JPH0367126A - 測定位置決定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野〕 本発明は、被測定対象物を当該被測定対象物の任意の平
面内で、等面積に区分した複数の被測定区画の中心部に
測定点を設け、偏りがなく均一な被測定対象物の特性を
測定する方法に関するものである。

［従来の技術］ 従来のこの種の測定方法によれば、例えば第２図に示す
ように半径Ｒを持つ円形の測定頭域において、当該被測
定領域と共通の中心を持つ２つの同心円Ｊｌ及びＪ２上
と、それらの円の中心に測定点が設定される。第２図に
おいて、Ａは被測定領域、Ｊｌ及びＪ２は被測定領域Ａ
と共通の中心を持つ同心円、 Ｓ　ｉｊ　（ｉ　＝０．ｌ、２，３　；　　ｊ＝Ｏ，ｌ
、２゜・・・・１９）は：測定点である。

この従来技術においては、同心円の半径は、被測定領域
Ａの半径をＲとしたとき、それぞれ０゜４Ｒ及び０．８
Ｒとなるように設定される。このため半径が大きい方の
同心円Ｊ２の円周は、半径が小さい方の同心円Ｊｌの円
周の２倍となるから、これに合わせて半径が大きい方の
同心円Ｊ２上の測定点の数は、半径が小さい方の同心円
Ｊｌの測定点の数の２倍に設定されている。

このような■１ｊ定点の設定方法によると、測定対象領
ＶｉＡにおける測定点の面密度、すなわち単位被測定領
域面積当りの測定点の数は、測定対象領域Ａの全域にわ
たって均一とはならない。従ってこのような測定点を用
いて被測定領域Ａの測定を行った場合、互いに等面積の
領域についての測定値結果が得られないから、測定の結
果に偏りを生じる欠点を内在している。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、上記の従来の測定位置決定方法における欠点
を解消し、任意の被測定対象物の平面を、偏りなく均一
に測定する方法を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 上記課題を解決するために、本発明においては、被測定
領域を等面積を有する複数の被測定区画に分割し、それ
ぞれの被測定区画のほぼ中央に１個の測定点を設定する
。

［作用コ 被測定対象物が円である場合、半径方向に同心円によっ
て分割し、最内周の外側にある領域を回転角方向に分割
する。これらの分割によって設定された領域を被測定区
画とし、被測定区画の面積は互いに等しくなるように各
同心円の半径及び区画数を設定する。また、最内周を除
き、各被測定区画について、半径方向及び回転角方向で
面積を２等分する補助線の交点を測定点として設定する
。

［実施例］ 第１図は、本発明の詳細な説明するための図であって、
Ａは被測定対象物の平面内に定義された円形の被測定領
域、Ｉｆ、Ｉ２及びＩ３は被測定領域Ａと共通の中心を
持っ内円、Ｌｌ、Ｌ２゜及びＬ３は被測定領域と共通の
中心を持つ補助内、Ｓ　ｉｊ　（ｉ　＝０．１．２，３
　；　　ｊ＝０．ｌ、２．・・・・、９）は測定点であ
る。

第１図の実施例においては、被測定領域Ａは、３つの内
円Ｉｆ、１２．　　及びＩ３ζこより半径方向に４分割
され、それらの内円のうちで最も半径の小さい最内周１
１の外側にある被測定領域は、最内内■１の回転角方向
に等回転角で８分割されている。

上記の回転角方向での分割は、内円１１及びＩ２で囲ま
れた被測定領域、内円Ｉ２及びＩ３で囲まれた被測定領
域、内円Ｉ３の外部の被測定領域で、それぞれ異なった
方法で行われている。

上記の方法によって分割して区分された最内周の外部の
同心円の一部を周囲に持つ被測定領域と、最内周の内部
の被測定領域を被測定区画とし、その被測定区画のそれ
ぞれの面積は等しくなるように設定されている。

第１図の実施例において、最内内■１の半径をｒｌ、そ
の外側の内円（同心円）Ｉ２の半径をＩ２、内円Ｉ３の
半径をＩ３、被測定領域Ａの半径をＩ４としたとき、そ
れぞれの被測定区画の面積は、次の式によって計算する
ことができる。

内円Ｉ１の面積：８１ ａｌ＝π・ｒｌ２ 内円Ｉ１の外側の被測定区画の面積：ａ２ａ２＝（π・
Ｉ２”−π・ｒｌ２）／８＝π（Ｉ２２−ｒ　１”）／
８ 内円Ｉ２の外側の被測定区画の面積：ａ３ａ３＝（π・
Ｉ３２−π・Ｉ２２）／８＝π　（Ｉ３２−Ｉ２２）／
８ 内円Ｉ３の外側の被測定区画の面積：ａ４ａ４＝（π・
Ｉ４２−π・Ｉ３２）／８＝π（Ｉ４２−Ｉ３２）／８ 第１図の実施例においては、区画数を８としたが、この
数に限定されるものではない。本発明においては、要す
るにそれぞれの被測定区画を等面積に決定するのである
から、一般に、各被測定区画の面積が、ａｌ＝ａ２＝ａ
３＝ａ４、という条件を満足するように、各半径、区画
数等を選定すれば良い。

次に、被測定区画の面積を２等分するように定義された
補助内Ｌｌ、Ｌ２．　　およびＬ３と、当該被測定区間
の面積を２等分し、被測定領域の中心を通るように定義
された補助直線（第１図においては、８２３の点を通る
補助直線りによって例示する）の交点の位置に測定点ｓ
ｌｊを設定する。

さらに測定点Ｓ２ｊの位置座標は測定点Ｓｌｊの位置座
標に対して、被測定領域の中心を原点とし、当該原点の
回りを反時計方向に１５度向回転た回転角を持つように
設定する。面様に測定点Ｓ３ｊの位置座標は測定点Ｓ２
ｊの位置座標に対して、当該原点の回りを反時計方向に
１５度回転した回転角を持つように設定されている。

このように測定点Ｓｌｊが設定されているために、被測
定領域Ａにおける測定点の面密度、つまり単位被測定領
域面積当りの測定点数、は偏りがなく均一となり、当該
１１１１＋定点を用いることにより当該被測定領域Ａを
均一に測定することができる。

本実施例は被測定区間を３つの内円により半径方向に４
分別し、回転角方向に８分１１」シた場合を示している
が、被測定対象物の平面内の均一性に応じ、半径方向及
び回転角方向の分割数を自由に設定することができ、こ
のときの測定点位置は、本実施例と同様の方法により、
容易に求めることができる。

また、本発明の方法を実施するための装置としては、数
値処理装置、所定の計算手順とデータを記憶するための
メモリ、計算結果に基づいて、被測定対象物の平面内に
測定点を設定するための測定点プロッタを構成要素とし
て実現することができる。このような装置に」二記の同
心円の半径、区画数等の測定点の決定に必要な要素の数
値をパラメータとして入力し、上記の測定点を算出する
ための手法に従って測定点の座標を算出し、座標データ
の制御によって具体的な測定点の設定を順次行うことが
可能となる。

本発明は、上記のような構成を備えているから、例えば
、シリコンウェハの表面に測定点を設定して、表面全体
にわたり、比抵抗、格子欠陥密度、等の物理的測定を実
施し、シリコンウェハの品質評価を厳密に行う場合に好
適である。その他にも、例えば光ディスクあるいは磁気
ディスク等の記録媒体における記録特性の■（１定、各
種材料の表面における物性試験等を実施する際に、被測
定対象物の平面内において均一な測定点の設定を行う場
合にきわめて有効である。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の測定方法では被測定対象
物の平面に円形あるいは矩形の被測定領域を定義し、当
該被測定領域を等面積を持つ被測定区画に分割し、それ
ぞれの被測定区画のほぼ中央に各１個の測定点を設定す
るため、当該測定領域における測定点の面密度が均一と
なり、当該測定点を用いると偏りのない均一な測定を行
うことができる。このため被測定領域の均質性を検査し
たり、被測定領域内での均質性の場所依存性を正しく測
定することができる。

また、本発明の方法は、論理的かつ数値的に測定点を設
定することができるから、再現性が良好であり、被測定
対象物の平面に自動的に測定点の設定を行う装置を実現
することができる。また、測定点の数、分布等の要素を
パラメータとして与えることにより、測定点を設定する
ことが可能である。

の位置を示している。

Ａ・・―・・被測定領域 Ｊｌ及びＪ２１１・・・・被測定領域と共通の中心を持
つ同心円 ＬＸ、Ｌ２及びＬ３・・◆＠＠被測定領域と共通の中心
を持つ補助円 ＩＩ、１２及ＵＩ３ｍ−＠−−被ｍ）Ｊ定領域と共通の
中心を持つ内円 ＳｉＪ　（ｔ　＝ｏ＋　　Ｌ　　２＋　　３：　　Ｊ　
＝０１　１１　２１　３１・・・、９）・・・・・測定
点

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 被測定対象物を当該被測定対象物の任意の平面内で測定
   する方法であって、当該平面に円形被測定領域を定義し
   、当該被測定領域を等面積を持つ複数の被測定区画に分
   割し、被測定対象物の平面上で、かつ、複数のそれぞれ
   の被測定区画のほぼ中央に各１個の測定点を設定するこ
   とを特徴とする測定位置決定方法。