出す手段と、 読出された励磁量に応じて前記非点補正器および電子線
偏向装置の少なくとも一方を付勢する手段とを見備した
ことを特徴とする透過形電子顕微鏡における電子線制御
装置。 - （２）励磁量を記憶する手段はメモリであるを特徴とす
る前記特許請求の範囲第１項記載の透過形電子顕微鏡に
おける電子線制御装置。 - （３）励磁量を記憶する手段は可変抵抗器であるを特徴
とする前記特許請求の範囲第１項記載の透過形電子顕微
鏡における電子線制御装置。 - （４）励磁量の記憶は、レンズの励磁量の段階的な値に
対して行なわれることを特徴とする前記特許請求の範囲
第１項ないし第３項のいずれかに記載の透過形電子顕微
鏡における電子線制御装置。 - （５）前記段階的なレンズ励磁量の中間値に対する前記
非点補正器および電子線偏向装置の少なくとも一方の励
磁量は、補間演算によって求められることを特徴とする
前記特許請求の範囲第４項記載の透過形電子顕微鏡にお
ける電子線制御装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62024474A JPH0654639B2 (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 透過形電子顕微鏡における電子線制御装置 |
| US07/151,962 US4851674A (en) | 1987-02-06 | 1988-02-03 | Electron beam control apparatus for use in transmission electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62024474A JPH0654639B2 (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 透過形電子顕微鏡における電子線制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63193446A true JPS63193446A (ja) | 1988-08-10 |
| JPH0654639B2 JPH0654639B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=12139162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62024474A Expired - Lifetime JPH0654639B2 (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 透過形電子顕微鏡における電子線制御装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4851674A (ja) |
| JP (1) | JPH0654639B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09312142A (ja) * | 1996-05-23 | 1997-12-02 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
| JP2002216695A (ja) * | 2001-01-15 | 2002-08-02 | Topcon Denshi Beam Service:Kk | 分析透過型電子顕微鏡 |
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|---|---|---|---|---|
| DE3825103A1 (de) * | 1988-07-23 | 1990-01-25 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zum beleuchten eines objektes in einem transmissions-elektronenmikroskop |
| JP2685603B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1997-12-03 | 日本電子株式会社 | 電子線装置 |
| US5107113A (en) * | 1990-12-26 | 1992-04-21 | Bell Communications Research, Inc. | Method and apparatus for correcting distortions in scanning tunneling microscope images |
| JP2777505B2 (ja) * | 1992-07-29 | 1998-07-16 | 株式会社日立製作所 | 自動分析電子顕微鏡および分析評価方法 |
| DE4328649A1 (de) * | 1993-08-26 | 1995-03-02 | Zeiss Carl Fa | Elektronenoptisches Abbildungssystem mit regelbaren Elementen |
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| JP7460779B2 (ja) * | 2020-08-24 | 2024-04-02 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子ビーム装置 |
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| JPS5814460A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Internatl Precision Inc | 電子顕微鏡の焦点合わせ方法及びこの方法を応用した像撮影方法及び装置 |
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-
1987
- 1987-02-06 JP JP62024474A patent/JPH0654639B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-02-03 US US07/151,962 patent/US4851674A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4851674A (en) | 1989-07-25 |
| JPH0654639B2 (ja) | 1994-07-20 |
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