JPH0369097B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0369097B2
JPH0369097B2 JP59031095A JP3109584A JPH0369097B2 JP H0369097 B2 JPH0369097 B2 JP H0369097B2 JP 59031095 A JP59031095 A JP 59031095A JP 3109584 A JP3109584 A JP 3109584A JP H0369097 B2 JPH0369097 B2 JP H0369097B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parts
formula
image
acid groups
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59031095A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60175044A (ja
Inventor
Satoshi Imahashi
Michitoku Kono
Shigeo Takenaka
Shinichi Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP59031095A priority Critical patent/JPS60175044A/ja
Priority to DE19853508820 priority patent/DE3508820A1/de
Publication of JPS60175044A publication Critical patent/JPS60175044A/ja
Publication of JPH0369097B2 publication Critical patent/JPH0369097B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、減力可能なリスフイルム用の感光性
組成物に関する。更に詳しくは、写真製版用途等
において使用されるリスフイルムとして使用で
き、画像複製後の複製画像の網点を小さくして減
力する場合、複製後日時を経て減力しても、減力
速度等の減力性が変らないリスフイルムに利用で
きる感光性組成物に関する。 写真製版工程において、密着返し用リスフイル
ムとして、現在はハロゲン化銀感光材料が使用さ
れているが、銀資源枯渇の背景の下、これを非銀
塩感光材料を利用したもので代用せんとの動きが
盛んである。しかしながら、代用し得るための必
須の機能は、複製された画像の網点を小さくする
ことにより画像のトーンを修正できること(減
力、ドツトエツチ)であるが、この機能を有する
非銀塩感光材料は少ない。これ迄に知られてい
る、かかる減力性を有する非銀塩感光材料として
は特開昭52−62427号公報に、形成された画像が
未硬化の下層部を有することを利用し減力するも
のが記載されている。これは、確かに画像形成直
後では優れた減力性(減力%及び減力速度)を有
している。ところが、この材料は、写真製版工程
での常識的なプロセスである校正刷用刷版焼付に
際し、校正版に密着し裏面より露光を受けると、
当然のことながら未硬化の下層部が硬化し、それ
以後実際に減力が必要となる時点に於て減力する
ことが不可能となつてしまう。この欠点を改良す
るために、本発明者らは、形成画像の画像部に重
合禁止剤を含有させる方法を発明し、先に特許の
出願を行なつた。この発明により、現実の写真製
版プロセスにおいて使用可能な減力性を有する非
銀塩リスフイルムが実現したのであるが、さら
に、現実の写真製版業の実態を見るに、なおこれ
でも不十分な点があることが判つた。現実の写真
製版業においては、校正刷を発注者に見せ、その
希望により複製画像の減力を行なうが、減力を行
なう時期は、校正刷焼付と同じ日の場合もある
し、遅い場合には、半年後の場合もある。従つて
減力性はこの時期に亘つて同じものでなければ現
実的なものとはなり得ないのである。ところが、
上記発明の方法によつても減力性自体は、放置と
共に低下していき、逐には減力不可能になつてし
まう。この現象は、上記した裏露光の有無や重合
禁止剤の有無にかかわらず生じるものであるため
その原因は光反応によるものではないが、とにか
く、かかる減力性の経時変化があるものでは実用
的なものと言えず大きな問題である。 本発明者らは、かかる問題を解決し、真に減力
可能な画像複製材料用の感光性材料を開発せんと
して鋭意努力を重ねた結果、逐に本発明を完成さ
せるに到つた。すなわち本発明は、少なくとも(1)
活性光線吸収剤、(2)分子中にカルボン酸基、スル
ホン酸基またはリン酸基の一種以上の基を有する
重合体状結合剤、(3)下記一般式
【式】又は
【式】 (式中R1、R2は炭素数1〜3のアルキル基、R3
は炭素数1〜6のアルキル基、R4、R5は炭素数
3〜6のアルキル基をあらわす) であらわされるアミン化合物 (4)光開始剤および(5)重合可能な単量体を含み、
厚さ1μあたり活性光線範囲内での吸光度が0.4〜
4.0であることを特徴とする減力処理し得るリス
フイルム用感光性組成物である。 本発明感光性組成物の各々の組成物について以
下に詳述する。 (1) 活性光線吸収剤 後述する光開始剤のほかに、本発明の感光性
組成物の感光波長域の光線即ち活性光線の吸収
に有効な化合物を添加することによつて、リス
フイルムとした場合、画像様の活性光線照射に
対して不透明な画像が形成される。活性光線の
吸収を大きくすることによつて、マスクの透明
部分を通して露光された画像部分は上層部のみ
硬化反応が進み下層は未硬化の状態を保つよう
になる。このように、未硬化の下層部を保持す
ることにより製版用フイルムとしての用途向け
に有利な特性である減力性が保持される。 使用される活性光線吸収剤としては、紫外線
吸収剤、紫外線吸収染料やその他の染料や顔料
などであり、厚さ1μあたり活性光線範囲内で
の吸光度が0.4〜4.0となるように成分や配合量
を適宜選べばよい。これらの例として、カーボ
ンブラツク、酸化チタン、酸化鉄、各種金属や
金属の酸化物、硫化物等の化合物の粉末、ピグ
メントブラツク(C.I.50440)、クロムイエロー
ライト(C.I.77603)、2,2′−ジヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフエノン、2,4−ジヒド
ロキシベゾフエノン、ヒドロキシフエニルベン
ゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−
メトキシフエニル)ベンゾトリアゾール、レゾ
ルシノールモノベンゾエート、エチル−2−シ
アノ−3,3−ジフエニルアクリレート、トル
イジン・イエローGW(C.I.71680)、モリブデン
オレンジ(C.I.77605)、スーダンイエロー(C.
I.30)、オイルオレンジ(C.I.12055)などがあ
る。特に、従来の銀塩と同じ黒色にするにはカ
ーボンブラツクが望ましい。また、着色のない
紫外線吸収剤などを用いる場合は画像部が見え
にくいため染料や顔料を添加する方が良い。無
機・有機顔料や金属や金属の化合物などの場
合、物理的方法か化学的方法によつて微粒子化
する必要がある。 (2) 重合体状結合剤 本発明において使用する有用な重合体状結合
剤は、溶媒可溶で50℃以下では固定状の有機重
合体であつて、かつ分子中にカルボン酸基、ス
ルホン酸基またはリン酸基の1種以上の基を有
する重合体である。かかる酸基は重合体1Kg中
1〜4当量の範囲にあることが好ましく、かか
る重合体を用いることにより、得られる画像複
製材料はアルカリ性水溶液にて現象もしくは減
力することが可能となる。このような重合体の
例を挙げれば、 (a) カルボン酸基を含む重合体 メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合
体,メタクリル酸メチル−メタクリル酸ブチ
ル−アクリル酸共重合体,アクリル酸メチル
−アクリル酸共重合体,酢酸ビニル−メタク
リル酸共重合体,塩化ビニリデン−イタコン
酸共重合体,スチレン−アレイン酸共重合
体、スチレン−マレイン酸モノブチルエステ
ル共重合体,アクリロニトリル−ビニル酢酸
共重合体といつたアクリル酸,メタクリル
酸,イタコン酸,ビニル酢酸,マレイン酸な
どのカルボン酸を含むビニル化合物と他のビ
ニル化合物の共重合や、セルロースアセテー
トフタレート、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースフタレート,ヒドロキシプロピルメ
チルセルロースアセテートサクシネートなど
のセルロース誘導体など。 (b) スルホン酸基を含む重合体 酢酸ビニル−エチレンスルホン酸共重合
体,メタクリル酸メチル−アリルスルホン酸
共重合体,メタクリル酸メチル−スチレンス
ルホン酸、,メタクリル酸メチル−2−スル
ホエチルアクリレート共重合体,アクリル酸
メチル−2−スルホエチルメタクリレート共
重合体,スチレン−2−アクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸共重合体など。 (c) リン酸基を含む重合体 メタクリル酸メチル−2−ヒドロキシエチ
ルアクリロイルホスフエート共重合体、メタ
クリル酸メチル−2−ヒドロキシエチルメタ
クリロイルホスフエート共重合体などがあ
る。 (3) アミン化合物 本発明において有効なアミン化合物は、組成
物のアルカリ現像性や感度、解像力などの写真
性能および減力性の経時変化の防止という本発
明の目的を達成するために、特に下記一般式で
示されるアミン化合物に限定する必要がある。
【式】または
〔バイロン20S(飽和ポリエステル接着剤 東洋紡績製) 50部 コロネートL(日本ポリウレタン工業製) 4部 U−Cat SA−No.102(サンアボツト社製) 0.1部 トルエン 80部 メチルエチルケトン 20部〕
次に、下記組成物を混合分散させた感光性組成
物を調整し、リバースコーターにより下記下引き
層を設けたポリエステルフイルム上にそれぞれコ
ーテイングし、厚さ3μの感光層を被覆した。 〔重合体状結合剤(メタクリル酸メチルとメタク
リル酸との共重合体)(モル比77/23) 39部 2,2′−ビス(2−クロロフエニル)−4,4′,
5,5′−テトラフエニルビイミダゾール 8部 ミヒラーケトン 3部 トリメチロールプロパントリアクリレート 31部 2−メルカプトベンゾチアゾール 1部 カーボンブラツク 18部 メタノール 280部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 40部 表1に示すアミン化合物
重合体状結合剤のカルボン酸と当モル量〕 さらに、このフイルム上に下記の組成からなる
保護層用組成物を同様にコーテイングし、厚さ
1μの保護層を有するリスフイルム生版を作製し
た。 〔ポリビニルアルコール(ケン化度98.5%、重合
度500) 5部 ノイゲンEA−140(第一工業製薬製) 0.2部 メタノール 5部 水 90部〕 得られたリスフイルム正版に、21段ステツプガ
イド(大日本スクリーン社製)と150/in、網
点面積率40%の平網画像を組合わせたテスト用ネ
ガフイルムを重ね、3KW明室プリンター(ORC
社製)を用い、15秒間画像露光を行つた。次に水
洗で保護層を除いた後に、試料に応じ30℃に調節
した0.75%Na2Co3水溶液に所定時間(白ヌケ時
間)浸漬後、水洗下、スポンジで擦りながら現像
し乾燥することにより反転画像を得た。ステツプ
ガイドの5段まで硬化しており、網点はネガをよ
く再現していることが判つた。 次に同様にして作つた複製網点画像を、30℃に
保つたハイドロキノンの5%水溶液に15秒間浸漬
後、水洗、乾燥処理した。 かくして得られた試料につき、下記する如く、
減力性のテストを実施した。 (1) まず、校正版焼付を想定し、試料の裏面より
明室プリンターにより80mJ/cm2の露光を与え
る。同一種の試料につき2枚の同様の処理を施
したものを準備する。内1枚を経時0日の試料
として、直ちに下記(2)の減力操作を施し、他の
1枚を20℃、65%の室内暗所に保存し、14日後
に減力操作を施して経時変化を見た。 (2) 減力液として、リン酸カリウムとリン酸水素
アンモニウムナトリウムの混合水溶液(重量比
で1:1)を準備し、この液に各試料を30秒間
浸して後水切りした。水洗ライトテーブル上
で、スポンジにて擦りを与えて後水洗し、乾燥
した。得られた試料の減力%(減力前の網点面
積率(%)と減力後の網点面積率(%)との差
で示す。)を網点面積計(大日本スクリーン製
DT−10)にて測定する。得られた結果を以下
表1に示す。
【表】
〔表2に示す重合体状結合剤 41.5部 2,2′−ビス(2−クロロ−1−ナフチル)−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾール 8部 ジメドン 3部 7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン 1.5部 ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.05部 トリメチルロールプロパントリアクリレート34部 カーボンブラツク 12部 メタノール 280部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 40部 表2に示すアミン化合物 重合体状結合剤のカルボン酸で当モル量〕
さらに実施例1と同様に保護層をコーテイング
し、得られたリスフイルムについて、減力性のテ
ストを行なつた。ただし露光量はステツプガイド
が5段硬化となるように調節した。得られた結果
を表2にまとめて示す。
【表】
【表】 表2より明らかなように、本発明のアミン化合
物を用いる限り、重合体状結合剤として分子中に
カルボン酸基、スルホン酸基またはリン酸基のう
ちいずれを有していても、得られたリスフイルム
の減力%が維持されていることが判る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 少なくとも(1)活性光線吸収剤、(2)分子中にカ
    ルボン酸基、スルホン酸基またはリン酸基の一種
    以上の基を有する重合体状結合剤、(3)下記一般式 【式】又は【式】 (式中R1、R2は炭素数1〜3のアルキル基、R3
    は炭素数1〜6のアルキル基、R4、R5は炭素数
    3〜6のアルキル基をあらわす) であらわされるアミン化合物、 (4)光開始剤および(5)重合可能な単量体を含み、
    厚さ1μあたり活性光線範囲内での吸光度が0.4〜
    4.0であることを特徴とする減力処理し得るリス
    フイルム用感光性組成物。
JP59031095A 1984-02-20 1984-02-20 リスフィルム用感光性組成物 Granted JPS60175044A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59031095A JPS60175044A (ja) 1984-02-20 1984-02-20 リスフィルム用感光性組成物
DE19853508820 DE3508820A1 (de) 1984-02-20 1985-03-13 Lichtempfindliche zusammensetzung bzw. zubereitung fuer ein bildwiedergabematerial

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59031095A JPS60175044A (ja) 1984-02-20 1984-02-20 リスフィルム用感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60175044A JPS60175044A (ja) 1985-09-09
JPH0369097B2 true JPH0369097B2 (ja) 1991-10-30

Family

ID=12321835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59031095A Granted JPS60175044A (ja) 1984-02-20 1984-02-20 リスフィルム用感光性組成物

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS60175044A (ja)
DE (1) DE3508820A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61174541A (ja) * 1985-01-29 1986-08-06 Toyobo Co Ltd 画像複製材料用感光性組成物
DE3588111T2 (de) * 1985-06-29 1996-10-31 Asahi Chem Res Lab Kunststoffzusammensetzung für Lötschutztinte
JP2639728B2 (ja) * 1989-04-27 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
AU660402B1 (en) * 1994-01-25 1995-06-22 Morton International, Inc. Waterborne photoresists having binders with sulfonic acid functionality
EP1278781A4 (en) * 1999-10-01 2005-01-26 Ballina Pty Ltd RADIOPOLYMERIZABLE COMPOSITIONS
US20120037223A1 (en) * 2009-07-01 2012-02-16 Isao Yamanaka Binder resin for conductive paste, conductive paste, and solar cell element
EP2510399A4 (en) * 2009-12-11 2014-01-22 Fujifilm Corp BLACK CURABLE COMPOSITION, COLORED FILTER, AND LIGHT PROTECTIVE FILM AND METHOD OF MANUFACTURE, LENGTH LENS AND SEMICONDUCTOR IMAGING DEVICE

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5034963A (ja) * 1973-07-27 1975-04-03
JPS54147031A (en) * 1978-05-11 1979-11-16 Toray Industries Photosensitive material
US4361640A (en) * 1981-10-02 1982-11-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photopolymer compositions containing terpolymer binder
JPS5868740A (ja) * 1981-10-21 1983-04-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 耐熱性フイルムホトレジスト積層物

Also Published As

Publication number Publication date
DE3508820A1 (de) 1986-09-18
JPS60175044A (ja) 1985-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4410621A (en) Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
US5939237A (en) Top coats for shoot and run printing plates
US3458311A (en) Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
EP0248424B1 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungselement
DE1572153B2 (de) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US4370403A (en) Photopolymerizable radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive sheet material
US3600166A (en) Lithographic plate and process of making
EP0076565B1 (en) Single exposure positive-working photopolymer element
US4241166A (en) Photopolymerizable composition comprising a monoazo dye as contrast colorant
JPH0132497B2 (ja)
US4225661A (en) Photoreactive coating compositions and photomechanical plates produced therewith
US4740450A (en) Method of making image reproducing material having scratch improvment
JPS60191238A (ja) 画像複製材料およびその製造法
JPS6120939A (ja) 平版印刷版用感光性組成物
JPS60175044A (ja) リスフィルム用感光性組成物
US4539285A (en) Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography
JP3278286B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPS61174541A (ja) 画像複製材料用感光性組成物
JPS6098433A (ja) 画像複製材料
JPS61176921A (ja) 画像複製材料用感光性組成物
EP0194440B1 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungselement
US4699859A (en) Dot-etchable image-containing element useful in lithographic mask formation and its production
JPS6088945A (ja) 画像複製材料用水性処理液
JPS5860737A (ja) 画像複製材料および画像複製方法
JPS63249840A (ja) 画像形成性材料