JPH0368988A - ホログラム形成面の加工方法 - Google Patents
ホログラム形成面の加工方法Info
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- JPH0368988A JPH0368988A JP20469989A JP20469989A JPH0368988A JP H0368988 A JPH0368988 A JP H0368988A JP 20469989 A JP20469989 A JP 20469989A JP 20469989 A JP20469989 A JP 20469989A JP H0368988 A JPH0368988 A JP H0368988A
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- Japan
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- hologram
- hologram forming
- forming surface
- sheet
- ink layer
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- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/024—Hologram nature or properties
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
- G03H1/182—Post-exposure processing, e.g. latensification
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
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- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
- G03H2250/36—Conform enhancement layer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
- G03H2250/40—Printed information overlapped with the hologram
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ホログラムが形成されている面の加工方法に
関する。
関する。
近年、光の干渉縞を記録材料の表面の凹凸パターンとし
て記録するいわゆるホログラムレリーフを用いたホログ
ラムの複製が行われている。このホログラムの複製は、
ホログラムレリーフが形成されているホログラムレリー
フ原版を用いて樹脂シートにエンボス加工を行い、樹脂
の凹凸面、すなわちホログラム形成面に金属蒸着を施す
ものである。
て記録するいわゆるホログラムレリーフを用いたホログ
ラムの複製が行われている。このホログラムの複製は、
ホログラムレリーフが形成されているホログラムレリー
フ原版を用いて樹脂シートにエンボス加工を行い、樹脂
の凹凸面、すなわちホログラム形成面に金属蒸着を施す
ものである。
しかし、ホログラムそれ自体は意匠性に優れるものであ
るが、商品によってはシート、包装袋等の全体がホログ
ラムパターンを有することによって逆に意匠性が低下す
る場合がある。
るが、商品によってはシート、包装袋等の全体がホログ
ラムパターンを有することによって逆に意匠性が低下す
る場合がある。
本発明は、このような事情に鑑み創案されたものであり
、ホログラム形成面の所望の領域にのみホログラムパタ
ーンを設けることのできるホログラム形成面の加工方法
を提供することを目的とする。
、ホログラム形成面の所望の領域にのみホログラムパタ
ーンを設けることのできるホログラム形成面の加工方法
を提供することを目的とする。
本発明は、ホログラム形成面の所定領域にインキ層を設
けた後、前記ホログラム形成面及びインキ層に金属反射
層を設けるような構成とした。
けた後、前記ホログラム形成面及びインキ層に金属反射
層を設けるような構成とした。
シート上に形成されたホログラム形成面の所定領域にイ
ンキ層が設けられ、その後前記ホログラム形成面及び前
記インキ層上に金属反射層が設けられる。このため、前
記インキ層が設けられたホログラム形成面においては、
前記インキが有色あるいは無色であるかに関係なく、ホ
ログラムパターンの凹部が埋められるので、ホログラム
パターンは消失し、シート、インキ層が設けられていな
い領域にのみ金属光沢を有するホログラムパターンを形
成することができる。従って、ホログラムパターンが回
折格子のような単純なものであっても、印刷と組み合わ
せることにより種々の異なつたパターンを形成すること
ができる。
ンキ層が設けられ、その後前記ホログラム形成面及び前
記インキ層上に金属反射層が設けられる。このため、前
記インキ層が設けられたホログラム形成面においては、
前記インキが有色あるいは無色であるかに関係なく、ホ
ログラムパターンの凹部が埋められるので、ホログラム
パターンは消失し、シート、インキ層が設けられていな
い領域にのみ金属光沢を有するホログラムパターンを形
成することができる。従って、ホログラムパターンが回
折格子のような単純なものであっても、印刷と組み合わ
せることにより種々の異なつたパターンを形成すること
ができる。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を説明するための
ホログラム形成シートの概略断面図である。まず、ホロ
グラム形成シート1において、第1図に示されるように
、ホログラム形成面2にインキ層3が積層される。この
インキ層3を設層する所定領域は、シート、包装袋等の
内ホログラムパターンが要求されない領域を意匠性等の
点から適宜決定することができる。インキ層3は、例え
ば通常のグラビア印刷用のインキをグラビア印刷によっ
て設層等したものでよく、このインキは有色でも無色の
ものでもよい。また、このインキ層の厚さは通常1〜5
μm程度が好ましい。
ホログラム形成シートの概略断面図である。まず、ホロ
グラム形成シート1において、第1図に示されるように
、ホログラム形成面2にインキ層3が積層される。この
インキ層3を設層する所定領域は、シート、包装袋等の
内ホログラムパターンが要求されない領域を意匠性等の
点から適宜決定することができる。インキ層3は、例え
ば通常のグラビア印刷用のインキをグラビア印刷によっ
て設層等したものでよく、このインキは有色でも無色の
ものでもよい。また、このインキ層の厚さは通常1〜5
μm程度が好ましい。
次に、第2図に示されるように、ホログラム形成シート
1において、上記ホログラム形成面2およびインキ層3
の上には金属反射層4が設層される。この金属反射層4
は、アルミニウム等の金属、酸化亜鉛等の金属酸化物等
を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等
によって設層したものでよい。金属反射層4の厚さは通
常20〜80nm程度が好ましい。
1において、上記ホログラム形成面2およびインキ層3
の上には金属反射層4が設層される。この金属反射層4
は、アルミニウム等の金属、酸化亜鉛等の金属酸化物等
を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等
によって設層したものでよい。金属反射層4の厚さは通
常20〜80nm程度が好ましい。
このようにホログラム形成シート1のホログラム形成面
2にグラビア印刷等を施し、インキ層3を設層すること
により、インキ層厚さに比べて深さの浅いホログラムパ
ターンの凹部がインキ層によって埋められ、かつインキ
層3の表面はホログラムパターンの凹凸に関係なく平坦
なものとなる。
2にグラビア印刷等を施し、インキ層3を設層すること
により、インキ層厚さに比べて深さの浅いホログラムパ
ターンの凹部がインキ層によって埋められ、かつインキ
層3の表面はホログラムパターンの凹凸に関係なく平坦
なものとなる。
したがって、インキ層3が設層された部分のホログラム
パターンが消失し、さらにホログラム形成シート1のホ
ログラム形成面2およびインキ層3上に金属反射層4が
積層されることにより、ホログラム形成シート1のホロ
グラム形成面2のインキ層3が設層されなかった部分に
おいてのみ金属光沢を有するホログラムパターンが形成
されることになる。
パターンが消失し、さらにホログラム形成シート1のホ
ログラム形成面2およびインキ層3上に金属反射層4が
積層されることにより、ホログラム形成シート1のホロ
グラム形成面2のインキ層3が設層されなかった部分に
おいてのみ金属光沢を有するホログラムパターンが形成
されることになる。
第3図及び第4図は本発明の他の実施例を説明するため
のホログラム形成シートの概略断面図である。まず、ホ
ログラム形成シート5において、第3図に示されるよう
に、基材シート6上に押し出し成形された樹脂層7のホ
ログラム形成面8の所定領域にインキ層9が設層される
。
のホログラム形成シートの概略断面図である。まず、ホ
ログラム形成シート5において、第3図に示されるよう
に、基材シート6上に押し出し成形された樹脂層7のホ
ログラム形成面8の所定領域にインキ層9が設層される
。
次に、第4図に示されるように、ホログラム形成シート
5において、上記ホログラム形成面8およびインキ層9
の上には金属反射層10が設層される。
5において、上記ホログラム形成面8およびインキ層9
の上には金属反射層10が設層される。
本発明において対象となるホログラム形成面2は押出し
成形によってシート成形と同時に形成されたホログラム
形成面である。第5図は本発明において対象となるホロ
グラム形成面2を説明するための押出しラミネータ20
の概略図である。
成形によってシート成形と同時に形成されたホログラム
形成面である。第5図は本発明において対象となるホロ
グラム形成面2を説明するための押出しラミネータ20
の概略図である。
第5図において、押出しラミネータ20は、溶融された
樹脂を薄膜状に押し出すためのTダイ21と、Tダイ2
1から押し出された溶融薄膜状樹脂22を押圧・冷却す
るための冷却ロール23およびニップロール24と、成
形されたホログラム形成シート1を巻き取るためのワイ
ングー25とを有している。
樹脂を薄膜状に押し出すためのTダイ21と、Tダイ2
1から押し出された溶融薄膜状樹脂22を押圧・冷却す
るための冷却ロール23およびニップロール24と、成
形されたホログラム形成シート1を巻き取るためのワイ
ングー25とを有している。
Tダイ21は特に制限はなく、合成樹脂シート成形用の
通常のTダイを用いることができる。樹脂としては、ポ
リプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂
、ポリカーボネート樹脂、エチレン−ビニルアルコール
共重合体等使用することができる。また、これらの樹脂
は後述する金属反射層形成工程においてガス化するよう
な添加剤を含有しないものが好ましい。
通常のTダイを用いることができる。樹脂としては、ポ
リプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂
、ポリカーボネート樹脂、エチレン−ビニルアルコール
共重合体等使用することができる。また、これらの樹脂
は後述する金属反射層形成工程においてガス化するよう
な添加剤を含有しないものが好ましい。
Tダイ21から薄膜状に押し出される樹脂22の膜厚は
5〜100μm程度が好ましい。膜厚が5μm未満では
シート強度が不十分であり、また後述する基材シートと
のラミネートにおける密着性が不十分となり、膜厚が1
00μmを越えると透明性が低下しホログラムの識別性
が低下するという問題がある。
5〜100μm程度が好ましい。膜厚が5μm未満では
シート強度が不十分であり、また後述する基材シートと
のラミネートにおける密着性が不十分となり、膜厚が1
00μmを越えると透明性が低下しホログラムの識別性
が低下するという問題がある。
冷却ロール23は第6図に示されるように、その周面に
ホログラムレリーフ原版26を備えている。ホログラム
レリーフ原版26としては、(1)フォトレジストを感
光材料としてレリーフ状干渉縞を記録した2次ホログラ
ム面に化学銀メツキを施し、その上にニッケル(Ni)
メツキを施した後、Ni金属膜を剥離して形成したレリ
ーフ版(プレスマスク版)、(2)上記(1)のプレス
マスク版のレリーフ面に剥離処理を行った後に再びNi
メツキを施し、このNi金属膜を剥離して形成したレリ
ーフ版、または(3)熱可塑性樹脂のシートあるいはフ
ィルムを上記(2)のレリーフ版で熱プレスして形成し
たレリーフ版等を用いることができる。この中では、押
出し成形特のレリーフ版の耐久性の点から上記(1)、
(2)のNiレリーフ版が好ましい。
ホログラムレリーフ原版26を備えている。ホログラム
レリーフ原版26としては、(1)フォトレジストを感
光材料としてレリーフ状干渉縞を記録した2次ホログラ
ム面に化学銀メツキを施し、その上にニッケル(Ni)
メツキを施した後、Ni金属膜を剥離して形成したレリ
ーフ版(プレスマスク版)、(2)上記(1)のプレス
マスク版のレリーフ面に剥離処理を行った後に再びNi
メツキを施し、このNi金属膜を剥離して形成したレリ
ーフ版、または(3)熱可塑性樹脂のシートあるいはフ
ィルムを上記(2)のレリーフ版で熱プレスして形成し
たレリーフ版等を用いることができる。この中では、押
出し成形特のレリーフ版の耐久性の点から上記(1)、
(2)のNiレリーフ版が好ましい。
ホログラムレリーフ原版26の冷却ロール23の周面へ
の配設方法は、接着剤による貼合、真空吸着による固着
、ボルトによる装着等いずれでもよく、押出し成形特に
脱落しないような配役方法であれば特に制限はない。ま
た、冷却ロール23の周面へのホログラムレリーフ原版
26の配設数、配設パターン、配設間隔等は目的とする
ホログラム形成シートに応じて適宜決定することができ
る。
の配設方法は、接着剤による貼合、真空吸着による固着
、ボルトによる装着等いずれでもよく、押出し成形特に
脱落しないような配役方法であれば特に制限はない。ま
た、冷却ロール23の周面へのホログラムレリーフ原版
26の配設数、配設パターン、配設間隔等は目的とする
ホログラム形成シートに応じて適宜決定することができ
る。
そして、冷却ロール23の周面に配設するホログラムレ
リーフ原版26を適宜能のホログラムレリーフ原版に変
えることによって、例えば同一形状の樹脂シートにおい
て、その使用目的等に応じてホログラムパターンを変え
ることができる。
リーフ原版26を適宜能のホログラムレリーフ原版に変
えることによって、例えば同一形状の樹脂シートにおい
て、その使用目的等に応じてホログラムパターンを変え
ることができる。
冷却ロール23の温度は、Tダイ21から押し出される
樹脂22の膜厚、押出し量等から決定することができ、
通常15〜25℃程度が好ましい。
樹脂22の膜厚、押出し量等から決定することができ、
通常15〜25℃程度が好ましい。
上述の押出しラミネータ20のTダイ21から薄膜状に
押し出された溶融樹脂22は、冷却ロール23およびニ
ップロール24とによって押圧・冷却されてシート1に
成形されるが、この際、冷却ロール23の局面に配設さ
れたホログラムレリーフ原版26によってホログラム形
成面2が一体的にシート1に形成される(第1図参照)
。
押し出された溶融樹脂22は、冷却ロール23およびニ
ップロール24とによって押圧・冷却されてシート1に
成形されるが、この際、冷却ロール23の局面に配設さ
れたホログラムレリーフ原版26によってホログラム形
成面2が一体的にシート1に形成される(第1図参照)
。
第7図は、本発明において対象となるホログラム形成面
の他の例を説明するための押出しラミネータ30の概略
図である。第7図において、押出しラミネータ30は、
第5図に示される押出しラミネータ20に加えて、アン
ワインダ−27から基材シート6を冷却ロール23およ
びニップロール24間に供給できるように構成されてい
る。このため、ラミネータ30のTダイ21から薄膜状
に押し出された溶融樹脂22は、基材シート6とラミネ
ートされ冷却ロール23およびニップロール24とによ
って押圧・冷却されてシート5に成形されるが、この際
、冷却ロール23の周面に配設されたホログラムレリー
フ原版によってホログラム形成面が樹脂層7側に一体的
に形成される(第3図参照)。
の他の例を説明するための押出しラミネータ30の概略
図である。第7図において、押出しラミネータ30は、
第5図に示される押出しラミネータ20に加えて、アン
ワインダ−27から基材シート6を冷却ロール23およ
びニップロール24間に供給できるように構成されてい
る。このため、ラミネータ30のTダイ21から薄膜状
に押し出された溶融樹脂22は、基材シート6とラミネ
ートされ冷却ロール23およびニップロール24とによ
って押圧・冷却されてシート5に成形されるが、この際
、冷却ロール23の周面に配設されたホログラムレリー
フ原版によってホログラム形成面が樹脂層7側に一体的
に形成される(第3図参照)。
基材シート6としては、延伸ポリプロピレンフィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム、セ
ロファンフィルム等を使用することができる。基材シー
ト6の厚さは、10〜200μm程度が好ましい。また
、必要に応じて基材シート6の溶融樹脂22とのラミネ
ート側にアンカー剤、酸変性ポリオレフィン等の接着剤
等を塗布してもよい。
ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム、セ
ロファンフィルム等を使用することができる。基材シー
ト6の厚さは、10〜200μm程度が好ましい。また
、必要に応じて基材シート6の溶融樹脂22とのラミネ
ート側にアンカー剤、酸変性ポリオレフィン等の接着剤
等を塗布してもよい。
つぎに、実験例を示して本発明を更に詳細に説明する。
実験例−1
第5図に示されるような押出しラミネータ20において
、下記のポリプロピレン樹脂を用いて、下記の押し出し
条件で押出しラミネートを行ってホログラム形成シート
を製造した。この場合、冷却ロールには、プレスマスク
版のレリーフ面に剥離処理を行った後に再びNiメツキ
を施し、このNi金属膜を剥離して形成したホログラム
レリーフ版を接着剤を用いて貼合した。
、下記のポリプロピレン樹脂を用いて、下記の押し出し
条件で押出しラミネートを行ってホログラム形成シート
を製造した。この場合、冷却ロールには、プレスマスク
版のレリーフ面に剥離処理を行った後に再びNiメツキ
を施し、このNi金属膜を剥離して形成したホログラム
レリーフ版を接着剤を用いて貼合した。
・ポリプロピレン樹脂
三井石油化学工業製LA−221
・押し出し条件
スクリューL/D=24
シリンダー温度=160℃、180℃。
240 ’C
アダプター温度=260℃
Tダイ温度=280℃
成形厚み2100μm
冷却ロール温度=23℃
このホログラム形成シートの所定領域にウレタン系グラ
ビアインキ(大日精化製ラミックF220白)をグラビ
ア印刷することにより、1μmの層厚でインキ層を設け
た後、このインキ層及びホログラム形成面に50nmの
層厚でアルミニウムを蒸着したところ、前記インキ層が
形成されていない領域にのみ金属光沢のホログラムパタ
ーンを有するホログラム形成シートが得られた。
ビアインキ(大日精化製ラミックF220白)をグラビ
ア印刷することにより、1μmの層厚でインキ層を設け
た後、このインキ層及びホログラム形成面に50nmの
層厚でアルミニウムを蒸着したところ、前記インキ層が
形成されていない領域にのみ金属光沢のホログラムパタ
ーンを有するホログラム形成シートが得られた。
実験例−2
第7図に示されるような押出しラミネータ30において
、下記のポリプロピレン樹脂、基材シートを用いて、下
記の押し出し条件で押出しラミネートを行ってホログラ
ム形成シートを製造した。
、下記のポリプロピレン樹脂、基材シートを用いて、下
記の押し出し条件で押出しラミネートを行ってホログラ
ム形成シートを製造した。
この場合、冷却ロールには、実験例−1と同様のホログ
ラムレリーフ版を接着剤を用いて貼合した。
ラムレリーフ版を接着剤を用いて貼合した。
・ポリプロピレン樹脂
三井石油化学工業製LA−221
・基材シート
延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)・押し出し条
件 スクリューL/D=24 シリンダー温度=160℃、180℃。
件 スクリューL/D=24 シリンダー温度=160℃、180℃。
240℃
アダプター温度=260℃
Tダイ温度=280℃
ラミネート厚み215μm
冷却ロール温度=23℃
このホログラム形成シートの所定領域に実験例1と同様
に、1μmの層厚でインキ層を設けた後、このインキ層
及びホログラム形成面に50nmの層厚でアルミニウム
を蒸着したところ、前記インキ層が形成されていない領
域にのみ金属光沢のホログラムパターンを有するホログ
ラム形成シートが得られた。
に、1μmの層厚でインキ層を設けた後、このインキ層
及びホログラム形成面に50nmの層厚でアルミニウム
を蒸着したところ、前記インキ層が形成されていない領
域にのみ金属光沢のホログラムパターンを有するホログ
ラム形成シートが得られた。
以上の実験例から本発明の効果は明らかであった。
本発明によれば、シート、包装袋等において部分的に金
属光沢を有するホログラムパターンを形成することが可
能となり、従って、ホログラムパターンが回折格子のよ
うな単純なものであっても、印刷と組み合わせることに
より種々の異なったパターンを形成することができると
いう効果が奏される。
属光沢を有するホログラムパターンを形成することが可
能となり、従って、ホログラムパターンが回折格子のよ
うな単純なものであっても、印刷と組み合わせることに
より種々の異なったパターンを形成することができると
いう効果が奏される。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を説明するための
ホログラム形成シートの概略断面図、第3図乃至第4図
は本発明の他の実施例を説明するためのホログラム形成
シートの概略断面図、第5図は本発明において対象とな
るホログラム形成面を説明するための押出しラミネータ
の概略図、第6図は本発明におけるホログラム形成の説
明図、第7図は本発明において対象となるホログラム形
成面の他の例を説明するための押出しラミネータの概略
図である。 1.5・・・ホログラム形成シート、2.8・・・ホロ
グラム形成面、3.9・・・インキ層、4.10・・・
金属反射層、6・・・基材シート、20.30・・・押
出しラミネータ、21・・・Tダイ、22・・・溶融樹
脂、23・・・冷却ロール、24・・・ニップロール、
25・・・ワイングー、 26・・・ホログラムレリーフ版、 27・・・アンワイングー
ホログラム形成シートの概略断面図、第3図乃至第4図
は本発明の他の実施例を説明するためのホログラム形成
シートの概略断面図、第5図は本発明において対象とな
るホログラム形成面を説明するための押出しラミネータ
の概略図、第6図は本発明におけるホログラム形成の説
明図、第7図は本発明において対象となるホログラム形
成面の他の例を説明するための押出しラミネータの概略
図である。 1.5・・・ホログラム形成シート、2.8・・・ホロ
グラム形成面、3.9・・・インキ層、4.10・・・
金属反射層、6・・・基材シート、20.30・・・押
出しラミネータ、21・・・Tダイ、22・・・溶融樹
脂、23・・・冷却ロール、24・・・ニップロール、
25・・・ワイングー、 26・・・ホログラムレリーフ版、 27・・・アンワイングー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ホログラム形成面の所定領域にインキ層を設けた後
、前記ホログラム形成面及び前記インキ層に金属反射層
を設けることを特徴とするホログラム形成面の加工方法
。 2、前記ホログラム形成面はTダイから薄膜状に押し出
された溶融樹脂またはTダイから基材シートの片面に薄
膜状に押し出された溶融樹脂を周面にホログラムレリー
フ原版を備えた冷却ロールによって押圧・冷却すること
により成形されることを特徴とする請求項1記載のホロ
グラム形成面の加工方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20469989A JPH0368988A (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | ホログラム形成面の加工方法 |
| US07/562,316 US5200253A (en) | 1989-08-09 | 1990-08-03 | Hologram forming sheet and process for producing the same |
| GB9017320A GB2237774B (en) | 1989-08-09 | 1990-08-07 | Hologram forming sheets and processes for producing the same |
| DE19904025296 DE4025296A1 (de) | 1989-08-09 | 1990-08-09 | Blatt zur erzeugung eines hologramms und verfahren zu dessen herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20469989A JPH0368988A (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | ホログラム形成面の加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0368988A true JPH0368988A (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=16494848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20469989A Pending JPH0368988A (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | ホログラム形成面の加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0368988A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0651683A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-02-25 | Tootsuya:Kk | 部分ホログラムの製造方法 |
| WO2013144565A1 (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | Bae Systems Plc | Improvements in or relating to optical waveguides |
-
1989
- 1989-08-09 JP JP20469989A patent/JPH0368988A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0651683A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-02-25 | Tootsuya:Kk | 部分ホログラムの製造方法 |
| WO2013144565A1 (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | Bae Systems Plc | Improvements in or relating to optical waveguides |
| US9310566B2 (en) | 2012-03-27 | 2016-04-12 | Bae Systems Plc | Optical waveguides |
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